[發(fā)明專利]一種氫溴酸依匹斯汀晶型II及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202211297846.7 | 申請日： | 2022-10-20 |
| 公開（公告）號： | CN115448927A | 公開（公告）日： | 2022-12-09 |
| 發(fā)明（設計）人： | 陳琳;吳暉;楊瀚;黃超民 | 申請（專利權）人： | 重慶瑞泊萊醫(yī)藥科技有限公司 |
| 主分類號： | C07D487/04 | 分類號： | C07D487/04;A61P37/08;A61P11/02;A61P29/00;A61P17/04;A61P11/06;A61P17/06;A61P25/06;A61P25/04;A61P27/14;A61K31/55 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 氫溴酸 依匹斯汀晶型 ii 及其 制備 方法 | ||
1.一種氫溴酸依匹斯汀晶型II，其特征在于：其X射線粉末衍射在2θ值為7.7±0.20、9.6±0.20、14.3±0.20、21.2±0.20、25.5±0.20處有特征峰。
2.如權利要求1所述的晶型II，其特征在于：所述氫溴酸依匹斯汀晶型II在衍射角度2θ為9.6±0.20處的相對峰強度為100％；在衍射角度2θ為7.7±0.20的相對峰強度大于70％小于100％；在衍射角度2θ為21.2±0.20的相對峰強度大于60％小于80％；在衍射角度2θ為25.5±0.20的相對峰強度大于50％小于70％。
3.如權利要求1所述的晶型II，其特征在于：其X射線粉末衍射在2θ角為7.7±0.20、9.6±0.20、12.9±0.20、13.9±0.20、14.3±0.20、15.5±0.20、21.2±0.20、22.5±0.20、25.5±0.20、25.8±0.20、26.9±0.20處具有特征峰。
4.如權利要求1所述的晶型II，其特征在于：其X射線粉末衍射在2θ角為6.8±0.20、7.7±0.20、9.6±0.20、11.9±0.20、12.9±0.20、13.9±0.20、14.3±0.20、15.5±0.20、18.2±0.20、21.2±0.20、22.5±0.20、23.0±0.20、25.3±0.20、25.5±0.20、25.8±0.20、26.9±0.20、27.8±0.20處具有特征峰。
5.如權利要求1-4任一項所述的晶型II，其特征在于：具有如圖2所示的XRPD圖譜。
6.如權利要求1-5任一項所述氫溴酸依匹斯汀晶型II的制備方法，其特征在于：將氫溴酸依匹斯汀于水中加熱溶解后，降溫析晶；所述加熱溶解的溫度為50℃～100℃；所述降溫析晶的溫度為0℃～40℃；所述析晶的析晶時間為1～5小時。
7.如權利要求6所述的制備方法，其特征在于：所述溶解溫度為80℃～100℃；所述結晶溫度為10℃～20℃。
8.如權利要求6所述的制備方法，其特征在于：所述析晶時間為2～3小時。
9.如權利要求1-5任一項所述氫溴酸依匹斯汀晶型II在制備抗過敏性疾病藥物中的用途；所述過敏性疾病優(yōu)選為過敏性鼻炎，蕁麻疹，皮炎，濕疹，皮膚瘙癢癥，偏頭疼，賓-霍頓綜合征，緊張性頭疼，支氣管哮喘，肌肉痛，炎性疼痛，神經痛，銀屑病，過敏性結膜炎等疾病的任一種或其組合。
10.一種抗過敏性藥物組合物，其特征在于：以權利要求1-5任一項所述氫溴酸依匹斯汀晶型II作為活性成分，添加藥學上可接受的輔料制備而成。
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