[發(fā)明專利]一種基板開銅通孔的增加芯片疊芯的TSV封裝方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202211081093.6 | 申請日: | 2022-09-05 |
| 公開(公告)號: | CN115376932A | 公開(公告)日: | 2022-11-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李凱;劉衛(wèi)東 | 申請(專利權(quán))人: | 華天科技(南京)有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/50 | 分類號: | H01L21/50;H01L21/56;H01L21/60;H01L23/492;H01L25/04 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202 | 代理人: | 黃小雪 |
| 地址: | 211806 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基板開銅通孔 增加 芯片 tsv 封裝 方法 | ||
1.一種基板開銅通孔的增加芯片疊芯的TSV封裝方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟一、將TSV芯片按來料厚度進(jìn)行減薄和劃片,將TSV芯片DieⅠ(3)、芯片DieⅡ(7)、芯片DieⅢ(8)切割成單顆芯片;
步驟二、FCA即倒裝貼芯片抓取TSV芯片DieⅠ(3)通過Bump球(2)貼基板(1);
步驟三、將有銅通孔和植有Bump球(2)的TSV芯片DieⅠ(3)和轉(zhuǎn)接TSV基板(4)經(jīng)過切割工序切割成單顆,TSV芯片DieⅠ(3)和轉(zhuǎn)接TSV基板(4)的銅通孔內(nèi)填充基板TSV銅(5)形成銅柱;
步驟四、TSV芯片DieⅠ(3)內(nèi)的銅柱和基板(1)上的Bump球(2)和轉(zhuǎn)接TSV基板(4)下層的Bump球(2)對應(yīng)連接,轉(zhuǎn)接TSV基板(4)的銅柱分別和芯片DieⅡ(7)和芯片DieⅢ(8)的管腳(6)對應(yīng)連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述步驟一中TSV芯片減薄的厚度為40~50um。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述步驟三中轉(zhuǎn)接TSV基板(4)上的芯片可設(shè)兩個以上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述步驟一中芯片DieⅡ(7)、芯片DieⅢ(8)上層繼續(xù)堆疊芯片,則在芯片DieⅡ(7)、芯片DieⅢ(8)上設(shè)銅通孔結(jié)構(gòu)。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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