[發明專利]一種超低損耗單模光纖在審
| 申請號: | 202211338302.0 | 申請日: | 2022-10-28 |
| 公開(公告)號: | CN115542454A | 公開(公告)日: | 2022-12-30 |
| 發明(設計)人: | 周航;王瑞春;顧立新;朱繼紅;周新艷;吳俊;胡超;邱文斌 | 申請(專利權)人: | 長飛光纖光纜股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B6/02 | 分類號: | G02B6/02;G02B6/028;G02B6/036 |
| 代理公司: | 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 42102 | 代理人: | 胡建平 |
| 地址: | 430073 湖北省*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 損耗 單模 光纖 | ||
本發明涉及一種超低損耗單模光纖,包括有芯層和包層,所述的包層由內向外依次為內包層,下陷包層,輔助外包層和外包層,其特征在于所述的芯層包括有內芯層和外芯層,所述的內芯層半徑R1為1~3μm,相對折射率差△n1為?0.10%~0.22%,所述的外芯層半徑R2為4~6μm,相對折射率差△n2為?0.20%~0.13%,且△n1△n2,所述的內包層半徑R3為7~12μm,相對折射率差Δn3為?0.20%~?0.35%,所述的下陷包層半徑R4為13~16μm,相對折射率差Δn4為?0.40%~?0.60%,所述的輔助外包層半徑R5為38~47μm,相對折射率差△n5為?0.30%~?0.39%,所述的外包層為純二氧化硅玻璃層。本發明通過摻雜濃度的漸變,減少突變應力,有利于在界面進行粘度的合理過渡,減少光纖應力,提升光纖性能,進一步降低衰減。
技術領域
本發明涉及一種超低損耗單模光纖,屬于光通信技術領域。
背景技術
隨著全球范圍內5G建設的迅猛開展,光通信網絡向長距離,大容量,大速率方向發展。通信網絡向著下一代系統邁進,具有大傳輸容量的光纖基礎設施是下一代網絡的基礎。光通訊具有傳輸容量大、傳輸距離遠、傳輸速度快等特點,被廣泛應用于長途干線、城域網、以及接入網等光通訊系統。近幾年,數據流量急劇增加,使寬帶成為一種必不可少的基礎設施。在100G以及超100G時代,非線性效應和光纖衰減成為制約系統傳輸性能提升的主要因素,因此低衰減光纖成為目前研究和使用的熱點。
光纖的衰減系數是光纖最重要的性能指標之一,很大程度上決定著光纖通信的中繼站距離。在長距離的光纖傳輸中,光纖的衰減系數越小,其傳輸光信號的距離就越遠,從而大大較少中繼站的設置,極大的降低運營成本,所以降低光功率損耗,減小光纖非線性效應的影響就成為光纖通信的發展方向。
通信光纖的主要成分是高純SiO2,光纖由光纖預制棒拉絲而成,光纖預制棒內部結構分為芯層和包層,芯層的折射率較大,包層的折射率較小,光主要在光纖芯層中傳輸,芯層中通常摻入鍺來提高玻璃折射率,包層中通常摻入氟來降低折射率,獲得合適的折射率差,從而獲得所需要的光通信性能。
超低衰減光纖芯層一般是鍺/氟共摻結構,在芯層折射率差不變的情況下,可以通過摻氟和摻堿金屬鹽來平衡石英粘度,實現最低的衰減,在光纖芯層中加入少量堿金屬摻雜時,能夠增加光纖拉絲時玻璃的粘性流動,可以降低密度波動造成的瑞利散射損耗,從而降低光纖的衰減。
除瑞利散射損耗的影響外,因為光纖芯層和包層需要存在折射率差異,內部摻雜元素差異大,在芯層和內包層之間會產生一個突變的區域,在該區域,光纖粘度差異大,該粘度差異會引起芯層和包層之間的應力差異,差異越大,光纖的衰減會越大。因此如何很好的解決不同部分之間的粘度差異,是繼續降低光纖衰減的一個方向。
發明內容
以下為本發明中涉及的一些術語的定義和說明:
從光纖纖芯軸線開始算起,根據折射率的變化,定義為最靠近軸線的那層為纖芯層,光纖的最外層即純二氧化硅層定義為光纖外包層。
光纖各層相對折射率差Δni由以下方程式定義,
其中ni為纖芯的折射率,而nc為外包層折射率,即純二氧化硅的折射率。
光纖芯層Ge摻雜的相對折射率貢獻量ΔGe由以下方程式定義,
其中nGe為假設纖芯的Ge摻雜物,在摻雜到沒有其他摻雜物的純二氧化硅中,引起二氧化硅玻璃折射率的變化量,而nc為最外包層折射率,即純二氧化硅的折射率。氟摻雜的的相對折射率貢獻量含義與其相同。
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