[發(fā)明專利]襯底支撐件、光刻設(shè)備和裝載方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202211105510.6
• 申請日: 2017-03-21
• 公開（公告）號: CN115494703A
• 公開（公告）日: 2022-12-20
• 發(fā)明（設(shè)計）人: J·奧努勒;A·F·J·德格羅特;W·西門斯;D·F·弗勒斯
• 申請（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/687
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所 11256
• 代理人: 丁君軍

1.一種用于支撐襯底的襯底支撐件，包括：

本體，包括用于支撐所述襯底的支撐表面；

真空夾緊系統(tǒng)，被配置為提供夾緊力以將所述襯底夾緊在所述支撐表面上；

處理裝置，被布置用于將所述襯底裝載到所述支撐表面上以及/或者被布置用于從所述支撐表面卸載所述襯底；以及

抖動裝置，

其中所述抖動裝置被布置為在從所述支撐表面卸載所述襯底時抖動所述夾緊力；并且

所述真空夾緊系統(tǒng)包括用于從所述支撐表面向真空源輸送流的真空導(dǎo)管，并且其中所述抖動裝置被布置為改變所述真空導(dǎo)管的截面。

2.一種用于支撐襯底的襯底支撐件，包括：

本體，包括用于支撐所述襯底的支撐表面；

真空夾緊系統(tǒng)，被配置為提供夾緊力用以將所述襯底夾緊在所述支撐表面上；

處理裝置，被布置用于將所述襯底裝載到所述支撐表面上以及/或者被布置用于從所述支撐表面卸載所述襯底；以及

抖動裝置，

其中所述抖動裝置被布置為在從所述支撐表面卸載所述襯底時抖動所述夾緊力；

所述抖動裝置被配置為施加壓力波；并且

所述壓力波在所述真空夾緊系統(tǒng)的真空導(dǎo)管中和/或在流經(jīng)冷卻系統(tǒng)回路或熱調(diào)節(jié)系統(tǒng)的流體中產(chǎn)生。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的襯底支撐件，其中所述抖動裝置包括被配置為產(chǎn)生所述壓力波的揚(yáng)聲器系統(tǒng)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的襯底支撐件，其中所述揚(yáng)聲器系統(tǒng)被布置在所述襯底上方，使得所述壓力波被發(fā)射到所述襯底的頂側(cè)上，以使所述襯底振動，以及/或者所述揚(yáng)聲器系統(tǒng)被布置在所述真空夾緊系統(tǒng)的真空導(dǎo)管中。

5.一種用于支撐襯底的襯底支撐件，所述襯底支撐件包括：

本體，包括被配置為支撐所述襯底的支撐表面；

夾緊裝置，被配置為提供夾緊力用以將所述襯底夾緊在所述支撐表面上；以及

抖動裝置，被配置為抖動由所述夾緊裝置施加的夾緊力的量，同時通過處理裝置、銷或其他結(jié)構(gòu)使所述襯底與至少所述支撐表面不接觸，

其中所述抖動裝置被配置為抖動由所述夾緊裝置提供的流體壓力，以產(chǎn)生沖擊所述襯底的波動氣體壓力，從而在所述襯底不與所述支撐表面接觸時引起所述襯底的振動；或者抖動由所述夾緊裝置提供的靜電荷，從而在所述襯底和所述夾緊裝置之間產(chǎn)生波動靜電荷，以在所述襯底不與所述支撐表面接觸時引起所述襯底的振動。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的襯底支撐件，其中所述夾緊裝置包括真空夾緊系統(tǒng)，其中所述夾緊力包括由所述真空夾緊系統(tǒng)提供的真空力，并且其中所述抖動裝置被布置為抖動所述真空力。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的襯底支撐件，其中所述夾緊裝置包括靜電夾具，其中所述夾緊力包括由所述靜電夾具提供的靜電力，并且其中所述抖動裝置被布置為抖動所述靜電力。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的襯底支撐件，其中所述抖動裝置被布置為生成信號，并且其中所述靜電夾具被配置為基于所述信號來提供所述靜電夾緊力。

9.根據(jù)權(quán)利要求5至8中任一項所述的襯底支撐件，其中所述抖動裝置被配置為在所述夾緊力從零增大到最大夾緊力的時段期間抖動所述夾緊力。

10.一種光刻設(shè)備，包括根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項所述的襯底支撐件。