[發(fā)明專利]基片位置異常的檢測(cè)方法與檢測(cè)裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202211042514.4
• 申請(qǐng)日: 2022-08-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN115289969A
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-11-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳標(biāo)平;吳洽;聶鵬
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中山凱旋真空科技股份有限公司
• 主分類號(hào): G01B11/00
• 分類號(hào): G01B11/00;G06T7/73
• 代理公司: 北京律智知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11438
• 代理人: 闞梓瑄

本公開(kāi)實(shí)施例提供了一種基片位置異常的檢測(cè)方法與檢測(cè)裝置，該檢測(cè)方法包括：獲取基片分別位于機(jī)械手和轉(zhuǎn)架上時(shí)的標(biāo)準(zhǔn)圖像；獲取基片重新分別位于機(jī)械手或轉(zhuǎn)架上時(shí)的檢測(cè)圖像；判斷所述標(biāo)準(zhǔn)圖像中預(yù)設(shè)特征的位置與所述檢測(cè)圖像中所述預(yù)設(shè)特征的位置之間偏差是否在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)；若不在所述預(yù)設(shè)范圍內(nèi)，則判斷所述基片重新位于機(jī)械手或轉(zhuǎn)架上的位置異常。本公開(kāi)提供的基片位置異常的檢測(cè)方法，能夠通過(guò)視覺(jué)檢測(cè)方式識(shí)別基片位置是否異常。

技術(shù)領(lǐng)域

本公開(kāi)涉及鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種基片位置異常的檢測(cè)方法與基片位置異常的檢測(cè)裝置。

背景技術(shù)

常見(jiàn)的鍍膜機(jī)具有自動(dòng)上下基片功能，通常包括裝載腔、傳輸腔和工藝腔。傳輸腔有一真空機(jī)械手，負(fù)責(zé)將裝載腔中的基片搬運(yùn)到工藝腔，或者從工藝腔搬運(yùn)到裝載腔。由于裝載腔、傳輸腔和工藝腔工作時(shí)均為真空狀態(tài)，而用于驅(qū)動(dòng)機(jī)械手運(yùn)動(dòng)和轉(zhuǎn)架旋轉(zhuǎn)的伺服電機(jī)不能在真空下工作，所以在傳輸腔和工藝腔上分別設(shè)置磁流體進(jìn)行密封。

工藝腔上的轉(zhuǎn)架伺服電機(jī)通過(guò)聯(lián)軸器和磁流體一端連接，磁流體另一端也通過(guò)聯(lián)軸器和工件轉(zhuǎn)架連接。傳輸腔上的機(jī)械手驅(qū)動(dòng)電機(jī)通過(guò)聯(lián)軸器和另一磁流體一端連接，磁流體的另一端也是通過(guò)聯(lián)軸器和機(jī)械手取片機(jī)構(gòu)連接。

在系統(tǒng)運(yùn)行過(guò)程中，只要有一個(gè)聯(lián)軸器打滑，都會(huì)造成運(yùn)動(dòng)部件位置不準(zhǔn)確，從而造成基片位置異常。

需要說(shuō)明的是，在上述背景技術(shù)部分公開(kāi)的信息僅用于加強(qiáng)對(duì)本公開(kāi)的背景的理解，因此可以包括不構(gòu)成對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員已知的現(xiàn)有技術(shù)的信息。

發(fā)明內(nèi)容

本公開(kāi)實(shí)施例的目的在于提供一種基片手位置異常的檢測(cè)方法與檢測(cè)裝置，能夠通過(guò)視覺(jué)檢測(cè)方式識(shí)別機(jī)基片的狀態(tài)是否異常。

本公開(kāi)的其他特性和優(yōu)點(diǎn)將通過(guò)下面的詳細(xì)描述變得顯然，或部分地通過(guò)本公開(kāi)的實(shí)踐而習(xí)得。

根據(jù)本公開(kāi)實(shí)施例的一個(gè)方面，提供了一種基片位置異常的檢測(cè)方法，該檢測(cè)方法包括：

獲取基片分別位于機(jī)械手和轉(zhuǎn)架上時(shí)的標(biāo)準(zhǔn)圖像；

獲取基片重新分別位于機(jī)械手或轉(zhuǎn)架上時(shí)的檢測(cè)圖像；

判斷所述標(biāo)準(zhǔn)圖像中預(yù)設(shè)特征的位置與所述檢測(cè)圖像中所述預(yù)設(shè)特征的位置之間偏差是否在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)；

若不在所述預(yù)設(shè)范圍內(nèi)，則判斷所述基片重新位于機(jī)械手或轉(zhuǎn)架上的位置異常。

在本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中，所述檢測(cè)方法還包括：

若在所述預(yù)設(shè)范圍內(nèi)，則判斷所述基片重新位于機(jī)械手或轉(zhuǎn)架上的位置正常。

在本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中，所述預(yù)設(shè)特征為多個(gè)特征點(diǎn)，包括位于所述基片上的結(jié)構(gòu)特征、位于機(jī)械手上的結(jié)構(gòu)特征和位于轉(zhuǎn)架上的結(jié)構(gòu)特征。

在本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中，所述預(yù)設(shè)特征為線特征。

在本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中，所述機(jī)械手上設(shè)有多個(gè)第一特征；當(dāng)在所述檢測(cè)圖像未識(shí)別出所述第一特征，則判斷所述基片在所述機(jī)械手上懸掛到位；當(dāng)在所述檢測(cè)圖像識(shí)別出所述多個(gè)第一特征，則判斷所述機(jī)械手上未掛所述基片；當(dāng)在所述檢測(cè)圖像識(shí)別出部分所述第一特征，則判斷所述基片在所述機(jī)械手上未掛到位；

所述轉(zhuǎn)架上設(shè)有多個(gè)第二特征；當(dāng)在所述檢測(cè)圖像未識(shí)別出所述第二特征，則判斷所述基片在所述機(jī)械手上懸掛到位；當(dāng)在所述檢測(cè)圖像識(shí)別出所述多個(gè)第二特征，則判斷所述轉(zhuǎn)架上未掛所述基片；當(dāng)在所述檢測(cè)圖像識(shí)別出部分所述第二特征，則判斷所述基片在所述轉(zhuǎn)架上未懸掛到位。

在本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中，所述標(biāo)準(zhǔn)圖像與所述檢測(cè)圖像的邊界位置一致。

根據(jù)本公開(kāi)實(shí)施例的另一個(gè)方面，提供了一種基片位置異常的檢測(cè)裝置，該檢測(cè)裝置包括：