[發明專利]一種基于圖像檢測的掩膜版生產優化方法及系統有效
| 申請號: | 202211187420.6 | 申請日: | 2022-09-28 |
| 公開(公告)號: | CN115272329B | 公開(公告)日: | 2022-12-30 |
| 發明(設計)人: | 楊偉;謝雙軍 | 申請(專利權)人: | 中科卓芯半導體科技(蘇州)有限公司 |
| 主分類號: | G06T7/00 | 分類號: | G06T7/00;G06Q10/04;G06Q50/04;G06V10/74;G01N21/956 |
| 代理公司: | 蘇州潤桐嘉業知識產權代理有限公司 32261 | 代理人: | 李蓉蓉 |
| 地址: | 215600 江蘇省蘇州市張家*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 圖像 檢測 掩膜版 生產 優化 方法 系統 | ||
本發明公開了一種基于圖像檢測的掩膜版生產優化方法及系統,涉及掩膜版數據處理領域,其中,所述方法包括:得到生產參數信息;得到初始圖像采集結果,根據定位特征識別結果進行初始圖像采集結果的位置校正;對完成位置校正的初始圖像采集結果進行分區域異常特征匹配,得到異常特征匹配結果,在第二圖像采集時間進行目標掩膜版的圖像采集,得到認證圖像采集結果;結合初始圖像采集結果進行同位置特征比對,獲得新增特征信息;根據關聯關系構建結果生成生產優化參數;基于生產優化參數進行掩膜版的生產優化。達到了提高掩膜版的圖像檢測的準確性,進而提高掩膜版的缺陷檢測效果,有效地提升了掩膜版的生產質量等技術效果。
技術領域
本發明涉及掩膜版數據處理領域,具體地,涉及一種基于圖像檢測的掩膜版生產優化方法及系統。
背景技術
掩膜版是半導體生產的重要材料之一。在掩膜版的實際生產過程中,不可避免地產生缺陷,這些缺陷在曝光時會對半導體產品產生極大的影響,容易導致半導體產品報廢,造成經濟損失。除此之外,缺陷還會損害掩膜版的壽命。缺陷已成為影響掩膜版生產的重要問題。
現有技術中,存在針對掩膜版的圖像檢測準確性不足,進而造成掩膜版的缺陷檢測效果不佳,極大地降低了掩膜版的生產質量的技術問題。
發明內容
本申請提供了一種基于圖像檢測的掩膜版生產優化方法及系統,解決了現有技術中針對掩膜版的圖像檢測準確性不足,進而造成掩膜版的缺陷檢測效果不佳,極大地降低了掩膜版的生產質量的技術問題。
鑒于上述問題,本申請提供了一種基于圖像檢測的掩膜版生產優化方法及系統。
第一方面,本申請提供了一種基于圖像檢測的掩膜版生產優化方法,其中,所述方法應用于一種基于圖像檢測的掩膜版生產優化系統,所述系統與圖像采集裝置通信連接,所述方法包括:采集目標掩膜版的標識信息,基于所述標識信息進行所述目標掩膜版的生產信息調用,得到生產參數信息;通過所述圖像采集裝置進行所述目標掩膜版的圖像采集,得到初始圖像采集結果,其中,所述初始圖像采集結果具有第一時間標識;基于所述初始圖像采集結果進行定位特征識別,基于定位特征識別結果進行所述初始圖像采集結果的位置校正;對完成位置校正的所述初始圖像采集結果進行分區域異常特征匹配,得到異常特征匹配結果,其中,所述異常特征匹配結果具有位置標識;根據所述第一時間標識生成第二圖像采集時間,在所述第二圖像采集時間通過所述圖像采集裝置進行所述目標掩膜版的圖像采集,得到認證圖像采集結果;基于所述認證圖像采集結果和所述初始圖像采集結果進行同位置特征比對,獲得新增特征信息;基于所述新增特征信息和所述異常特征匹配結果構建所述生產參數信息的關聯關系,并基于關聯關系構建結果生成生產優化參數;基于所述生產優化參數進行掩膜版的生產優化。
第二方面,本申請還提供了一種基于圖像檢測的掩膜版生產優化系統,其中,所述系統與圖像采集裝置通信連接,所述系統包括:信息調用模塊,所述信息調用模塊用于采集目標掩膜版的標識信息,基于所述標識信息進行所述目標掩膜版的生產信息調用,得到生產參數信息;第一圖像采集模塊,所述第一圖像采集模塊用于通過所述圖像采集裝置進行所述目標掩膜版的圖像采集,得到初始圖像采集結果,其中,所述初始圖像采集結果具有第一時間標識;識別校正模塊,所述識別校正模塊用于基于所述初始圖像采集結果進行定位特征識別,基于定位特征識別結果進行所述初始圖像采集結果的位置校正;異常特征匹配模塊,所述異常特征匹配模塊用于對完成位置校正的所述初始圖像采集結果進行分區域異常特征匹配,得到異常特征匹配結果,其中,所述異常特征匹配結果具有位置標識;第二圖像采集模塊,所述第二圖像采集模塊用于根據所述第一時間標識生成第二圖像采集時間,在所述第二圖像采集時間通過所述圖像采集裝置進行所述目標掩膜版的圖像采集,得到認證圖像采集結果;特征比對模塊,所述特征比對模塊用于基于所述認證圖像采集結果和所述初始圖像采集結果進行同位置特征比對,獲得新增特征信息;生產優化參數確定模塊,所述生產優化參數確定模塊用于基于所述新增特征信息和所述異常特征匹配結果構建所述生產參數信息的關聯關系,并基于關聯關系構建結果生成生產優化參數;生產優化模塊,所述生產優化模塊用于基于所述生產優化參數進行掩膜版的生產優化。
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