[發明專利]襯底處理裝置

在審

• 申請號: 202211136698.0
• 申請日: 2022-09-19
• 公開（公告）號: CN115846259A
• 公開（公告）日: 2023-03-28
• 發明（設計）人: 安武陽介;中井仁司
• 申請（專利權）人: 株式會社斯庫林集團
• 主分類號: B08B1/02
• 分類號: B08B1/02;B08B1/00;B08B3/02;B08B13/00;H01L21/67
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 陳甜甜

本發明提供一種襯底處理裝置。襯底處理裝置(100)具備旋轉基座(SB)、多根夾盤銷(37)、洗凈機構(10)、及提升銷(35)。洗凈機構(10)配置在襯底(W)的上方，將襯底(W)的背面(Wb)物理性洗凈。多根夾盤銷(37)具有抵接面(372a)及對向面(371a)。抵接面(372a)于固持襯底(W)時抵接于基板(W)。對向面(371a)從抵接面(372a)的下端朝相對于鉛直方向交叉的方向延伸。對向面(371a)與襯底(W)的正面(Wa)對向。對向面(371a)與旋轉基座(SB)的周緣部(Ra)的上表面(Ra1)相鄰，且，配置在與旋轉基座(SB)的周緣部(Ra)的上表面(Ra1)大致相同的高度。旋轉基座(SB)于上表面具有噴出氣體的氣體噴出口(33e)。

技術領域

本發明涉及一種襯底處理裝置。

背景技術

以往，已知有具備使襯底旋轉的旋轉基座、及將襯底的上表面洗凈的刷子的襯底處理裝置(例如，參考專利文獻1)。在專利文獻1中，記載著一種洗凈處理裝置，所述洗凈處理裝置具備使襯底旋轉的夾盤板、配置在夾盤板的周緣部，支撐襯底的下表面的邊緣部的裝卸機構、及將襯底的上表面洗凈的刷子。夾盤板中設置著對襯底的下表面與夾盤板的上表面之間供給氣體的氣體供給孔。所述洗凈處理裝置中，通過對襯底與夾盤板之間供給氣體，抑制襯底洗凈時的清洗液等回繞到襯底的下表面側。

[背景技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2006-24963號公報

發明內容

[發明所要解決的問題]

然而，近年來，隨著襯底的配線圖案的微細化發展，應對散焦(焦點偏移)變得重要。因此，進一步謀求對襯底的背面進行靜電裝夾時的背面的平坦化度。因此，由于需去除以往不成為問題的粒子或夾盤痕等，所以需要由刷子等以更強的壓力對襯底的背面進行洗凈。

然而，在專利文獻1的洗凈處理裝置中，在以更強的壓力對襯底的背面按壓刷子的情況下，襯底朝下方向變形為凸形狀，而有襯底破裂，或者襯底的器件形成面也就是下表面接觸于旋轉基座的問題點。

本發明是鑒于所述問題而完成的，目的在于提供一種既能抑制襯底損傷，又能以強壓力將襯底的背面洗凈的襯底處理裝置。

[解決問題的技術手段]

本發明的一方面的襯底處理裝置具備旋轉基座、多根夾盤銷、洗凈機構、及提升銷。所述旋轉基座設置為能以鉛直延伸的旋轉軸線為中心旋轉。所述多根夾盤銷配置在所述旋轉基座的周緣部。所述洗凈機構配置在襯底的上方，將所述襯底的上表面物理性洗凈。所述提升銷使所述襯底在第1高度位置、與比所述第1高度位置低的第2高度位置之間升降。所述多根夾盤銷構成為在所述第2高度位置將所述襯底水平固持。所述多根夾盤銷具有抵接面及對向面。所述抵接面于固持所述襯底時抵接于所述襯底。所述對向面從所述抵接面的下端朝相對于鉛直方向交叉的方向延伸。所述對向面在所述多根夾盤銷固持著所述襯底的狀態下，與所述襯底的下表面對向。在所述多根夾盤銷固持著所述襯底的狀態下，所述對向面與所述旋轉基座的周緣部的上表面相鄰，且，配置在與所述旋轉基座的周緣部的上表面大致相同的高度。所述旋轉基座于上表面具有噴出氣體的氣體噴出口。

在本發明的一方面中，襯底處理裝置中，也可為，在所述襯底因從所述氣體噴出口噴出的所述氣體而朝上方向變形為凸形狀的狀態下，所述洗凈機構將所述襯底的上表面洗凈。

在本發明的一方面中，襯底處理裝置中，也可為，所述旋轉基座的周緣部的上表面、與所述襯底的下表面的距離為2mm以下。

在本發明的一方面中，襯底處理裝置中，也可為，所述旋轉基座的周緣部的上表面、與所述襯底的下表面的距離為1mm以下。