[發(fā)明專利]涂布裝置、液滴噴出檢查方法

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• 申請日: 2022-09-05
• 公開（公告）號: CN115780171A
• 公開（公告）日: 2023-03-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 山崎貴弘;黒澤雅彥;岡部由孝;林俊宏
• 申請（專利權(quán)）人: 芝浦機械電子裝置株式會社
• 主分類號: B05C5/02
• 分類號: B05C5/02;B05C11/10
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 賀財俊;劉芳

1.一種涂布裝置，利用從包括多個噴嘴的噴墨式的涂布頭噴出的涂布液在基板上形成涂布膜，所述涂布裝置的特征在于包括：

所述涂布頭，對檢查用介質(zhì)噴出所述涂布液；

液滴拍攝部，對從所述涂布頭噴出的、所述檢查用介質(zhì)上的所述涂布液的液滴進行拍攝；以及

控制裝置，基于由所述液滴拍攝部獲得的拍攝圖像來求出液滴的面積，并基于所述液滴的面積來進行對所述噴嘴施加的噴出電壓的控制，

所述液滴拍攝部具有：

罩，覆蓋由從所述涂布頭的各噴嘴噴出至所述檢查用介質(zhì)上的所述涂布液所形成的液滴噴出區(qū)域；以及

攝像機，設(shè)在所述罩的上方，能夠經(jīng)由所述罩來拍攝所述檢查用介質(zhì)上的所述液滴，

所述罩與所述攝像機設(shè)置為，能夠作為一體而升降且能夠與所述檢查用介質(zhì)相對地移動。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，

所述罩為矩形狀，其兩邊分別具有所述液滴噴出區(qū)域的兩邊的兩倍以上的長度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的涂布裝置，其特征在于，

所述控制裝置基于所述攝像機的拍攝圖像來判斷所述罩的臟污或模糊的有無。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的涂布裝置，其特征在于，

所述液滴拍攝部對以規(guī)定間隔設(shè)在所述檢查用介質(zhì)的、除了所述液滴噴出區(qū)域以外的位置的臟污探測用的標記進行拍攝，

所述臟污探測用的標記是越從中心朝向外側(cè)則顏色變得越淡的圓形圖案，

所述控制裝置在由所述液滴拍攝部所拍攝的所述臟污探測用標記的面積低于預先規(guī)定的面積時，判斷為所述罩產(chǎn)生了臟污或模糊。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，

所述控制裝置在所述攝像機的拍攝圖像中所含的所述液滴的外緣部與所述液滴范圍外的邊界部分的對比度值低于預先規(guī)定的閾值時，判斷為所述罩存在臟污或模糊。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的涂布裝置，其特征在于，

所述涂布裝置還包括對所述涂布頭進行清掃的維護單元，

通過所述維護單元來實施所述罩的清掃。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的涂布裝置，其特征在于，

所述涂布裝置還包括對所述涂布頭進行清掃的維護單元，

當由所述控制裝置判斷為所述罩存在臟污或模糊時，實施所述維護單元對所述罩的清掃。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的涂布裝置，其特征在于，

所述涂布裝置還包括對所述涂布頭進行清掃的維護單元，

當由所述控制裝置判斷為所述罩存在臟污或模糊時，實施所述維護單元對所述罩的清掃。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的涂布裝置，其中，

在通過所述控制裝置而預先設(shè)定的時機，通過所述維護單元來實施所述涂布頭的清掃與所述罩的清掃。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的涂布裝置，其中，

在通過所述控制裝置而預先設(shè)定的時機，通過所述維護單元來實施所述涂布頭的清掃與所述罩的清掃。

11.一種液滴噴出檢查方法，其特征在于，其是對從包括多個噴嘴的噴墨式的涂布頭噴出的液滴的噴出良否進行檢查的方法，所述液滴噴出檢查方法具有下述工序：

從所述多個噴嘴對檢查用介質(zhì)噴出涂布液；

拍攝所述檢查用介質(zhì)上的所述涂布液的液滴；以及

基于所拍攝的所述液滴的圖像來求出所述液滴的面積，并基于所述液滴的面積來進行對所述噴嘴施加的噴出電壓的控制，

所述液滴的拍攝是利用罩來覆蓋由所述檢查用介質(zhì)上的液滴所形成的液滴噴出區(qū)域，且一邊使跟所述罩經(jīng)一體化的攝像機與所述檢查用介質(zhì)相對移動，一邊經(jīng)由所述罩來拍攝所述檢查用介質(zhì)上的所述液滴。