[發(fā)明專利]一種低精細(xì)度F-P腔制備裝置及方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202211241584.2
• 申請(qǐng)日: 2022-10-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN115656041A
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-01-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 于晉龍;羅浩;王菊;馬闖;韓旭
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 天津大學(xué)
• 主分類號(hào): G01N21/01
• 分類號(hào): G01N21/01;G01N21/84;G01N21/88
• 代理公司: 北京盛廣信合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 16117
• 代理人: 秦全

1.一種低精細(xì)度F-P腔制備裝置，其特征在于，包括：寬譜光源(1)、2×1耦合器(2)、擴(kuò)束透鏡(3)、反射球(4)、光譜儀(5)；

所述2×1耦合器(2)包括第一光纖尾纖輸入端、第二光纖尾纖輸入端、第一空間光輸出端；所述第一光纖尾纖輸入端與所述寬譜光源(1)的輸出端連接；所述第二光纖尾纖輸入端與所述光譜儀(5)連接；所述第一空間光輸出端與所述擴(kuò)束透鏡(3)連接；所述擴(kuò)束透鏡(3)與所述反射球(4)同軸放置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低精細(xì)度F-P腔制備裝置，其特征在于，

所述2×1耦合器(2)用于將寬譜光進(jìn)行耦合后進(jìn)入到擴(kuò)束透鏡(3)，并經(jīng)過(guò)所述反射球(4)進(jìn)行反射，經(jīng)過(guò)所述擴(kuò)束透鏡(3)后返回至所述2×1耦合器(2)中進(jìn)行輸出。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低精細(xì)度F-P腔制備裝置，其特征在于，

所述擴(kuò)束透鏡(3)用于將入射的激光進(jìn)行擴(kuò)束，獲得激光束。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低精細(xì)度F-P腔制備裝置，其特征在于，

所述反射球(4)用于將激光束反射回所述擴(kuò)束透鏡(3)，經(jīng)過(guò)所述擴(kuò)束透鏡(3)后返回至所述2×1耦合器(2)中，并在所述2×1耦合器(2)的第一空間光輸出端和反射球(4)之間形成F-P腔。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低精細(xì)度F-P腔制備裝置，其特征在于，

所述光譜儀(5)用于獲取經(jīng)過(guò)F-P腔輸出的光譜特性。

6.一種低精細(xì)度F-P腔制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

寬譜光源(1)發(fā)射寬譜光，所述寬譜光經(jīng)過(guò)2×1耦合器(2)進(jìn)入擴(kuò)束透鏡(3)，獲得激光束；所述激光束由反射球(4)反射回所述擴(kuò)束透鏡(3)；經(jīng)過(guò)所述擴(kuò)束透鏡(3)后返回至所述2×1耦合器(2)中，并在所述2×1耦合器(2)的第一空間光輸出端和反射球(4)之間形成F-P腔。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的低精細(xì)度F-P腔制備方法，其特征在于，

基于F-P腔的精細(xì)度理論公式，獲得反射球(4)的反射率；基于照射到反射球面上的平行光的半徑，獲得反射光的半徑；基于所述反射光的半徑，獲得對(duì)應(yīng)的反射球(4)的半徑；基于所述反射球(4)的反射率、半徑，將所述擴(kuò)束透鏡(3)與所述反射球(4)同軸放置，構(gòu)建低精細(xì)度F-P腔。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的低精細(xì)度F-P腔制備方法，其特征在于，

所述激光束由反射球(4)反射回所述擴(kuò)束透鏡(3)后，經(jīng)過(guò)2×1耦合器(2)進(jìn)入光譜儀(5)；基于所述光譜儀(5)，獲取經(jīng)過(guò)所述F-P腔的干涉譜，所述干涉譜為正弦曲線。