[發明專利]一種氣體檢測用雙帶通窄帶濾光片及制作方法

在審

• 申請號: 202211250020.5
• 申請日: 2022-10-12
• 公開（公告）號: CN115508932A
• 公開（公告）日: 2022-12-23
• 發明（設計）人: 林新佺
• 申請（專利權）人: 深圳市激埃特光電有限公司
• 主分類號: G02B5/20
• 分類號: G02B5/20;G02B27/00
• 代理公司: 北京子焱知識產權代理事務所(普通合伙) 11932
• 代理人: 陳涵瀛

1.氣體檢測用雙帶通窄帶濾光片的制作方法，其特征在于，包括步驟有：選擇并清潔中間層基材，將中間層基材設置在鍍膜真空腔中加熱并恒溫控制；對鍍膜顆粒預熔，對中間層基材進行離子轟擊，然后對上膜結構鍍制，上膜結構完成鍍制后對下膜結構鍍制；其中，對上膜結構鍍制及對下膜結構鍍制過程中通過動態獲取每一個膜結構復合方案對應的性能評價參數進而動態調整下一次鍍制過程中膜結構復合方案，直到膜結構復合方案為最優方案。

2.根據權利要求1所述的氣體檢測用雙帶通窄帶濾光片的制作方法，其特征在于，所述的上膜結構和下膜結構均為多層復合鍍制膜結構，所述的膜結構復合方案具體指用于確定唯一的多層復合鍍制膜結構并標注每一層膜鍍制厚度的參數組合方案，膜結構復合方案由矩陣結構表征；性能評價參數指在膜結構復合方案確定后根據該膜結構復合方案所鍍制完成的上膜結構或下膜結構對應的評價性能的參數形成的數組。

3.根據權利要求1所述的氣體檢測用雙帶通窄帶濾光片的制作方法，其特征在于，所述的膜結構復合方案具體為：

當膜結構為n層，則i＝j＝n，其中a_ij表征第i層鍍膜厚度；所述性能評價參數為(b₁，b₂，b₃……b_n)＝B_1，其中b_n表征性能評價的參數在第n層鍍膜上對應的分量；由性能評價參數B₁還可以計算得到性能改進參數B₂，具體地B₂＝(b₁²，b₂²，b₃²……b_n²)其中的b_n²＝b_n·x_n+(1－x_n)·b_n¹其中x_n為第n層鍍膜上對應分量的滑動預測參數，其中b_n¹為第n層鍍膜上對應分量的人工預測性能參數；所述動態調整下一次鍍制過程中膜結構復合方案即：對于確定的A₁統計獲取其對應的B₁，然后由B₁計算到B₂,將B₂轉換為矩陣形即B₂＝[b₁²，b₂²，b₃²……b_n²]后計算B₂A₁＝B₃，然后計算[B₃^T1B₃^T2……B₃^Tj]＝A₂,其中B₃^T1,B₃^T2……B₃^Tj均為B₃的轉置，A₂即動態調整后的膜結構復合方案。

4.根據權利要求1所述的氣體檢測用雙帶通窄帶濾光片的制作方法，其特征在于，所述性能評價參數構建中性能包括檢測透射率、波長容差、截止參數、應用信噪比。

5.根據權利要求1所述的氣體檢測用雙帶通窄帶濾光片的制作方法，其特征在于，膜結構復合方案中的最優方案指動態調整中連續多次的動態調整均出現：調整后的膜結構復合方案A₂保持不變，或調整后的膜結構復合方案A₂變化量小于閾值的情況，該情況中調整后的膜結構復合方案A₂對應的膜結構復合方案即為最優方案。

6.一種氣體檢測用雙帶通窄帶濾光片，其特征在于，由權利要求1的方法制作，包括中間層基材、中間層基材上部的上膜結構和中間層基材下部的下膜結構。