[發(fā)明專利]半導(dǎo)體封裝及其制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202211055697.3 | 申請日: | 2022-08-31 |
| 公開(公告)號: | CN115732444A | 公開(公告)日: | 2023-03-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李政昊;李斗煥 | 申請(專利權(quán))人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | H01L23/485 | 分類號: | H01L23/485;H01L21/48 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 紀雯;倪斌 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 封裝 及其 制造 方法 | ||
一種半導(dǎo)體封裝包括:再分布部,包括絕緣層、再分布層和再分布通孔;凸塊下金屬(UBM)層,在再分布部下方,并且UBM層包括在再分布部的下表面上的UBM焊盤和在UBM焊盤上以穿透絕緣層的UBM通孔;半導(dǎo)體芯片,在再分布部的上表面上,并電連接到再分布層;粘合層,在UBM層與絕緣層之間,并且包括導(dǎo)電材料;以及連接凸塊,在UBM焊盤下方,并連接到UBM層。UBM焊盤具有第一直徑,且UBM通孔具有小于第一直徑的第二直徑,以及UBM焊盤的上表面位于與絕緣層的下表面相同的高度處、或比絕緣層的下表面低的高度處。
相關(guān)申請的交叉引用
本申請要求于2021年9月1日在韓國知識產(chǎn)權(quán)局遞交的韓國專利申請No.10-2021-0116427的優(yōu)先權(quán),其全部公開通過引用并入本文以用于所有目的。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明構(gòu)思涉及一種半導(dǎo)體封裝及其制造方法。
背景技術(shù)
半導(dǎo)體封裝可以通過各種類型的連接凸塊安裝在諸如主板的基板上。為了半導(dǎo)體封裝與基板之間的穩(wěn)定電連接,凸塊下金屬(UBM)層設(shè)置在半導(dǎo)體封裝的再分布層與連接凸塊之間。
發(fā)明內(nèi)容
示例實施例提供了一種具有改進的可靠性和批量生產(chǎn)率的半導(dǎo)體封裝及其制造方法。
根據(jù)一些示例實施例,一種半導(dǎo)體封裝包括:再分布部,包括絕緣層、在絕緣層上的再分布層、以及與再分布層連接的再分布通孔;凸塊下金屬(UBM)層,該UBM層包括在再分布部的下表面上的UBM焊盤和在UBM焊盤上的UBM通孔,UBM通孔穿透絕緣層;半導(dǎo)體芯片,在再分布部的上表面上,并且電連接到再分布層;粘合層,在UBM層與絕緣層之間,粘合層包括導(dǎo)電材料;以及連接凸塊,在UBM焊盤下方,并連接到UBM層。UBM焊盤具有第一直徑,并且UBM通孔具有小于第一直徑的第二直徑,以及UBM焊盤的上表面位于與絕緣層的下表面相同的高度處、或比絕緣層的下表面低的高度處。
根據(jù)一些示例實施例,一種半導(dǎo)體封裝包括:再分布部,包括絕緣層、在絕緣層上的再分布層、以及與再分布層連接的再分布通孔;凸塊下金屬(UBM)層,在再分布部的下表面下方,并連接到再分布通孔;半導(dǎo)體芯片,在再分布部的上表面上,并電連接到再分布層;粘合層,在再分布部的下表面上并且在UBM層與絕緣層之間;以及連接凸塊,在UBM焊盤下方,并連接到UBM層。UBM層的晶體結(jié)構(gòu)與再分布層的晶體結(jié)構(gòu)不同。
根據(jù)一些示例實施例,一種半導(dǎo)體封裝包括:再分布部,包括絕緣層和在絕緣層上的再分布結(jié)構(gòu);凸塊下金屬(UBM)層,在再分布部下方,UBM層包括在再分布部的下表面下方的UBM焊盤和在絕緣層中、在UBM焊盤上的UBM通孔,并且UBM通孔將再分布結(jié)構(gòu)和UBM焊盤連接;半導(dǎo)體芯片,在再分布部的上表面上,并電連接到再分布結(jié)構(gòu);以及連接凸塊,在UBM焊盤下方,并連接到UBM焊盤。當在截面中觀察時,UBM焊盤的上端具有第一寬度,且UBM焊盤的下端具有小于第一寬度的第二寬度,以及UBM通孔的上端具有第三寬度,且UBM通孔的下端具有大于第三寬度的第四寬度。
根據(jù)示例實施例,一種制造半導(dǎo)體封裝的方法包括:在包括銅箔層的載體基板的上表面上形成第一掩模層;使用第一掩模層來圖案化金屬箔層,使得金屬箔層的第一表面的至少一部分被去除第一厚度;在金屬箔層上形成再分布部,再分布部包括絕緣層和再分布結(jié)構(gòu);將半導(dǎo)體芯片安裝在再分布部上;用封裝層密封半導(dǎo)體芯片;去除載體基板的一部分,使得金屬箔層保留在再分布部上;使用第二掩模層來圖案化金屬箔層,使得金屬箔層的第二表面的至少一部分被去除第二厚度,并且絕緣層的至少一部分被暴露。包括具有第一厚度的凸塊下金屬(UBM)通孔和具有第二厚度的UBM焊盤的UBM層由保留的銅箔層形成。
附圖說明
通過結(jié)合附圖的以下詳細描述,將更清楚地理解本發(fā)明構(gòu)思的上述和其他方面、特征和優(yōu)點,其中:
圖1是根據(jù)一些示例實施例的半導(dǎo)體封裝的示意性截面圖;
圖2是根據(jù)一些示例實施例的半導(dǎo)體封裝的示意性局部放大圖;
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