[發(fā)明專利]層疊光學(xué)膜、光學(xué)膜的缺陷檢查方法及層疊光學(xué)膜的制法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202211437789.8 | 申請日： | 2016-03-14 |
| 公開（公告）號： | CN115728308A | 公開（公告）日： | 2023-03-03 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 井村圭太;富永俊彥 | 申請（專利權(quán)）人： | 住友化學(xué)株式會社 |
| 主分類號： | G01N21/88 | 分類號： | G01N21/88;G01N21/84 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人： | 劉文海 |
| 地址： | 日本國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 層疊 光學(xué) 缺陷 檢查 方法 制法 | ||
1.一種層疊光學(xué)膜的缺陷檢查方法，其是向光學(xué)膜貼合保護膜以及粘合件中的至少一方而得到層疊光學(xué)膜、并對所述層疊光學(xué)膜中的缺陷進行檢查的方法，
所述層疊光學(xué)膜的缺陷檢查方法的特征在于，包括：
進行所述光學(xué)膜的缺陷檢查的第一檢查工序；
向所述光學(xué)膜貼合所述保護膜以及所述粘合件中的至少一方而生成所述層疊光學(xué)膜的工序；
對在所述第一檢查工序中檢測出的缺陷信息進行記錄的記錄工序；
進行所述層疊光學(xué)膜的缺陷檢查的第二檢查工序；以及
與在所述第一檢查工序中檢測出的缺陷以及在所述第二檢查工序中檢測出的缺陷對應(yīng)而對所述層疊光學(xué)膜進行標記的標記工序，
在所述第二檢查工序中，讀取在所述記錄工序中所記錄的所述缺陷信息，不檢測與該缺陷信息對應(yīng)的缺陷。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的層疊光學(xué)膜的缺陷檢查方法，其中，
所述第一檢查工序中的缺陷檢查方法與所述第二檢查工序中的缺陷檢查方法相同。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的層疊光學(xué)膜的缺陷檢查方法，其中，
所述第一檢查工序中的缺陷檢查方法與所述第二檢查工序中的缺陷檢查方法不同。
4.一種光學(xué)膜的缺陷檢查方法，其是檢查光學(xué)膜的缺陷的方法，
所述光學(xué)膜的缺陷檢查方法的特征在于，包括：
進行所述光學(xué)膜的缺陷檢查的第一檢查工序；
對在所述第一檢查工序中檢測出的缺陷信息進行記錄的記錄工序；
對所述光學(xué)膜進行與所述第一檢查工序中的缺陷檢查不同的缺陷檢查的第二檢查工序；以及
與在所述第一檢查工序中檢測出的缺陷以及在所述第二檢查工序中檢測出的缺陷對應(yīng)而對所述光學(xué)膜進行標記的標記工序，
在所述第二檢查工序中，讀取在所述記錄工序中所記錄的所述缺陷信息，不檢測與該缺陷信息對應(yīng)的缺陷。
5.一種層疊光學(xué)膜的制造方法，其是向光學(xué)膜貼合保護膜以及粘合件中的至少一方而制造層疊光學(xué)膜的方法，
所述層疊光學(xué)膜的制造方法的特征在于，
所述層疊光學(xué)膜的制造方法包括權(quán)利要求1至3中任一項所述的層疊光學(xué)膜的缺陷檢查方法。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段，即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā)，因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng)，測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
