[發明專利]曝光設備及曝光控制方法

在審

• 申請號: 202211717265.4
• 申請日: 2022-12-30
• 公開（公告）號: CN116047868A
• 公開（公告）日: 2023-05-02
• 發明（設計）人: 肖傳潘;王楚南;王鵬;廖平強;陳超;王珺
• 申請（專利權）人: 杭州欣俊哲科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00;H05K3/00
• 代理公司: 浙江千克知識產權代理有限公司 33246
• 代理人: 周帥

本發明提供一種曝光設備及控制方法，包括第一曝光系統，包括激光組件以及第一對準組件，激光組件與第一對準組件分別安裝于第一安裝結構，并朝向第一曝光區設置；第二曝光系統；包括平行光組件以及第二對準組件，件平行光組件與第二對準組件安裝于第二安裝結構，并朝向第二曝光區設置；運動平臺系統，包括移動平臺組件與安裝臺面組件，移動平臺組件滑動安裝于底座，安裝臺面組件安裝于移動平臺組件，載板設置與安裝臺面組件；通過使得待加工的載板能夠依次通過第一曝光系統與第二曝光系統的曝光作用，從而減少因單次曝光方式而導致的側向侵蝕的現象，從而保證了加工精度。

技術領域

本發明涉及技術領域，特別是涉及一種曝光設備及曝光控制方法。

背景技術

目前印刷電路板曝光行業常會采用兩種設備對基板進行曝光處理，一個為傳統的平行光曝光機，另一種為激光直寫曝光機；激光直寫曝光機在曝光時，不需要掩膜板，直接將預繪制的電子圖檔傳遞至控制系統，控制系統控制光學引擎移動，從而在基板上按照電子圖檔的形狀進行移動曝光，以形成相應的曝光圖形。

激光直寫曝光機在曝光的過程中，由于曝光光源為單一波長的光源或幾個單一波段混合的光源，而基板上的油墨是由多種化合物的構成，油墨能夠吸收反應較大波段范圍內的曝光光源，當油墨接收光學引擎射出的光線時，油墨的曝光反應較慢或反應不充分，特別是油墨中部分組分對這幾種波長的光的敏感度較低，導致內層油墨反應不完全，內層的架橋硬化反應不充分，使得在后續顯影過程中，由于內部的油墨反應不充分，顯影藥水會過多的洗去底部的未反應充分的油墨，產生側蝕的現象，特別是在高精度多層IC載板或者類載板的制作過程中，這種側蝕現象會很大程度地影響載板的精度。

發明內容

針對上述技術問題，本發明提供一種曝光設備，該曝光設備通過設置第一曝光系統件以及第二曝光系統，通過兩個曝光系統的依次曝光處理，減少現有直寫曝光機曝光過程中不可避免的側蝕現象，提高板件的精度，從而對后續的加工精度起到有力的支撐作用。

本發明提供一種曝光設備，用于對載板進行曝光處理，包括：底座，設有第一安裝結構與第二安裝結構，且所述第一安裝結構設有第一曝光區，所述第二安裝結構設有所述第二曝光區；第一曝光系統，包括激光組件以及第一對準組件，所述激光組件與所述第一對準組件分別安裝于所述第一安裝結構，并朝向所述第一曝光區設置；第二曝光系統；包括平行光組件以及第二對準組件，所述件平行光組件與所述第二對準組件安裝于所述第二安裝結構，并朝向所述第二曝光區設置；運動平臺系統，包括移動平臺組件與安裝臺面組件，所述移動平臺組件滑動安裝于所述底座，所述安裝臺面組件安裝于所述移動平臺組件，所述載板設置與所述安裝臺面組件，且所述移動平臺組件能夠帶動所述載板分別移動至所述第一曝光區與所述第二曝光區曝光。

如此設置，通過設置第一曝光系統與第二曝光系統，以能夠使得待加工的載板能夠依次通過第一曝光系統與第二曝光系統的曝光作用，從而減少因單次曝光方式而導致的側向侵蝕的現象，從而保證了加工精度。

在本發明的一個實施方式中，所述激光組件包括調節單元以及多個激光單元，多個所述激光單元安裝于所述調節單元，所述調節單元安裝于所述第一安裝結構，所述調節單元能夠調節所述激光單元的相對位置。

如此設置，通過設置多個激光單元以及調節單元，即能夠加快曝光速度也能夠對激光單元進行調節，從而提高激光單元的曝光精度。

在本發明的一個實施方式中，所述激光單元包括曝光光源以及空間光調制器，所述曝光光源射出的曝光光線通過所述空間光調制器件反射至所述載板表面，并通過所述空間光調制器繪制預設圖形。

如此設置，曝光光源射出曝光光線，并通過空間光調制器對光線進行調節，以能夠在基板上對繪制預設圖形。

在本發明的一個實施方式中，所述平行光組件包括平行光單元以及掩模版，所述掩模版設有與預設圖形一致的圖形缺口，所述掩模版能夠安裝至所述安裝臺面組件，且所述掩膜板及所述安裝臺面組件均垂直于所述平行光單元射出的曝光光線。