[發(fā)明專利]布局生成方法、裝置、存儲(chǔ)介質(zhì)及程序產(chǎn)品

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202211131641.1
• 申請(qǐng)日: 2022-09-15
• 公開（公告）號(hào): CN115640622A
• 公開（公告）日: 2023-01-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉志廣;王靚偉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 華為技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G06F30/10
• 分類號(hào): G06F30/10
• 代理公司: 北京格羅巴爾知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11406
• 代理人: 項(xiàng)軍花

1.一種布局生成方法，其特征在于，所述方法包括：

接收用戶輸入的與M個(gè)元素一一對(duì)應(yīng)的特征屬性，所述特征屬性包括元素的類別，M≥1且為整數(shù)；

根據(jù)所述與M個(gè)元素一一對(duì)應(yīng)的特征屬性生成第一組隱空間向量，所述第一組隱空間向量包括與M個(gè)元素一一對(duì)應(yīng)的M個(gè)隱空間向量；

接收用戶輸入的尺寸參數(shù)，所述尺寸參數(shù)指示畫布的分辨率；

根據(jù)所述第一組隱空間向量得到與M個(gè)元素一一對(duì)應(yīng)的第一幾何屬性，所述第一幾何屬性指示元素在所述畫布上的位置和大小，所述畫布的分辨率等于所述尺寸參數(shù)指示的分辨率；

根據(jù)所述與M個(gè)元素一一對(duì)應(yīng)的第一幾何屬性，在所述畫布上生成包括所述M個(gè)元素的布局。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述與M個(gè)元素一一對(duì)應(yīng)的特征屬性生成第一組隱空間向量，包括：

根據(jù)所述與M個(gè)元素一一對(duì)應(yīng)的特征屬性，生成與M個(gè)元素一一對(duì)應(yīng)的M個(gè)高斯分布；

對(duì)所述M個(gè)高斯分布進(jìn)行采樣，確定所述M個(gè)隱空間向量。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述與M個(gè)元素一一對(duì)應(yīng)的特征屬性生成第一組隱空間向量之前，所述方法還包括：

接收用戶輸入的與K個(gè)元素一一對(duì)應(yīng)的第一幾何屬性和特征屬性，所述K個(gè)元素與所述M個(gè)元素不同，K≥1且為整數(shù)；

所述根據(jù)所述與M個(gè)元素一一對(duì)應(yīng)的特征屬性生成第一組隱空間向量，還包括：

將所述與K個(gè)元素一一對(duì)應(yīng)的第一幾何屬性和特征屬性輸入到訓(xùn)練好的編碼器，所述編碼器輸出與所述K個(gè)元素一一對(duì)應(yīng)的K個(gè)高斯分布；

對(duì)所述K個(gè)高斯分布進(jìn)行采樣，確定K個(gè)隱空間向量，所述第一組隱空間向量還包括所述K個(gè)隱空間向量。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述與M個(gè)元素一一對(duì)應(yīng)的特征屬性生成第一組隱空間向量之前，所述方法還包括：

接收用戶輸入的與P個(gè)元素一一對(duì)應(yīng)的第一幾何屬性和特征屬性，P≥1且為整數(shù)；

根據(jù)所述與P個(gè)元素一一對(duì)應(yīng)的第一幾何屬性和特征屬性，以及與P個(gè)元素一一對(duì)應(yīng)的P個(gè)高斯分布，訓(xùn)練所述編碼器和解碼器。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述第一組隱空間向量得到與M個(gè)元素一一對(duì)應(yīng)的第一幾何屬性，包括：

將所述第一組隱空間向量輸入所述解碼器，所述解碼器輸出所述與M個(gè)元素一一對(duì)應(yīng)的第一幾何屬性。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述與M個(gè)元素一一對(duì)應(yīng)的特征屬性生成第一組隱空間向量之后，所述方法還包括：

接收用戶輸入的約束條件；

根據(jù)所述約束條件和所述第一組隱空間向量生成第二組隱空間向量，所述第二組隱空間向量包括與M個(gè)元素一一對(duì)應(yīng)的M個(gè)隱空間向量；

根據(jù)所述第二組隱空間向量得到與M個(gè)元素一一對(duì)應(yīng)的第二幾何屬性，所述第二幾何屬性指示元素在所述畫布上的位置和大小，所述第二幾何屬性指示的元素在所述畫布上的位置和大小滿足所述約束條件；

根據(jù)所述與M個(gè)元素一一對(duì)應(yīng)的第二幾何屬性，在所述畫布上生成包括所述M個(gè)元素的布局。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述約束條件包括：

針對(duì)所述M個(gè)元素中的任意元素，該元素在所述畫布中的位置和/或大小滿足第一預(yù)設(shè)條件，和/或

該元素與其他元素在所述畫布中的位置關(guān)系和/或大小關(guān)系滿足第二預(yù)設(shè)條件。

8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述約束條件和所述第一組隱空間向量生成第二組隱空間向量，包括：

根據(jù)所述約束條件和所述第一組隱空間向量，確定滿足所述約束條件的、包括所述M個(gè)元素的多種布局；

采用預(yù)設(shè)的布局打分函數(shù)，對(duì)所述多種布局進(jìn)行質(zhì)量評(píng)估；

根據(jù)質(zhì)量評(píng)估結(jié)果最高的布局生成所述第二組隱空間向量。