[發(fā)明專利]水平檢測裝置及水平檢測方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202211367999.4 | 申請日： | 2022-11-03 |
| 公開（公告）號： | CN115435752A | 公開（公告）日： | 2022-12-06 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 李昊;劉永亮 | 申請（專利權(quán)）人： | 西安奕斯偉材料科技有限公司;西安奕斯偉硅片技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | G01C9/00 | 分類號： | G01C9/00;G01C9/02;H01L21/67;H01L21/66 |
| 代理公司： | 西安維英格知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 61253 | 代理人： | 宋東陽;姚勇政 |
| 地址： | 710065 陜西省西安市*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 水平 檢測 裝置 方法 | ||
1.一種水平檢測裝置，其用于檢測在硅片處于半導(dǎo)體處理腔室中時所述硅片的表面的水平度，其特征在于，包括：電子陀螺儀；以及承載件，其固定地承載所述電子陀螺儀并在檢測時置于所述硅片的所述表面上，
其中，承載有所述電子陀螺儀的所述承載件在豎向方向上的尺寸構(gòu)造成使得所述水平檢測裝置在檢測時與所述半導(dǎo)體處理腔室不發(fā)生干涉。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水平檢測裝置，其特征在于，所述承載件由碳化硅或二氧化硅制成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的水平檢測裝置，其特征在于，所述承載件的用于承載所述電子陀螺儀的上表面和用于置于所述硅片的所述表面上的下表面均為水平平面。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的水平檢測裝置，其特征在于，所述電子陀螺儀包括多個電子陀螺儀。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的水平檢測裝置，其特征在于，所述承載件具有與所述硅片相同的形狀和尺寸。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的水平檢測裝置，其特征在于，所述電子陀螺儀包括四個電子陀螺儀，其中，所述四個電子陀螺儀沿所述承載件的周向方向均勻地固定于所述承載件。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的水平檢測裝置，其特征在于，所述承載件呈正三角形形狀，并且所述電子陀螺儀包括三個電子陀螺儀，其中，所述承載件的所述正三角形形狀的每個角部均固定地承載有一個電子陀螺儀。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的水平檢測裝置，其特征在于，所述電子陀螺儀固定在所述承載件的上表面上或者以嵌入方式固定在所述承載件中。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的水平檢測裝置，其特征在于，還包括顯示裝置，其配置成與所述電子陀螺儀通信以實時顯示檢測到的所述水平度。
10.一種水平檢測方法，其用于檢測在硅片處于半導(dǎo)體處理腔室中時所述硅片的表面的水平度，其特征在于，所述水平檢測方法利用根據(jù)權(quán)利要求1至9中的任一項所述的水平檢測裝置來進行。
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