[發明專利]一種用于檢測和傳輸樣品的裝置和方法

在審

• 申請號: 202211082643.6
• 申請日: 2022-09-06
• 公開（公告）號: CN115629519A
• 公開（公告）日: 2023-01-20
• 發明（設計）人: 熊金磊;溫興達;戴依熳;劉紅星
• 申請（專利權）人: 睿勵科學儀器（上海）有限公司
• 主分類號: G03F1/84
• 分類號: G03F1/84;H01L21/66;B65G47/74
• 代理公司: 北京啟坤知識產權代理有限公司 11655
• 代理人: 李琛

本申請實施例的目的是提供一種用于檢測和傳輸樣品的裝置和方法。本申請實施例的裝置包括檢測腔室組件、過渡腔室組件和放料腔室組件；其中，所述檢測腔室組件包括真空腔部分、光學部分和運動平臺；其中，所述過渡腔室組件包括腔室氣路部分和傳輸部分；其中，所述放料腔室組件包括放料腔室殼體和樣品放置支架。本申請實施例具有以下優點：能夠提供高潔凈度的檢測環境，保證樣品的高潔凈度，從而適應EUV Pellicle對檢測環境的高要求；能夠靈活地在多個腔室之間傳輸樣品，相比傳統的EUV Pellicle檢測方案進一步提升了EUV Pellicle檢測的效率和準確度。

技術領域

本發明涉及半導體領域，尤其涉及一種用于檢測和傳輸樣品的裝置和方法。

背景技術

隨著泛半導體設備加工特征尺寸的不斷縮小，如晶圓加工的關建尺寸、面板加工過程的分辨率等，樣品在加工或量測過程中，對于其附近的溫度、潔凈度等環境控制要求越來越高。

隨著半導體加工領域中光刻工藝節點由14nm、7nm進一步向5nm、3nm方向的發展，主流的極深紫外線(Extreme Ultraviolet Lithography，EUV)光刻機對光罩(mask)的薄膜(Pellicle)的諸如潔凈度、透射性、反射性等相關性能的要求越來越高。并且，由于EUV光線本身光學特性，要求檢測環境需為高真空，以降低損失。因此，對于Pellicle透射性、反射性的加工質檢、來料檢測及定期檢測，顯得尤為重要。

現有技術中常規的EUV Pellicle檢測方案包括：

方案一：低級別光線檢測；該方式檢測偏差大。

方案二：單光學真空檢測腔室；該方式潔凈度難保證、效率低。

發明內容

本申請實施例的目的是提供一種用于檢測和傳輸樣品的裝置和方法。

本申請實施例提供了一種用于檢測和傳輸樣品的裝置，其特征在于，所述裝置包括檢測腔室組件、過渡腔室組件和放料腔室組件；

其中，所述檢測腔室組件包括真空腔部分、光學部分和運動平臺；所述真空腔部分包括真空腔室殼體、抽真空部分、氣源部分、第一傳輸門閥和第一壓力傳感器；所述光學部分包括對準裝置、反射鏡、反射鏡調整架、第一檢測傳感器和第二檢測傳感器；所述運動平臺部分包括薄膜卡盤和運動電機組件；

其中，所述過渡腔室組件包括腔室氣路部分和傳輸部分；所述腔室氣路部分包括過渡腔室殼體、抽氣部分、填氣部分、第二傳輸門閥和第二壓力傳感器；

其中，所述放料腔室組件包括放料腔室殼體和樣品放置支架。

根據一個實施例，所述真空腔室殼體、過渡腔室殼體、和放料腔室殼體包括至少一個顆粒吸附裝置，所述顆粒吸附裝置用于吸附氣體中的顆粒。

根據一個實施例，所述氣源部分和抽氣部分中的至少一個包括一個或多個過濾裝置，所述一個或多個過濾裝置用于對氣體進行過濾。

根據一個實施例，獲得第一壓力傳感器和第二壓力傳感器的壓力信息的方式包括：

通過第一壓力傳感器和第二壓力傳感器包含的表盤來獲得壓力信息；

通過外線纜獲得所述第一壓力傳感器和第二壓力傳感器的壓力信息。

根據一個實施例，其特征在于，所述對準裝置包括一個或多個視覺或光學對準裝置。

根據一個實施例，所述傳輸部分為機械手。

根據一個實施例，所述放料腔組件包括用于打開或關閉腔室蓋板的開合鎖，該開合鎖為自動或手動。

根據一個實施例，所述樣品放置支架包括用于檢測樣品的傳感器，用于檢測是否放置樣品以及樣品是否放置到位。