[發明專利]圓柱面標刻方法、裝置、電子設備及可讀存儲介質在審
| 申請號: | 202211313664.4 | 申請日: | 2022-10-25 |
| 公開(公告)號: | CN115815818A | 公開(公告)日: | 2023-03-21 |
| 發明(設計)人: | 羅鐵庚;王威;宋鴻勝;江磊 | 申請(專利權)人: | 長沙八思量信息技術有限公司 |
| 主分類號: | B23K26/362 | 分類號: | B23K26/362;B23K26/70 |
| 代理公司: | 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所 44287 | 代理人: | 付海萍 |
| 地址: | 410000 湖南省長沙市長沙*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 圓柱面 方法 裝置 電子設備 可讀 存儲 介質 | ||
1.一種圓柱面標刻方法,其特征在于,所述圓柱面標刻方法包括:
獲取待標刻圖形在目標圓柱面上的至少一個標刻點坐標;
根據各所述標刻點坐標,確定對應的標刻點焦距,其中,所述標刻點焦距為所述目標圓柱面上的標刻點與目標振鏡的焦點之間的垂向距離;
根據各所述標刻點焦距和各所述標刻點坐標,控制所述目標振鏡將所述待標刻圖形標刻于所述目標圓柱面。
2.如權利要求1所述圓柱面標刻方法,其特征在于,所述獲取待標刻圖形在目標圓柱面上的標刻點坐標的步驟包括:
獲取所述待標刻圖形的定位點初始坐標;
將所述定位點初始坐標轉換為標刻點坐標,其中,所述標刻點坐標用于表征所述待標刻圖形的標刻點在所述目標圓柱面上的空間位置。
3.如權利要求2所述圓柱面標刻方法,其特征在于,所述將所述定位點初始坐標轉換為標刻點坐標的步驟包括:
獲取所述目標圓柱面的圓柱面中心點坐標和所述目標振鏡的振鏡中心點坐標;
依據所述圓柱面中心點坐標和所述振鏡中心點坐標,確定中心點距離;
依據所述中心點距離和所述定位點初始坐標,計算所述標刻點坐標。
4.如權利要求2所述圓柱面標刻方法,其特征在于,在所述獲取所述待標刻圖形的定位點初始坐標的步驟之前,所述圓柱面標刻方法還包括:
獲取用戶輸入的待標刻圖形,其中,所述待標刻圖形包括至少一個標刻模擬點;
在各所述標刻模擬點中選取模擬定位點的定位點模擬坐標作為定位點起始坐標。
5.如權利要求1所述圓柱面標刻方法,其特征在于,所述根據各所述標刻點坐標,確定對應的標刻點焦距的步驟包括:
根據各所述標刻點坐標,計算所述圓柱面上的至少一個標刻點的焦深校正參數;
依據各所述焦深校正參數,校正對應的標刻點的振鏡焦距,得到各所述標刻點焦距。
6.如權利要求1所述圓柱面標刻方法,其特征在于,所述根據各所述標刻點焦距和各所述標刻點坐標,控制所述目標振鏡將所述待標刻圖形標刻于所述目標圓柱面的步驟包括:
根據各所述標刻點坐標和對應的標刻點焦距,生成至少一個定位控制信號;
依據各所述定位控制信號和對應的標刻控制信號,控制所述目標振鏡將所述待標刻圖形標刻于所述目標圓柱面。
7.如權利要求6所述圓柱面標刻方法,其特征在于,所述依據各所述定位控制信號和對應的標刻控制信號,控制所述目標振鏡將所述待標刻圖形標刻于所述目標圓柱面的步驟還包括:
響應于預設標刻界面上的圓柱面標刻規劃操作,獲取所述待標刻圖形的圖形標刻路徑規劃信息;
依據所述圖形標刻路徑規劃信息,為各所述定位控制信號和對應的定位控制信號共同匹配信號執行策略;
根據所述信號執行策略,執行各所述定位控制信號和對應的標刻控制信號,以基于所述目標振鏡將所述待標刻圖形標刻于所述目標圓柱面。
8.一種圓柱面標刻裝置,其特征在于,所述圓柱面標刻裝置包括:
獲取模塊,用于獲取待標刻圖形在目標圓柱面上的至少一個標刻點坐標;
確定模塊,用于根據各所述標刻點坐標,確定對應的標刻點焦距,其中,所述標刻點焦距為所述目標圓柱面上的標刻點與目標振鏡的焦點之間的垂向距離;
控制模塊,用于根據各所述標刻點焦距和各所述標刻點坐標,控制所述目標振鏡將所述待標刻圖形標刻于所述目標圓柱面。
9.一種電子設備,其特征在于,所述電子設備包括:
至少一個處理器;以及,
與所述至少一個處理器通信連接的存儲器;其中,
所述存儲器存儲有可被所述至少一個處理器執行的指令,所述指令被所述至少一個處理器執行,以使所述至少一個處理器能夠執行權利要求1至7中任一項所述的圓柱面標刻方法的步驟。
10.一種計算機可讀存儲介質,其特征在于,所述計算機可讀存儲介質上存儲有實現圓柱面標刻方法的程序,所述實現圓柱面標刻方法的程序被處理器執行以實現如權利要求1至7中任一項所述圓柱面標刻方法的步驟。
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