[發明專利]一種用于檢測和傳輸樣品的裝置和方法在審
| 申請號: | 202211082643.6 | 申請日: | 2022-09-06 |
| 公開(公告)號: | CN115629519A | 公開(公告)日: | 2023-01-20 |
| 發明(設計)人: | 熊金磊;溫興達;戴依熳;劉紅星 | 申請(專利權)人: | 睿勵科學儀器(上海)有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/84 | 分類號: | G03F1/84;H01L21/66;B65G47/74 |
| 代理公司: | 北京啟坤知識產權代理有限公司 11655 | 代理人: | 李琛 |
| 地址: | 201203 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 檢測 傳輸 樣品 裝置 方法 | ||
1.一種用于檢測和傳輸樣品的裝置,其特征在于,所述裝置包括檢測腔室組件、過渡腔室組件和放料腔室組件;
其中,所述檢測腔室組件包括真空腔部分、光學部分和運動平臺;所述真空腔部分包括真空腔室殼體、抽真空部分、氣源部分、第一傳輸門閥和第一壓力傳感器;所述光學部分包括對準裝置、反射鏡、反射鏡調整架、第一檢測傳感器和第二檢測傳感器;所述運動平臺部分包括薄膜卡盤和運動電機組件;
其中,所述過渡腔室組件包括腔室氣路部分和傳輸部分;所述腔室氣路部分包括過渡腔室殼體、抽氣部分、填氣部分、第二傳輸門閥和第二壓力傳感器;
其中,所述放料腔室組件包括放料腔室殼體和樣品放置支架。
2.根據權利要求1所述的裝置,其特征在于,所述真空腔室殼體、過渡腔室殼體、和放料腔室殼體包括至少一個顆粒吸附裝置,所述顆粒吸附裝置用于吸附氣體中的顆粒。
3.根據權利要求1或2所述的裝置,其特征在于,所述氣源部分和抽氣部分中的至少一個包括一個或多個過濾裝置,所述一個或多個過濾裝置用于對氣體進行過濾。
4.根據權利要求1或2所述的裝置,其特征在于,根據一個實施例,獲得第一壓力傳感器和第二壓力傳感器的壓力信息的方式包括:
通過第一壓力傳感器和第二壓力傳感器包含的表盤來獲得壓力信息;
通過外線纜獲得所述第一壓力傳感器和第二壓力傳感器的壓力信息。
5.根據權利要求1或2所述的裝置,其特征在于,所述對準裝置包括一個或多個視覺或光學對準裝置。
6.根據權利要求1或2所述的裝置,其特征在于,所述傳輸部分為機械手。
7.根據權利要求1或2所述的裝置,其特征在于,所述放料腔組件包括用于打開或關閉腔室蓋板的開合鎖,該開合鎖為自動或手動。
8.根據權利要求1或2所述的裝置,其特征在于,所述樣品放置支架包括用于檢測樣品的傳感器,用于檢測是否放置樣品以及樣品是否放置到位。
9.一種使用如權利要求1至8中任一項所述的裝置進行樣品檢測的方法,所述方法包括:
需要檢測樣品時,將樣品放置于放料腔的樣品放置支架;
通過傳輸部分將樣品從樣品放置支架取下,并傳輸至過渡腔內;
將過渡腔室進行抽真空;
通過運動電機組件來帶動薄膜卡盤移動至上片位置;
通過傳輸部分將樣品傳輸至檢測腔內并放置于薄膜卡盤,并將傳輸部分退回至過渡腔內;
對樣品進行對準和檢測。
10.根據權利要求9所述的方法,其中,所述方法包括:
需要取回檢測腔中已完成檢測的樣品時,通過運動電機組件來帶動薄膜卡盤移動至下片位置;
通過傳輸部分將樣品傳輸至過渡腔內;
對過渡腔進行填氣;
通過傳輸部分將樣品傳輸至放料腔的樣品放置支架,并將傳輸部分退回至過渡腔內;
取出樣品放置支架上的樣品。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





