[發明專利]粒子圖像的處理方法、裝置、設備、存儲介質在審
| 申請號: | 202211529838.0 | 申請日: | 2022-11-30 |
| 公開(公告)號: | CN116048347A | 公開(公告)日: | 2023-05-02 |
| 發明(設計)人: | 孫廷省 | 申請(專利權)人: | 北京立方天地科技發展有限責任公司 |
| 主分類號: | G06F3/04842 | 分類號: | G06F3/04842;G06F3/0481 |
| 代理公司: | 北京派特恩知識產權代理有限公司 11270 | 代理人: | 董亞莉;張穎玲 |
| 地址: | 100083 北京市海*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 粒子 圖像 處理 方法 裝置 設備 存儲 介質 | ||
本公開實施例公開了一種粒子圖像的處理方法、裝置、設備、存儲介質,其中,該方法包括:顯示包括第一配置區域和第二配置區域的第一配置界面,第一配置區域用于配置待處理的粒子圖像集,第二配置區域用于配置對粒子圖像集進行分析處理的處理參數;響應于在第一配置區域進行的圖像配置操作,獲取配置的目標粒子圖像集;響應于在第二配置區域進行的參數配置操作,獲取配置的目標處理參數;基于目標粒子圖像集、目標處理參數中用于對目標粒子圖像集進行分析處理的至少一個功能模塊和每一功能模塊對應的功能參數,向服務器發送處理請求,并獲取服務器基于至少一個功能模塊和每一功能模塊對應的功能參數對目標粒子圖像集進行分析處理得到的處理結果。
技術領域
本公開涉及但不限于粒子圖像測速技術領域,尤其涉及一種粒子圖像的處理方法、裝置、設備、存儲介質。
背景技術
粒子圖像測速(Particle?Image?Velocimetry,PIV)技術是一種瞬態、多點、無接觸式的流體力學測速方法。在粒子圖像測速技術中,可以通過對粒子圖像進行處理,實現二維和/或三維的流體速度分布分析。相關技術中,可以在計算機設備本地部署用于進行PIV相關的分析處理的桌面應用程序,該桌面應用程序可以響應于用戶在該桌面應用程序中進行的交互操作,在本地對粒子圖像進行PIV相關的分析處理,得到相應的處理結果。但是,由于PIV相關的分析處理通常計算量都較大,且所需的存儲空間也較大,從而對本地的計算機設備的硬件配置要求較高。因而相關技術中對粒子圖像進行處理的方案應用場景較為局限,不能很好地滿足用戶的需求。
發明內容
有鑒于此,本公開實施例提供一種粒子圖像的處理方法、裝置、設備、存儲介質。
本公開實施例的技術方案是這樣實現的:
一方面,本公開實施例提供一種粒子圖像的處理方法,所述方法包括:
顯示第一配置界面,所述第一配置界面中包括第一配置區域和第二配置區域,所述第一配置區域用于配置待處理的粒子圖像集,所述第二配置區域用于配置對粒子圖像集進行分析處理的處理參數;
響應于在所述第一配置區域進行的圖像配置操作,獲取配置的目標粒子圖像集;
響應于在所述第二配置區域進行的參數配置操作,獲取配置的目標處理參數;所述目標處理參數包括用于對所述目標粒子圖像集進行分析處理的至少一個功能模塊以及每一所述功能模塊對應的功能參數;
基于所述目標粒子圖像集、所述至少一個功能模塊和每一所述功能模塊對應的功能參數,向服務器發送處理請求,并獲取所述服務器基于所述至少一個功能模塊和每一所述功能模塊對應的功能參數對所述目標粒子圖像集進行分析處理得到的處理結果。
另一方面,本公開實施例提供一種粒子圖像的處理裝置,所述裝置包括:
第一顯示模塊,用于顯示第一配置界面,所述第一配置界面中包括第一配置區域和第二配置區域,所述第一配置區域用于配置待處理的粒子圖像集,所述第二配置區域用于配置對粒子圖像集進行分析處理的處理參數;
第一獲取模塊,用于響應于在所述第一配置區域進行的圖像配置操作,獲取配置的目標粒子圖像集;
第二獲取模塊,用于響應于在所述第二配置區域進行的參數配置操作,獲取配置的目標處理參數;所述目標處理參數包括用于對所述目標粒子圖像集進行分析處理的至少一個功能模塊以及每一所述功能模塊對應的功能參數;
發送模塊,用于基于所述目標粒子圖像集、所述至少一個功能模塊和每一所述功能模塊對應的功能參數,向服務器發送處理請求;
第三獲取模塊,用于獲取所述服務器基于所述至少一個功能模塊和每一所述功能模塊對應的功能參數對所述目標粒子圖像集進行分析處理得到的處理結果。
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