[發(fā)明專利]帶電體電勢的確定方法、系統(tǒng)、裝置及存儲介質(zhì)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202211334581.3 | 申請日: | 2022-10-28 |
| 公開(公告)號: | CN115575731A | 公開(公告)日: | 2023-01-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 彭慶軍;施勇;鄒德旭;王山;王欣;鄒閱培;王浩州;李國友;周仿榮;楊金越 | 申請(專利權(quán))人: | 云南電網(wǎng)有限責任公司電力科學研究院 |
| 主分類號: | G01R29/12 | 分類號: | G01R29/12;G01R15/16;G06F30/20 |
| 代理公司: | 深圳中細軟知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44528 | 代理人: | 徐春祺 |
| 地址: | 650000 云南省昆*** | 國省代碼: | 云南;53 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 帶電 電勢 確定 方法 系統(tǒng) 裝置 存儲 介質(zhì) | ||
本發(fā)明實施例公開了一種帶電體電勢的確定方法、系統(tǒng)、裝置及存儲介質(zhì),屬于輸變電技術(shù)領(lǐng)域;其方法包括獲取待測帶電體的靜電場仿真數(shù)據(jù);利用所述靜電場仿真數(shù)據(jù)建立靜電場仿真計算模型;獲取所述待測帶電體所處空間內(nèi)至少一個目標點的目標電場數(shù)據(jù);根據(jù)所述靜電場仿真計算模型和所述目標電場數(shù)據(jù)計算得到所述待測帶電體的帶電體電勢。利用仿真手段和易于測得的目標電場數(shù)據(jù)對帶電體電勢進行確定,無需人員靠近待測帶電體。一方面提高了確定帶電體電勢的安全性;另一方面提高了待測帶電體的帶電體電勢的精確度。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種輸變電技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種帶電體電勢的確定方法、系統(tǒng)、裝置及存儲介質(zhì)。
背景技術(shù)
在實際工程應用中,具有很多高壓帶電區(qū)域。該種區(qū)域中通常存在至少一個帶電體。在人體進入高壓帶電區(qū)域之前,需要對帶電體的電勢或者電壓數(shù)值進行評估,以確保人體進入后的安全程度。
但在現(xiàn)有技術(shù)中,由于難以直接測量帶電體的電勢,只能依靠電場強度測量儀獲得帶電體所處空間中的空間電場強度。但僅憑空間電場強度依然難以獲得準確的帶電體的電勢,導致人體進入高壓帶電區(qū)域的危險程度升高,難以保證安全。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明提供了一種帶電體電勢的確定方法、系統(tǒng)、裝置及存儲介質(zhì),用于解決現(xiàn)有技術(shù)中帶電體電勢難以準確獲得的問題。為達上述之一或部分或全部目的或是其他目的,本發(fā)明提出一種帶電體電勢的確定方法、系統(tǒng)、裝置及存儲介質(zhì),第一方面:
一種帶電體電勢的確定方法,包括:
獲取待測帶電體的靜電場仿真數(shù)據(jù);
利用所述靜電場仿真數(shù)據(jù)建立靜電場仿真計算模型;
獲取所述待測帶電體所處空間內(nèi)至少一個目標點的目標電場數(shù)據(jù);
根據(jù)所述靜電場仿真計算模型和所述目標電場數(shù)據(jù)計算得到所述待測帶電體的帶電體電勢。
優(yōu)選地,所述根據(jù)所述靜電場仿真計算模型和所述目標電場數(shù)據(jù)優(yōu)化計算得到所述待測帶電體的帶電體電勢的步驟包括:
設(shè)置待優(yōu)化帶電體電勢;
利用所述靜電場仿真計算模型對所述待優(yōu)化帶電體電勢進行處理,得到待優(yōu)化目標電場強度;
迭代計算所述待優(yōu)化目標電場強度,直到所述待優(yōu)化目標電場強度與所述目標電場數(shù)據(jù)匹配,將對應的所述待優(yōu)化帶電體電勢確定為所述帶電體電勢。
優(yōu)選地,在所述迭代計算所述待優(yōu)化目標電場強度之后,所述方法還包括:
判斷各個所述目標點的優(yōu)化目標電場強度是否均與對應的所述目標電場數(shù)據(jù)適配;
若是,則判定所述待優(yōu)化目標電場強度與所述目標電場數(shù)據(jù)匹配。
優(yōu)選地,所述靜電場仿真數(shù)據(jù)包括帶電體幾何特征數(shù)據(jù)、空間幾何特征數(shù)據(jù)和空間介電常數(shù)。
優(yōu)選地,所述獲取待測帶電體的靜電場仿真數(shù)據(jù)的步驟包括:
獲取三維激光成像設(shè)備采集到的所述帶電體幾何特征數(shù)據(jù)。
優(yōu)選地,所述空間幾何特征數(shù)據(jù)包括目標物體的目標幾何特征數(shù)據(jù)、接地體距離數(shù)據(jù)和目標介電常數(shù);所述目標幾何特征數(shù)據(jù)為距離所述待測帶電體距離閾值內(nèi)的目標物的幾何特征。
優(yōu)選地,所述獲取所述待測帶電體所處空間內(nèi)至少一個目標點的目標電場數(shù)據(jù)的步驟包括:
獲取空間電場測量設(shè)備采集到的所述目標點的目標電場強度;
獲取所述目標點的空間坐標,以得到所述目標點的目標電場數(shù)據(jù)。
第二方面:
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于云南電網(wǎng)有限責任公司電力科學研究院,未經(jīng)云南電網(wǎng)有限責任公司電力科學研究院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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