[發明專利]氧化爐層高精度測量方法

在審

• 申請號: 202211461333.5
• 申請日: 2022-11-21
• 公開（公告）號: CN115790544A
• 公開（公告）日: 2023-03-14
• 發明（設計）人: 王潔;王鎮浩;鄒相輝;劉洋
• 申請（專利權）人: 上海外高橋造船有限公司
• 主分類號: G01C15/00
• 分類號: G01C15/00
• 代理公司: 上海弼興律師事務所 31283
• 代理人: 羅洋;李伶俐

1.一種氧化爐層高精度測量方法，其特征在于：包括如下步驟：

S1、將激光水平儀的水平激光線發射至任意一個測量層的一條基準線上、或者氧化爐頂面或氧化爐底面位置，調整所述氧化爐，使所述水平激光線與該位置處于同一水平面上；

S2、利用卷尺以所述水平激光線為水平基準線，測量若干個所述測量層的層高；

S3、測量所述水平基準線到所述氧化爐頂面及所述氧化爐底面的高度。

2.如權利要求1所述的氧化爐層高精度測量方法，其特征在于：所述步驟S1包括如下步驟：

S11、將所述激光水平儀安裝在可調支撐架上，所述激光水平儀與所述測量層相對架設，將所述激光水平儀校準至規定范圍內，使所述激光水平儀能夠發出所述水平激光線；

S12、將所述可調支撐架固定在所述氧化爐中；

S13、調節所述可調支撐架，使所述水平激光線能夠調節至所述氧化爐的任意所述測量層的任意所述基準線高度及所述氧化爐頂面和所述氧化爐底面高度。

3.如權利要求2所述的氧化爐層高精度測量方法，其特征在于：在所述步驟S3之后還包括如下步驟：

S4、調節所述可調支撐架，使所述水平激光線平行調整至所述氧化爐頂面，若所述氧化爐頂面與所述水平激光線不完全在同一水平面上，說明所述氧化爐頂面有平整度誤差，且相對于所述水平基準線不平行；

和/或、調節所述可調支撐架，使所述水平激光線平行調整至所述氧化爐底面，若所述氧化爐底面與所述水平激光線不完全在同一水平面上，說明所述氧化爐底面有平整度誤差，且相對于所述水平基準線不平行。

4.如權利要求1所述的氧化爐層高精度測量方法，其特征在于：所述步驟S2包括如下步驟：

S21、多次測量所述測量層的層高；

S22、取所述測量層的多個層高數據平均值作為實際層高。

5.如權利要求4所述的氧化爐層高精度測量方法，其特征在于：所述步驟S21具體為：

水平移動所述激光水平儀，形成若干所述水平基準線，在若干所述水平基準線上各選取若干個基準點，利用所述卷尺以所述基準點為基準，測量若干所述水平基準線上方若干個所述測量層的若干個所述層高；

測量所述水平基準線下方若干個所述測量層的若干個所述層高。

6.如權利要求1所述的氧化爐層高精度測量方法，其特征在于：所述步驟S3包括如下步驟：

S31、多次測量所述水平基準線到所述氧化爐頂面及所述氧化爐底面的高度。

7.如權利要求6所述的氧化爐層高精度測量方法，其特征在于：所述步驟S31具體為：

水平移動所述激光水平儀，形成若干所述水平基準線，在若干所述水平基準線上各選取若干個基準點，利用所述卷尺以所述基準點為基準，測量若干所述水平基準線到所述氧化爐頂面的若干個所述高度；

測量若干所述水平基準線到所述氧化爐底面的若干個所述高度。

8.如權利要求1所述的氧化爐層高精度測量方法，其特征在于：在所述步驟S1中，將所述激光水平儀調整至所述氧化爐的中心基準線的高度，使所述水平激光線發射到所述中心基準線上，調整所述氧化爐，使所述水平激光線與所述中心基準線處于同一平面上。

9.如權利要求1所述的氧化爐層高精度測量方法，其特征在于：在所述步驟S1中，將所述水平激光線發射至所述氧化爐底面上，使所述水平激光線貼合所述氧化爐底面，并保持所述水平激光線在該位置保持不動；

若所述氧化爐底面與所述水平激光線不完全在同一水平面上，說明所述氧化爐底面有平整度誤差并調整；

水平移動所述激光水平儀，使所述水平激光線沿所述氧化爐底面水平移動，所述氧化爐底面與所述水平激光線不完全在同一水平面上的各個位置有平整度誤差并調整。