[發(fā)明專利]一種降低氧化鋁陶瓷坩堝中熔接痕的裝置及方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202211247383.3 | 申請日： | 2022-10-12 |
| 公開（公告）號： | CN115519658A | 公開（公告）日： | 2022-12-27 |
| 發(fā)明（設計）人： | 魏鴻基;孫龍祥;陳耿;周秀英 | 申請（專利權）人： | 濟南厚發(fā)芯智科技有限公司 |
| 主分類號： | B28B7/26 | 分類號： | B28B7/26;B28B7/42;B28B7/00;B28B1/14 |
| 代理公司： | 山東瑞宸知識產權代理有限公司 37268 | 代理人： | 于曉麗 |
| 地址： | 250000 山東省濟南市章丘區(qū)雙山街道經(jīng)十東路7888號*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 降低 氧化鋁陶瓷 坩堝 熔接 裝置 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種降低氧化鋁陶瓷坩堝中熔接痕的裝置，其特征在于，包括內部呈中空結構的圓筒狀的外模，在所述外模的內側設置有內模，所述內模與所述外模之間設有圓筒形封閉的成型腔，所述外模的底部卡接有底座，所述底座的中部設有兩個截面呈平行四邊形且呈相反方向的第二注漿口，所述底座的下部連接有進料盤，所述進料盤的中心設有第一注漿口。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種降低氧化鋁陶瓷坩堝中熔接痕的裝置，其特征在于，所述內模遠離所述底座的一端中心處設置有螺紋孔。
3.根據(jù)權利要求1所述的一種降低氧化鋁陶瓷坩堝中熔接痕的裝置，其特征在于，所述外模的頂端與所述內模的連接處設置有模芯圈。
4.根據(jù)權利要求1所述的一種降低氧化鋁陶瓷坩堝中熔接痕的裝置，其特征在于，所述進料盤與所述底座連接處設有緩沖槽，所述緩沖槽與所述第一注漿口和所述第二注漿口連通。
5.根據(jù)權利要求1所述的一種降低氧化鋁陶瓷坩堝中熔接痕的方法，其特征在于，包括以下步驟：
1）將外模、內模、模芯圈、底座、進料盤進行組裝；
2）將模具放入水溫為24-26℃的水中；
3）將氧化鋁陶瓷注漿液從第一注漿口注入模具中成型；
4）脫模。
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