[發明專利]襯底處理裝置

在審

• 申請號: 202211136698.0
• 申請日: 2022-09-19
• 公開（公告）號: CN115846259A
• 公開（公告）日: 2023-03-28
• 發明（設計）人: 安武陽介;中井仁司
• 申請（專利權）人: 株式會社斯庫林集團
• 主分類號: B08B1/02
• 分類號: B08B1/02;B08B1/00;B08B3/02;B08B13/00;H01L21/67
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 陳甜甜

1.一種襯底處理裝置，具備：

旋轉基座，設置為能以鉛直延伸的第1旋轉軸線為中心旋轉；

多根夾盤銷，配置在所述旋轉基座的周緣部；

洗凈機構，配置在襯底的上方，將所述襯底的上表面物理性洗凈；及

提升銷，使所述襯底在第1高度位置、與比所述第1高度位置低的第2高度位置之間升降；且

所述多根夾盤銷構成為在所述第2高度位置將所述襯底水平固持；

所述多根夾盤銷具有在固持所述襯底時抵接于所述襯底的抵接面、及從所述抵接面的下端朝相對于鉛直方向交叉的方向延伸的對向面；且

所述對向面在所述多根夾盤銷固持著所述襯底的狀態下，與所述襯底的下表面對向；

在所述多根夾盤銷固持著所述襯底的狀態下，所述對向面與所述旋轉基座的周緣部的上表面相鄰，且配置在與所述旋轉基座的周緣部的上表面大致相同的高度；

所述旋轉基座于上表面具有噴出氣體的氣體噴出口。

2.根據權利要求1所述的襯底處理裝置，其中在所述襯底因從所述氣體噴出口噴出的所述氣體而朝上方向變形為凸形狀的狀態下，所述洗凈機構將所述襯底的上表面洗凈。

3.根據權利要求1或2所述的襯底處理裝置，其中所述旋轉基座的周緣部的上表面、與所述襯底的下表面的距離為2mm以下。

4.根據權利要求3所述的襯底處理裝置，其中所述旋轉基座的周緣部的上表面、與所述襯底的下表面的距離為1mm以下。

5.根據權利要求3所述的襯底處理裝置，其中所述旋轉基座具有所述周緣部、及相對于所述周緣部配置在徑向內側的中央部；且

所述中央部的上表面配置在比所述周緣部的上表面低的位置。

6.根據權利要求5所述的襯底處理裝置，其中所述中央部的上表面為設置著所述氣體噴出口的平坦面。

7.根據權利要求1或2所述的襯底處理裝置，其中一邊從所述氣體噴出口每分鐘噴出100升以上的所述氣體，一邊由所述洗凈機構將所述襯底的上表面洗凈。

8.根據權利要求1或2所述的襯底處理裝置，其中所述洗凈機構包含被按壓到所述襯底的上表面的刷子。