[發明專利]襯底支撐件、光刻設備和裝載方法

在審

• 申請號: 202211105510.6
• 申請日: 2017-03-21
• 公開（公告）號: CN115494703A
• 公開（公告）日: 2022-12-20
• 發明（設計）人: J·奧努勒;A·F·J·德格羅特;W·西門斯;D·F·弗勒斯
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/687
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 丁君軍

本發明涉及一種用于支撐襯底(W)的襯底支撐件(WT)。襯底支撐件包括主體(MB)、夾緊裝置(VC；VSO)和抖動裝置(DD)。主體包括用于支撐襯底(W)的支撐表面(S)。夾緊裝置被布置為提供夾緊力以將襯底夾緊在支撐表面上。抖動裝置被配置為抖動夾緊力。抖動裝置可以被配置為在襯底W被裝載到支撐表面上時抖動夾緊力。

分案說明

本申請是于2017年03月21日提交的申請號為201780024569.3、名稱為“襯底支撐件、光刻設備和裝載方法”的中國發明專利申請的分案申請。

相關申請的交叉引用

本申請要求于2016年4月20日提交的EP申請16166176.4的優先權，該申請通過引用整體并入本文。

技術領域

本發明涉及襯底支撐件、光刻設備和裝載方法。

背景技術

光刻設備是一種將期望圖案施加到襯底上、通常施加到襯底的目標部分上的機器。例如，光刻設備可以用于制造集成電路(IC)。在這種情況下，可以使用圖案化裝置(可選地稱為掩模或掩模版)來生成要形成在IC的單個層上的電路圖案。該圖案可以轉移到襯底(例如，硅晶片)上的目標部分(例如，包括一個或幾個管芯的部分)上。圖案的轉移通常經由到設置在襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上的成像來進行。通常，單個襯底將包含連續地圖案化的相鄰目標部分的網絡。傳統的光刻設備包括所謂的步進器和所謂的掃描儀，在步進器中，通過一次將整個圖案曝光到目標部分上來照射每個目標部分，在掃描儀中，通過在給定方向(“掃描”方向)上通過輻射束掃描圖案同時在與該方向平行或反平行的方向上掃描襯底來照射每個目標部分。還可以通過將圖案壓印到襯底上來將圖案從圖案化裝置轉移到襯底。

在光刻設備的已知實施例中，通過機器人將襯底裝載在襯底支撐件的支撐表面上，襯底支撐件在襯底的底側處保持襯底。為了能夠在基本上水平的支撐表面上裝載襯底，在襯底臺中提供三個裝載銷，也稱為e銷。裝載銷可以在伸出位置與縮回位置之間移動，在伸出位置，裝載銷的上端延伸到襯底臺上方，在縮回位置，裝載銷的上端縮回到襯底臺中。

在將襯底裝載到襯底臺上的過程中，機器人將襯底裝載在處于伸出位置的三個裝載銷上。由于襯底將被容納在延伸到支撐表面上方的裝載銷上，因此機器人可以被撤回，將襯底留在裝載銷上。

然后，裝載銷可以移動到縮回位置以將襯底放置在支撐表面上。支撐表面由設置在襯底臺的主體上并且從襯底臺的主體延伸的多個突節的上端限定。

襯底在裝載序列期間的形狀由以下因素限定：當被支撐在裝載銷上時襯底的重力下垂和可以例如由于先前的處理步驟而翹曲的襯底本身的形狀等。一旦裝載在支撐表面上，操縱最終襯底形狀的自由度有限。

結果，在裝載期間，襯底的不同部分通常將在不同時刻接觸支撐表面的突節。在襯底初始接觸一個或多個突節與襯底完全由突節支撐之間的時間段內，襯底的形狀從初始形狀(由襯底在重力下僅由三個裝載銷支撐而引起)改變為在由多個突節支撐時的最終形狀。通常，在該時間段期間，襯底的一些部分、特別是其外邊緣應當在突節上滑動，以使襯底以最佳的扁平形狀布置在支撐表面上。

此外，當襯底至少部分支撐在支撐表面上時，襯底可以夾緊在支撐表面上，例如通過真空夾具或靜電夾具。真空力或靜電力將使支撐表面上的不平坦的翹曲襯底變平并且將其向下拉到突節上。這種在支撐表面上向拉下襯底也應當導致襯底在支撐表面的突節上滑動，以使得襯底能夠基本上以最佳的扁平形狀布置在支撐表面上。

為了便于襯底在突節上滑動，有利的是使突節的摩擦力盡可能低。然而，這將導致在圖案化光束在襯底上的投射期間襯底相對容易地在襯底支撐件上滑動，特別是因為襯底支撐件和支撐在其上的襯底在投射過程中經受高的加速度和減速度。因此，不期望襯底支撐件、特別是突節的摩擦力降低而促進襯底在突節上滑動。