[發(fā)明專利]一種TFE遮罩免清洗結(jié)構(gòu)及工藝方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202211383809.8
• 申請(qǐng)日: 2022-11-07
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN115747753A
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-03-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 溫質(zhì)康;莊丹丹;喬小平
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 福建華佳彩有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C16/04
• 分類(lèi)號(hào): C23C16/04;C23C16/30;C23C16/34;C23C16/40;C23C16/44;C23C16/50
• 代理公司: 福州市京華專利代理事務(wù)所(普通合伙) 35212
• 代理人: 林云嬌

1.一種TFE遮罩免清洗結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括：

界面保護(hù)層，形成于所述TFE遮罩上方，用于保護(hù)TFE遮罩表面的平整性，防止后續(xù)制程對(duì)TFE遮罩表面的腐蝕和破壞而引起精度偏差；

剝離層，形成于所述界面保護(hù)層上方，所述剝離層耐高溫且化學(xué)性能穩(wěn)定，用于隔絕絕緣，且在激光照射下或在蝕刻液作用下可剝離。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的TFE遮罩免清洗結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述界面保護(hù)層包括SiNx層、SiO₂層以及SiNx與SiO₂的疊層。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的TFE遮罩免清洗結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述界面保護(hù)層的厚度范圍為2～6um。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的TFE遮罩免清洗結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述剝離層包括PI層以及PEN層。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的TFE遮罩免清洗結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述剝離層的厚度范圍為2～6um。

6.一種TFE遮罩免清洗工藝方法，應(yīng)用于如權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的TFE遮罩免清洗結(jié)構(gòu)，所述方法包括：

首先在TFE遮罩上形成一層界面保護(hù)層，然后再在TFE遮罩上印刷一層剝離層；

當(dāng)TFE遮罩積累了一定厚度的薄膜時(shí)，人工拆卸TFE遮罩，把拆卸后的遮罩放入激光剝離機(jī)下進(jìn)行激光剝離，經(jīng)過(guò)剝離工藝之后，剝離層被碳化，采用酒精清理遮擋板表面，然后在TFE遮罩上再次印刷一層剝離層，固化后重復(fù)上機(jī)使用。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的TFE遮罩免清洗工藝方法，其特征在于：所述界面保護(hù)層通過(guò)化學(xué)氣相沉積形成；所述剝離層通過(guò)絲網(wǎng)印刷、涂布機(jī)、或者噴墨打印印刷形成；激光能量功率為1～10W；酒精為純度98％的酒精。

8.一種TFE遮罩免清洗工藝方法，應(yīng)用于如權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的TFE遮罩免清洗結(jié)構(gòu)，所述方法包括：

首先在TFE遮罩上沉積一層界面保護(hù)層，然后再在TFE遮罩上印刷一層剝離層；

當(dāng)TFE遮罩積累了一定厚度的薄膜時(shí)，人工拆卸TFE遮罩，把拆卸后的遮罩傳入蝕刻槽，采用酸性蝕刻液進(jìn)行浸泡，剝離層在酸性溶液中溶解使得表面積累的無(wú)機(jī)薄膜整塊脫落，從而達(dá)到免清洗；然后在TFE遮罩上再次印刷一層剝離層，固化后重復(fù)上機(jī)使用。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的TFE遮罩免清洗工藝方法，其特征在于：所述界面保護(hù)層通過(guò)化學(xué)氣相沉積形成；所述剝離層通過(guò)絲網(wǎng)印刷、涂布機(jī)、或者噴墨打印印刷形成；所述酸性蝕刻液包括硝酸、醋酸和草酸。