[發明專利]布局生成方法、裝置、存儲介質及程序產品在審
| 申請號: | 202211131641.1 | 申請日: | 2022-09-15 |
| 公開(公告)號: | CN115640622A | 公開(公告)日: | 2023-01-24 |
| 發明(設計)人: | 劉志廣;王靚偉 | 申請(專利權)人: | 華為技術有限公司 |
| 主分類號: | G06F30/10 | 分類號: | G06F30/10 |
| 代理公司: | 北京格羅巴爾知識產權代理事務所(普通合伙) 11406 | 代理人: | 項軍花 |
| 地址: | 518129 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 布局 生成 方法 裝置 存儲 介質 程序 產品 | ||
本申請涉及一種布局生成方法、裝置、存儲介質及程序產品,所述方法包括:接收用戶輸入的與M個元素一一對應的特征屬性;根據與M個元素一一對應的特征屬性生成第一組隱空間向量;接收用戶輸入的尺寸參數;根據第一組隱空間向量得到與M個元素一一對應的第一幾何屬性,第一幾何屬性指示元素在畫布上的位置和大小,畫布的分辨率等于尺寸參數指示的分辨率;根據與M個元素一一對應的第一幾何屬性,在畫布上生成包括M個元素的布局。根據本申請實施例的布局生成方法,通過設置畫布的尺寸參數可調節,使得在生成布局時能夠在符合用戶需求的尺寸參數的畫布上生成布局,從而提升布局生成方式的靈活性,節省時間成本和人力資源成本。
技術領域
本申請涉及數據處理領域,尤其涉及一種布局生成方法、裝置、存儲介質及程序產品。
背景技術
平面布局生成的任務是使用文本、圖像、符號、標語等來生成具有視覺吸引力的布局設計。用戶可提供多種元素,如標語(logo),文案,商品圖,布局生成算法可生成包括用戶提供的多種元素的布局。布局生成算法可以廣泛應用用于平面(如文檔或幻燈片排版設計/廣告布局設計)和立體(三維空間布局設計如家具擺放)設計。
隨著人工智能的不斷發展,布局生成算法的能力也越來越全面。然而,現有技術的布局生成算法依然有諸多限制,例如需要預制布局模板等,預制好的模板通常具有固定的分辨率,這使得模板的分辨率不滿足應用場景需求時,仍需要人工對按照模板生成的布局進行調整,造成時間成本和人力成本的浪費。
發明內容
有鑒于此,提出了一種布局生成方法、裝置、存儲介質及程序產品,根據本申請實施例的布局生成方法,通過設置畫布的尺寸參數可調節,使得在生成布局時能夠在符合用戶需求的尺寸參數的畫布上生成布局,從而提升布局生成方式的靈活性,節省時間成本和人力資源成本。
第一方面,本申請的實施例提供了一種布局生成方法,所述方法包括:接收用戶輸入的與M個元素一一對應的特征屬性,所述特征屬性包括元素的類別,M≥1且為整數;根據所述與M個元素一一對應的特征屬性生成第一組隱空間向量,所述第一組隱空間向量包括與M個元素一一對應的M個隱空間向量;接收用戶輸入的尺寸參數,所述尺寸參數指示畫布的分辨率;根據所述第一組隱空間向量得到與M個元素一一對應的第一幾何屬性,所述第一幾何屬性指示元素在所述畫布上的位置和大小,所述畫布的分辨率等于所述尺寸參數指示的分辨率;根據所述與M個元素一一對應的第一幾何屬性,在所述畫布上生成包括所述M個元素的布局。
根據本申請實施例的布局生成方法,通過接收用戶輸入的與M個元素一一對應的特征屬性,且特征屬性包括元素的類別,使得可以根據與M個元素一一對應的特征屬性生成第一組隱空間向量,完成元素到隱空間中的向量的映射;通過接收用戶輸入的尺寸參數,尺寸參數指示畫布的分辨率,使得用戶可以通過調整尺寸參數實現對畫布分辨率的控制;根據第一組隱空間向量得到與M個元素一一對應的第一幾何屬性,第一幾何屬性指示元素在畫布上的位置和大小,使得可以完成隱空間中的向量到各元素的布局方式的映射;根據與M個元素一一對應的第一幾何屬性,在畫布上生成包括M個元素的布局,從而完成布局的生成。本申請實施例的布局生成方法通過設置畫布的尺寸參數可調節,使得在生成布局時能夠在符合用戶需求的尺寸參數的畫布上生成布局,從而提升布局生成方法的靈活性,節省時間成本和人力資源成本。
由于允許生成多種分辨率的布局,因此極大簡化了設計師為適配終端設備的多種屏幕尺寸不斷調整布局所耗費的時間。以屏幕尺寸對應10種分辨率為例,本申請實施例一般可減少設計師一半的設計時間。且針對不同尺寸參數,可以適配合適的布局定向方式,使得能夠完成布局重定向,進一步提升布局生成方法的靈活性。
根據第一方面,在所述布局生成方法的第一種可能的實現方式中,所述根據所述與M個元素一一對應的特征屬性生成第一組隱空間向量,包括:根據所述與M個元素一一對應的特征屬性,生成與M個元素一一對應的M個高斯分布;對所述M個高斯分布進行采樣,確定所述M個隱空間向量。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于華為技術有限公司,未經華為技術有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202211131641.1/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





