[發明專利]曝光設備及曝光控制方法

在審

• 申請號: 202211717265.4
• 申請日: 2022-12-30
• 公開（公告）號: CN116047868A
• 公開（公告）日: 2023-05-02
• 發明（設計）人: 肖傳潘;王楚南;王鵬;廖平強;陳超;王珺
• 申請（專利權）人: 杭州欣俊哲科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00;H05K3/00
• 代理公司: 浙江千克知識產權代理有限公司 33246
• 代理人: 周帥

1.一種曝光設備，用于對載板（200）進行曝光處理，其特征在于，包括：

底座（10），設有第一安裝結構（11）與第二安裝結構（12），且所述第一安裝結構（11）設有第一曝光區（111），所述第二安裝結構（12）設有第二曝光區（121）；

第一曝光系統（20），包括激光組件（21）以及第一對準組件（22），所述激光組件（21）與所述第一對準組件（22）分別安裝于所述第一安裝結構（11），并朝向所述第一曝光區（111）設置；

第二曝光系統（30），包括平行光組件（31）以及第二對準組件（32），所述件平行光組件（31）與所述第二對準組件（32）安裝于所述第二安裝結構（12），并朝向所述第二曝光區（121）設置；

運動平臺系統（40），包括移動平臺組件（41）與安裝臺面組件（42），所述移動平臺組件（41）滑動安裝于所述底座（10），所述安裝臺面組件（42）安裝于所述移動平臺組件（41），所述載板（200）設置于所述安裝臺面組件（42），且所述移動平臺組件（41）能夠帶動所述載板（200）分別移動至所述第一曝光區（111）與所述第二曝光區（121）曝光。

2.如權利要求1所述的曝光設備，其特征在于，所述激光組件（21）包括調節單元（211）以及多個激光單元（212），多個所述激光單元（212）安裝于所述調節單元（211），所述調節單元（211）安裝于所述第一安裝結構（11），所述調節單元（211）能夠調節所述激光單元（212）的相對位置。

3.如權利要求2所述的曝光設備，其特征在于，所述激光單元（212）包括激光光源（2121）以及可見光調制器（2122），所述激光光源（2121）射出的曝光光線通過所述可見光調制器（2122）反射至所述載板（200）表面，并通過所述可見光調制器（2122）繪制預設圖形。

4.如權利要求1所述的曝光設備，其特征在于，所述平行光組件（31）包括平行光單元（311）以及掩模版（312），所述掩模版（312）設有與預設圖形一致的圖形缺口，且所述圖形缺口的線寬小于或等于所述激光組件（21）射出的曝光光線線寬，所述掩模版（312）能夠安裝至所述安裝臺面組件（42），且所述掩膜板及所述安裝臺面組件（42）均垂直于所述平行光單元（311）射出的曝光光線。

5.如權利要求4所述的曝光設備，其特征在于，所述平行光單元（311）包括平行光光源（3111）以及光學調整件（3112），所述平行光光源（3111）安裝于所述第二安裝結構（12），所述光學調整件（3112）安裝于所述平行光光源（3111）的光路上，用于調整所述平行光光源（3111）射出的光線。

6.如權利要求1所述的曝光設備，其特征在于，所述第一對準組件（22）包括第一驅動單元（221）及第一對準單元（222），所述第一對準單元（222）安裝于所述第一驅動單元（221），所述第一驅動單元（221）安裝于所述第一安裝結構（11），并能夠帶所述第一對準單元（222）移動；及，

所述第二對準組件（32）包括第二驅動單元及第二對準單元，所述第二對準單元安裝于所述第二驅動單元，所述第二驅動單元安裝于所述第二安裝結構（12），并能夠帶所述第二對準單元移動。

7.如權利要求1所述的曝光設備，其特征在于，所述移動平臺組件（41）包括導軌（412）以及平臺單元（411），所述導軌（412）沿所述底座（10）的長度方向布設，所述平臺單元（411）安裝于所述導軌（412），并能夠沿所述導軌（412）的布設方向滑動。

8.如權利要求7所述的曝光設備，其特征在于，所述安裝臺面組件（42）包括吸附臺面以及真空泵，所述吸附臺面固定安裝于所述平臺單元（411），所述吸附臺面開設有多個吸附孔，每個所述吸附孔均與所述真空泵相連通。