[發(fā)明專利]一種用于半導(dǎo)體基片反應(yīng)室的微弧氧化處理裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202211603385.1 | 申請(qǐng)日: | 2022-12-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN115852455A | 公開(公告)日: | 2023-03-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王乃奎 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 無錫納斯凱半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C25D11/32 | 分類號(hào): | C25D11/32 |
| 代理公司: | 無錫蘇元專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32471 | 代理人: | 吳忠義 |
| 地址: | 214000 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 半導(dǎo)體 反應(yīng) 氧化 處理 裝置 | ||
本發(fā)明公開了一種用于半導(dǎo)體基片反應(yīng)室的微弧氧化處理裝置,涉及到氧化處理設(shè)備領(lǐng)域,包括進(jìn)料倉,進(jìn)料倉的頂端開設(shè)有方口,進(jìn)料倉的內(nèi)部固定連接有固定斜板,進(jìn)料倉的內(nèi)部設(shè)置有轉(zhuǎn)動(dòng)組件,轉(zhuǎn)動(dòng)組件包括弧形板,弧形板設(shè)置有多個(gè),弧形板轉(zhuǎn)動(dòng)連接在進(jìn)料倉的內(nèi)部。本發(fā)明設(shè)置了轉(zhuǎn)動(dòng)組件,利用轉(zhuǎn)動(dòng)組件的設(shè)計(jì),弧形板與第一轉(zhuǎn)動(dòng)軸,在第一電機(jī)的作用下,帶動(dòng)第一轉(zhuǎn)動(dòng)軸進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng),在弧形板的帶動(dòng)下,有助于半導(dǎo)體基片單個(gè)有序的進(jìn)行移動(dòng),便于半導(dǎo)體基片通過進(jìn)料倉移動(dòng)至移動(dòng)板的頂部,當(dāng)移動(dòng)板的頂部盛放夠半導(dǎo)體基片后,第一電機(jī)停止轉(zhuǎn)動(dòng),而限位弧片限制住齒輪進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng),避免半導(dǎo)體基片在進(jìn)行運(yùn)輸時(shí),發(fā)生碰撞的情況。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及氧化處理設(shè)備領(lǐng)域,特別涉及一種用于半導(dǎo)體基片反應(yīng)室的微弧氧化處理裝置。
背景技術(shù)
半導(dǎo)體基片工件進(jìn)行加工作業(yè)時(shí),為了滿足對(duì)半導(dǎo)體基片工件表面性能進(jìn)行調(diào)整的需要,尤其是半導(dǎo)體基片工件外表面的物理化學(xué)性能,以滿足不同使用場合和要求的需要,往往需要對(duì)半導(dǎo)體基片工件外表面通過微弧氧化方式進(jìn)行表面處理,但在實(shí)際對(duì)工件加工中,往往需要對(duì)工件表面局部位置進(jìn)行微弧氧化處理,而當(dāng)前的半導(dǎo)體基片工件采用鋼管進(jìn)行保護(hù)運(yùn)輸,在對(duì)半導(dǎo)體基片工件進(jìn)行微弧氧化處理時(shí),所使用的設(shè)備往往均為傳統(tǒng)的氧化處理設(shè)備,雖然一定程度可滿足使用的需要,但在進(jìn)行微弧氧化處理時(shí),設(shè)備往往缺乏相應(yīng)的針對(duì)性。
現(xiàn)有的一些微弧氧化處理裝置在進(jìn)料時(shí),由于設(shè)置在半導(dǎo)體工件外部的鋼管易受力進(jìn)行滾動(dòng),使兩兩鋼管之間或者多個(gè)鋼管之間發(fā)生碰撞,造成運(yùn)輸?shù)倪^程中十分困難,而運(yùn)輸后一般是直接將鋼管放置于藥劑槽的內(nèi)部進(jìn)行靜置處理,對(duì)半導(dǎo)體工件的外表面進(jìn)行處理,在放料以及取料時(shí)較為麻煩,且直接放置于藥劑槽的內(nèi)部,不能夠保證鋼管的有序擺放,可能發(fā)生鋼管之間互相抵觸影響處理的情況,且在后續(xù)卸料時(shí),也不能夠很好的對(duì)鋼管進(jìn)行有序卸料,操作較為繁瑣。
因此,發(fā)明一種用于半導(dǎo)體基片反應(yīng)室的微弧氧化處理裝置來解決上述問題很有必要。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種用于半導(dǎo)體基片反應(yīng)室的微弧氧化處理裝置,以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:一種用于半導(dǎo)體基片反應(yīng)室的微弧氧化處理裝置,包括進(jìn)料倉,所述進(jìn)料倉的頂端開設(shè)有方口,所述進(jìn)料倉的內(nèi)部固定連接有固定斜板;
所述進(jìn)料倉的內(nèi)部設(shè)置有轉(zhuǎn)動(dòng)組件,所述轉(zhuǎn)動(dòng)組件包括弧形板,所述弧形板設(shè)置有多個(gè),所述弧形板轉(zhuǎn)動(dòng)連接在進(jìn)料倉的內(nèi)部;
所述進(jìn)料倉的外部設(shè)置有驅(qū)動(dòng)組件;
所述進(jìn)料倉的底端固定連接有支撐板,所述支撐板的頂端設(shè)置有移動(dòng)組件;
所述進(jìn)料倉的一側(cè)設(shè)置有懸掛組件。
優(yōu)選的,所述驅(qū)動(dòng)組件包括第一固定座,所述第一固定座固定連接在進(jìn)料倉的外部,所述第一固定座的頂端固定連接有第一電機(jī),所述第一電機(jī)靠近進(jìn)料倉的一側(cè)轉(zhuǎn)動(dòng)連接有第一轉(zhuǎn)動(dòng)軸,所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)軸的外部固定連接有齒輪,所述進(jìn)料倉的外部固定連接有固定架,所述固定架的內(nèi)部轉(zhuǎn)動(dòng)連接有轉(zhuǎn)動(dòng)柱,所述轉(zhuǎn)動(dòng)柱靠近進(jìn)料倉的一側(cè)固定連接有限位弧塊。
優(yōu)選的,所述移動(dòng)組件包括第二電機(jī),所述第二電機(jī)固定連接在支撐板的頂端,所述第二電機(jī)靠近進(jìn)料倉的一側(cè)轉(zhuǎn)動(dòng)連接有第二轉(zhuǎn)動(dòng)軸,所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)軸的外部螺紋連接有移動(dòng)環(huán),所述移動(dòng)環(huán)的外部固定連接有連接塊,所述連接塊的頂端固定連接有移動(dòng)板,所述支撐板的頂端固定連接有兩個(gè)固定導(dǎo)軌,所述第二電機(jī)位于兩個(gè)固定導(dǎo)軌之間,所述移動(dòng)板滑動(dòng)連接在固定導(dǎo)軌的頂端,所述固定導(dǎo)軌的內(nèi)部滑動(dòng)連接有緩沖板,所述緩沖板遠(yuǎn)離進(jìn)料倉的一側(cè)固定連接有移動(dòng)柱,所述移動(dòng)柱遠(yuǎn)離緩沖板的一側(cè)滑動(dòng)連接有固定柱。
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