[發(fā)明專利]粉末包覆裝置以及粉末包覆方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202211297229.7 | 申請日: | 2022-10-21 |
| 公開(公告)號: | CN116288163A | 公開(公告)日: | 2023-06-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 景遐明;賴彬;智彥軍;張銀峰 | 申請(專利權(quán))人: | 華為數(shù)字能源技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/22 | 分類號: | C23C14/22;C23C14/26;C23C14/16;C23C14/54;C23C14/56;B22F1/17;B22F1/14;B22F1/145 |
| 代理公司: | 深圳市賽恩倍吉知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44334 | 代理人: | 饒婕;習(xí)冬梅 |
| 地址: | 518043 廣東省深圳市福田區(qū)香蜜湖街道香*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 粉末 裝置 以及 方法 | ||
1.一種粉末包覆裝置,其特征在于,包括:
反應(yīng)器,在所述反應(yīng)器的第一端設(shè)有進(jìn)料口,在所述反應(yīng)器與所述第一端相對的第二端設(shè)有出料口;
粉末進(jìn)料系統(tǒng),連接所述進(jìn)料口;
出料系統(tǒng),連接所述出料口;
蒸汽進(jìn)料系統(tǒng),包括設(shè)于所述反應(yīng)器內(nèi)的噴嘴,所述噴嘴位于所述進(jìn)料口與所述出料口之間;
振動系統(tǒng),包括篩網(wǎng)和振動電機,所述篩網(wǎng)位于所述反應(yīng)器內(nèi)并位于所述進(jìn)料口與所述噴嘴之間,所述振動電機用于驅(qū)動所述篩網(wǎng)振動;
真空系統(tǒng),與所述反應(yīng)器、所述粉末進(jìn)料系統(tǒng)、所述出料系統(tǒng)及所述蒸汽進(jìn)料系統(tǒng)連接,用于對所述反應(yīng)器、所述粉末進(jìn)料系統(tǒng)、所述出料系統(tǒng)及所述蒸汽進(jìn)料系統(tǒng)抽真空。
2.如權(quán)利要求1所述的粉末包覆裝置,其特征在于,所述第一端為所述反應(yīng)器的上端,所述第二端為所述反應(yīng)器下端。
3.如權(quán)利要求1所述的粉末包覆裝置,其特征在于,所述噴嘴朝向所述進(jìn)料口。
4.如權(quán)利要求1所述的粉末包覆裝置,其特征在于,所述噴嘴朝向所述出料口。
5.如權(quán)利要求2所述的粉末包覆裝置,其特征在于,所述噴嘴的數(shù)量為多個,多個所述噴嘴位于同一高度并繞所述反應(yīng)器的中心均勻分布。
6.如權(quán)利要求2所述的粉末包覆裝置,其特征在于,所述噴嘴的數(shù)量為多個,多個所述噴嘴分為至少兩組噴嘴組,每一所述噴嘴組內(nèi)的所述噴嘴位于同一高度并繞所述反應(yīng)器的中心均勻分布,任意兩個所述噴嘴組位于不同的高度。
7.如權(quán)利要求1所述的粉末包覆裝置,其特征在于,所述蒸汽進(jìn)料系統(tǒng)還包括密封倉、容器、加熱元件以及蒸汽管道,所述密封倉位于所述反應(yīng)器外,所述容器和所述加熱元件位于所述密封倉內(nèi),所述容器用于承載形成蒸汽的物料,所述加熱元件用于加熱所述物料以形成蒸汽,所述蒸汽管道連接所述密封倉與所述噴嘴。
8.如權(quán)利要求7所述的粉末包覆裝置,其特征在于,所述加熱元件為電阻加熱器或者電磁感應(yīng)加熱器。
9.如權(quán)利要求7所述的粉末包覆裝置,其特征在于,所述蒸汽進(jìn)料系統(tǒng)還包括壓力探測器,所述壓力探測器位于所述密封倉內(nèi),用于實時探測所述密封倉內(nèi)的壓力值。
10.如權(quán)利要求9所述的粉末包覆裝置,其特征在于,所述蒸汽進(jìn)料系統(tǒng)還包括壓力控制器,所述壓力控制器分別與壓力探測器及所述加熱元件電連接,所述壓力控制器用于根據(jù)所述壓力探測器探測到的壓力值控制所述加熱元件對蒸汽源的加熱。
11.如權(quán)利要求1所述的粉末包覆裝置,其特征在于,所述粉末包覆裝置還包括冷卻系統(tǒng),所述冷卻系統(tǒng)包括與所述反應(yīng)器外壁貼合的冷卻件,所述冷卻件位于所述噴嘴與所述出料口之間。
12.一種應(yīng)用權(quán)利要求1至11任意一項所述的粉末包覆裝置的粉末包覆方法,包括以下步驟:
將粉末加入所述粉末進(jìn)料系統(tǒng),并將蒸汽源加入蒸汽進(jìn)料系統(tǒng)中;
通過所述真空系統(tǒng)對所述粉末進(jìn)料系統(tǒng)、所述反應(yīng)器、所述蒸汽進(jìn)料系統(tǒng)以及所述出料系統(tǒng)進(jìn)行抽真空;
蒸汽進(jìn)料系統(tǒng)將所述蒸汽源形成蒸汽;
開啟所述振動電機振動所述篩網(wǎng);
將粉末通過所述粉末進(jìn)料系統(tǒng)從所述進(jìn)料口加入抽真空后的所述反應(yīng)器,同時將所述蒸汽通過所述噴嘴噴向所述反應(yīng)器內(nèi),從而包覆從所述篩網(wǎng)下落的所述粉末形成包覆膜;
帶有所述包覆膜的粉末繼續(xù)下落并冷卻直至通過所述出料口進(jìn)入所述出料系統(tǒng)。
13.如權(quán)利要求12所述的粉末包覆方法,其特征在于,所述噴嘴噴出所述蒸汽時,控制所述蒸汽進(jìn)料系統(tǒng)內(nèi)部與所述反應(yīng)器內(nèi)部的壓力差為0.001MPa至0.1MPa。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





