[發明專利]一種基于圖像檢測的掩膜版生產優化方法及系統

有效

• 申請號: 202211187420.6
• 申請日: 2022-09-28
• 公開（公告）號: CN115272329B
• 公開（公告）日: 2022-12-30
• 發明（設計）人: 楊偉;謝雙軍
• 申請（專利權）人: 中科卓芯半導體科技（蘇州）有限公司
• 主分類號: G06T7/00
• 分類號: G06T7/00;G06Q10/04;G06Q50/04;G06V10/74;G01N21/956
• 代理公司: 蘇州潤桐嘉業知識產權代理有限公司 32261
• 代理人: 李蓉蓉

1.一種基于圖像檢測的掩膜版生產優化方法，其特征在于，所述方法應用于優化控制系統，所述優化控制系統與圖像采集裝置通信連接，所述方法包括：

采集目標掩膜版的標識信息，基于所述標識信息進行所述目標掩膜版的生產信息調用，得到生產參數信息；

通過所述圖像采集裝置進行所述目標掩膜版的圖像采集，得到初始圖像采集結果，其中，所述初始圖像采集結果具有第一時間標識；

基于所述初始圖像采集結果進行定位特征識別，基于定位特征識別結果進行所述初始圖像采集結果的位置校正；

對完成位置校正的所述初始圖像采集結果進行分區域異常特征匹配，得到異常特征匹配結果，其中，所述異常特征匹配結果具有位置標識；

根據所述第一時間標識生成第二圖像采集時間，在所述第二圖像采集時間通過所述圖像采集裝置進行所述目標掩膜版的圖像采集，得到認證圖像采集結果；

基于所述認證圖像采集結果和所述初始圖像采集結果進行同位置特征比對，獲得新增特征信息，所述新增特征信息包括目標掩膜版的 霧狀缺陷信息 ；

基于所述新增特征信息和所述異常特征匹配結果構建所述生產參數信息的關聯關系，并基于關聯關系構建結果生成生產優化參數；

基于所述生產優化參數進行掩膜版的生產優化。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

基于所述異常特征匹配結果進行特征分類，得到軟缺陷特征集合和硬缺陷特征集合；

基于所述軟缺陷特征集合生成清洗優化參數；

通過所述硬缺陷特征集合進行所述目標掩膜版的可用評價；

當所述可用評價結果滿足預期閾值時，則通過所述清洗優化參數進行所述目標掩膜版的清洗處理。

3.如權利要求2所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

當所述可用評價結果不滿足所述預期閾值時，則根據所述硬缺陷特征集合生成硬缺陷修復參數；

基于所述硬缺陷修復參數進行所述目標掩膜版的硬缺陷修復，得到修復目標掩膜版；

根據所述硬缺陷修復參數和所述清洗優化參數獲得更新清洗優化參數；

基于所述更新清洗優化參數進行所述修復目標掩膜版的清洗處理。

4.如權利要求3所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

對同批次掩膜版的異常特征匹配結果和新增特征信息進行出現頻次匹配，得到頻次占比統計結果；

基于大數據設定特征評價值集合；

基于所述特征評價值集合進行新增特征信息和異常特征匹配結果的特征值計算，得到特征值計算結果；

基于所述頻次占比統計結果和所述特征值計算結果得到異常評價值；

當所述異常評價值滿足預期評價閾值時，則基于所述新增特征信息和所述異常特征匹配結果構建所述生產參數信息的關聯關系，并基于關聯關系構建結果生成生產優化參數。

5.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

判斷所述定位特征識別結果是否存在位置異常；

當判斷存在位置異常時，生成所述目標掩膜版的重新置放指令；

根據所述重新置放指令對所述目標掩膜版進行重新置放后，重新進行圖像采集。

6.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

對完成位置校正的所述初始圖像采集結果進行特征定位點識別，得到特征定位點識別結果；

基于所述特征定位點識別結果進行特征尺寸測量，生成尺寸測量結果；

基于同批次尺寸測量結果進行尺寸同向偏離分析；

通過尺寸同向偏離分析結果獲得所述生產優化參數。

7.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

根據所述標識信息獲得所述目標掩膜版的應用反饋信息；

根據所述應用反饋信息匹配優化關聯參數；

通過所述優化關聯參數進行掩膜版的生產優化。

8.一種基于圖像檢測的掩膜版生產優化系統，其特征在于，所述系統與圖像采集裝置通信連接，所述系統包括：

信息調用模塊，所述信息調用模塊用于采集目標掩膜版的標識信息，基于所述標識信息進行所述目標掩膜版的生產信息調用，得到生產參數信息；

第一圖像采集模塊，所述第一圖像采集模塊用于通過所述圖像采集裝置進行所述目標掩膜版的圖像采集，得到初始圖像采集結果，其中，所述初始圖像采集結果具有第一時間標識；

識別校正模塊，所述識別校正模塊用于基于所述初始圖像采集結果進行定位特征識別，基于定位特征識別結果進行所述初始圖像采集結果的位置校正；

異常特征匹配模塊，所述異常特征匹配模塊用于對完成位置校正的所述初始圖像采集結果進行分區域異常特征匹配，得到異常特征匹配結果，其中，所述異常特征匹配結果具有位置標識；

第二圖像采集模塊，所述第二圖像采集模塊用于根據所述第一時間標識生成第二圖像采集時間，在所述第二圖像采集時間通過所述圖像采集裝置進行所述目標掩膜版的圖像采集，得到認證圖像采集結果；

特征比對模塊，所述特征比對模塊用于基于所述認證圖像采集結果和所述初始圖像采集結果進行同位置特征比對，獲得新增特征信息，所述新增特征信息包括目標掩膜版的霧狀缺陷信息 ；

生產優化參數確定模塊，所述生產優化參數確定模塊用于基于所述新增特征信息和所述異常特征匹配結果構建所述生產參數信息的關聯關系，并基于關聯關系構建結果生成生產優化參數；

生產優化模塊，所述生產優化模塊用于基于所述生產優化參數進行掩膜版的生產優化。