[發(fā)明專利]一種鉑釕合金靶材及其制備方法和應(yīng)用有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202211242615.6 | 申請(qǐng)日: | 2022-10-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN115537593B | 公開(公告)日: | 2023-05-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙宏達(dá);劉革;宋俊俊;李婷;張娜;于述鵬;常占河;相廣海 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 沈陽(yáng)東創(chuàng)貴金屬材料有限公司 |
| 主分類號(hào): | C22C5/04 | 分類號(hào): | C22C5/04;C22C1/02;C22F1/14;C23C14/35 |
| 代理公司: | 北京高沃律師事務(wù)所 11569 | 代理人: | 王苗苗 |
| 地址: | 110015 遼*** | 國(guó)省代碼: | 遼寧;21 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 合金 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
本發(fā)明涉及有色金屬技術(shù)領(lǐng)域,提供了一種鉑釕合金靶材及其制備方法和應(yīng)用。本發(fā)明提供的鉑釕合金靶材包括以下質(zhì)量分?jǐn)?shù)的化學(xué)成分:Pt78.98~94.98%,Ru5~20%,V0.01~0.05%,Cr0.01~0.05%。本發(fā)明通過控制合金元素的種類和含量,得到一種亮度高、硬度高、耐蝕性好的鉑釕合金靶材;本發(fā)明提供的鉑釕合金靶材可應(yīng)用于電子電力、軍工、機(jī)電、裝飾及工藝品行業(yè)中,將本發(fā)明的鉑釕合金靶材進(jìn)行真空磁控濺射鍍膜,所得膜層硬度高、耐磨性優(yōu)異、亮度值高、抗氧化性優(yōu)異,具有廣闊的應(yīng)用前景。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及有色金屬技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種鉑釕合金靶材及其制備方法和應(yīng)用。
背景技術(shù)
鉑金具有較強(qiáng)的韌性,足鉑的加工難度較大,因此一般不直接使用足鉑進(jìn)行加工,而是在足鉑材料中配入其他的鉑族金屬,如釕。鉑釕合金是鉑基含釕的二元合金,釕的加入可以提高鉑金材料的硬度和脆性,鉑釕合金常用于制造電接觸合金,還常被用于制作珠寶首飾,是一種具有廣泛應(yīng)用前景的新材料。
目前,常見的鉑釕合金有PtRu4、PtRu5、PtRu10等牌號(hào),將鉑釕合金作為靶材進(jìn)行磁控濺射,可以制備各種飾品或合金涂層。但是,目前的鉑釕合金靶材鍍膜后所得膜層難以兼顧亮度、耐磨性以及耐蝕性,阻礙了鍍膜產(chǎn)品的進(jìn)一步廣泛應(yīng)用。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明提供了一種鉑釕合金靶材及其制備方法和應(yīng)用。本發(fā)明提供的鉑釕合金靶材亮度高、耐磨性和耐蝕性好,利用其鍍膜所得膜層能夠兼顧亮度、耐磨性以及耐蝕性,具有廣闊的應(yīng)用前景。
為了實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的,本發(fā)明提供以下技術(shù)方案:
一種鉑釕合金靶材,包括以下質(zhì)量分?jǐn)?shù)的化學(xué)成分:Pt?79.98~94.98%,Ru?5.0~20.0%,V?0.01~0.05%,Cr?0.01~0.05%。
優(yōu)選的,所述鉑釕合金靶材的厚度為0.5~5mm。
本發(fā)明還提供了上述方案所述鉑釕合金靶材的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
將Pt、Ru、V和Cr熔化后依次進(jìn)行精煉和澆注,得到鑄坯;
將所述鑄坯依次進(jìn)行熱鍛、軋制和退火,得到鉑釕合金靶材。
優(yōu)選的,所述Ru在使用前進(jìn)行預(yù)處理,所述預(yù)處理的方法為:將釕粉壓制成塊體,然后進(jìn)行燒結(jié),燒結(jié)后的釕塊體破碎后使用;所述燒結(jié)的溫度為1000~1150℃,所述燒結(jié)在氬氣保護(hù)條件下進(jìn)行,所述燒結(jié)的時(shí)間為30~35min。
優(yōu)選的,所述熔化和精煉在高頻真空感應(yīng)熔煉爐中進(jìn)行,所述熔化和精煉均在氬氣保護(hù)下進(jìn)行。
優(yōu)選的,所述精煉的溫度為2000~2200℃,保溫時(shí)間為3~5min。
優(yōu)選的,所述熱鍛的溫度為1400~1500℃。
優(yōu)選的,所述軋制的總加工率為50~75%,道次加工率為5~10%。
優(yōu)選的,所述退火的溫度為1100~1250℃,時(shí)間為20~30min。
本發(fā)明還提供了上述方案所述的鉑釕合金靶材或上述方案所述制備方法制備的鉑釕合金靶材在真空磁控濺射中的應(yīng)用。
本發(fā)明提供了一種鉑釕合金靶材,包括以下質(zhì)量分?jǐn)?shù)的化學(xué)成分:Pt?78.98~94.98%,Ru?5~20%,V?0.01~0.05%,Cr?0.01~0.05%。本發(fā)明通過控制合金元素的種類和含量,得到一種亮度高、耐磨性好、耐蝕性好的鉑釕合金靶材;本發(fā)明提供的鉑釕合金靶材可以應(yīng)用于電子電力、軍工、機(jī)電、裝飾及工藝品行業(yè)中,將本發(fā)明的鉑釕合金靶材進(jìn)行真空磁控濺射鍍膜,所得膜層硬度高、耐磨性優(yōu)異、亮度值高、抗氧化性優(yōu)異,具有廣闊的應(yīng)用前景。
具體實(shí)施方式
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于沈陽(yáng)東創(chuàng)貴金屬材料有限公司,未經(jīng)沈陽(yáng)東創(chuàng)貴金屬材料有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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