[發明專利]粒子圖像的處理方法、裝置、設備、存儲介質

在審

• 申請號: 202211529838.0
• 申請日: 2022-11-30
• 公開（公告）號: CN116048347A
• 公開（公告）日: 2023-05-02
• 發明（設計）人: 孫廷省
• 申請（專利權）人: 北京立方天地科技發展有限責任公司
• 主分類號: G06F3/04842
• 分類號: G06F3/04842;G06F3/0481
• 代理公司: 北京派特恩知識產權代理有限公司 11270
• 代理人: 董亞莉;張穎玲

1.一種粒子圖像的處理方法，其特征在于，應用于客戶端，所述方法包括：

顯示第一配置界面，所述第一配置界面中包括第一配置區域和第二配置區域，所述第一配置區域用于配置待處理的粒子圖像集，所述第二配置區域用于配置對粒子圖像集進行分析處理的處理參數；

響應于在所述第一配置區域進行的圖像配置操作，獲取配置的目標粒子圖像集；

響應于在所述第二配置區域進行的參數配置操作，獲取配置的目標處理參數；所述目標處理參數包括用于對所述目標粒子圖像集進行分析處理的至少一個功能模塊以及每一所述功能模塊對應的功能參數；

基于所述目標粒子圖像集、所述至少一個功能模塊和每一所述功能模塊對應的功能參數，向服務器發送處理請求，并獲取所述服務器基于所述至少一個功能模塊和每一所述功能模塊對應的功能參數對所述目標粒子圖像集進行分析處理得到的處理結果。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二配置區域包括類型配置區域和功能配置區域；所述響應于在所述第二配置區域進行的參數配置操作，獲取配置的目標處理參數，包括：

響應于在所述類型配置區域對目標粒子圖像集對應的分析類型進行配置的操作，獲取配置的目標分析類型；其中，所述目標分析類型包括以下之一：二維粒子分析、平面三維粒子分析、體三維粒子分析；

獲取與所述目標分析類型匹配的至少一個候選功能模塊；

在所述功能配置區域中顯示每一所述候選功能模塊對應的參數配置控件；

響應于利用至少一個所述參數配置控件進行的參數配置操作，獲取所述目標處理參數。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述獲取與所述目標分析類型匹配的至少一個候選功能模塊，包括以下至少之一：

在所述目標分析類型為二維粒子分析的情況下，確定所述至少一個候選功能模塊包括以下至少之一：圖像預處理模塊、二維標定校準模塊、二維顆粒分析模塊、二維粒子圖像測速模塊、二維粒子追蹤測速模塊、顆粒濃度分析模塊、標量場分析模塊；

在所述目標分析類型為體三維粒子分析的情況下，確定所述至少一個候選功能模塊包括以下至少之一：圖像預處理模塊、三維標定校準模塊、三維粒子場重構模塊、三維粒子圖像測速模塊、三維粒子追蹤測速模塊；

在所述目標分析類型為平面三維粒子分析的情況下，確定所述至少一個候選功能模塊包括以下至少之一：圖像預處理模塊、圖像校正模塊、二維標定校準模塊、三維標定校準模塊、二維顆粒分析模塊、二維粒子圖像測速模塊、二維粒子追蹤測速模塊。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述顯示第一配置界面，包括：

獲取當前登錄的用戶的權限類型；

基于所述權限類型，顯示所述第一配置區域和所述第二配置區域。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述基于所述權限類型，顯示所述第一配置區域和所述第二配置區域，包括：

基于所述權限類型，確定所述用戶當前可使用的目標功能模塊集；

在所述目標功能模塊集不為空的情況下，在所述第二配置區域中以可操作的方式顯示所述目標功能模塊集中每一功能模塊對應的參數配置控件，和/或，在所述第一配置區域中以可操作的方式顯示圖像配置控件。

6.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述基于所述權限類型，顯示所述第一配置區域和所述第二配置區域，包括：

基于所述權限類型，確定所述用戶當前可配置的粒子圖像的第一數量；

在所述第一數量大于0的情況下，在所述第二配置區域中以可操作的方式顯示至少一個所述功能模塊對應的參數配置控件，和/或，在所述第一配置區域中以可操作的方式顯示圖像配置控件。

7.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

顯示用戶注冊界面；

響應于在所述用戶注冊界面進行的注冊操作，獲取用戶配置的注冊信息；

基于所述注冊信息創建新用戶；

在所述注冊信息中包括注冊碼的情況下，為所述新用戶設置與所述注冊碼匹配的權限類型。