[發明專利]化學鍍金浴在審
| 申請號: | 202211209004.1 | 申請日: | 2022-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN115961273A | 公開(公告)日: | 2023-04-14 |
| 發明(設計)人: | 田中小百合;前川拓摩;田邉克久;柴山文德 | 申請(專利權)人: | 上村工業株式會社 |
| 主分類號: | C23C18/44 | 分類號: | C23C18/44 |
| 代理公司: | 北京派特恩知識產權代理有限公司 11270 | 代理人: | 李雪;姚開麗 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 化學 鍍金 | ||
1.一種化學鍍金浴,其含有亞硫酸金鹽、硫代硫酸鹽、抗壞血酸類、肼類,其特征在于:
所述肼類為從己二酸二酰肼、丙酸酰肼、硫酸肼、單鹽酸肼、二鹽酸肼、碳酸肼、肼一水合物、癸二酸二酰肼、十二烷二羧酸二酰肼、間苯二甲酸二酰肼、水楊酸酰肼、3-氫-2-萘甲酸酰肼、二苯甲酮腙、苯肼、苯甲基肼單鹽酸鹽、甲基肼硫酸鹽、異丙基肼鹽酸鹽、1,1-二甲基肼、2-肼基苯并噻唑、乙酰肼、2-羥乙基肼、乙氧羰基肼、甲氧羰基肼、苯肼-4-磺酸以及苯甲酰肼所構成的組中選擇的至少一種。
2.根據權利要求1所述的化學鍍金浴,其特征在于:
所述抗壞血酸類為從抗壞血酸、抗壞血酸磷酸鈉、抗壞血酸磷酸鎂以及抗壞血酸2-葡萄糖苷所構成的組中選擇的至少一種。
3.根據權利要求1或2所述的化學鍍金浴,其特征在于:
所述肼類的濃度為0.5~15g/L,所述抗壞血酸類的濃度為1~20g/L。
4.根據權利要求1或2所述的化學鍍金浴,其特征在于:
所述亞硫酸金鹽中的金與所述硫代硫酸鹽的質量比為金:硫代硫酸鹽=1:0.5~1:10。
5.根據權利要求1或2所述的化學鍍金浴,其特征在于:
該化學鍍金浴進一步含有防腐蝕劑和胺系絡合劑,
所述防腐蝕劑與所述胺系絡合劑的質量比為防腐蝕劑:胺系絡合劑=1:0.5~1:10。
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預處理





