[發(fā)明專利]基片位置異常的檢測方法與檢測裝置

在審

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• 申請日: 2022-08-29
• 公開（公告）號: CN115289969A
• 公開（公告）日: 2022-11-04
• 發(fā)明（設計）人: 吳標平;吳洽;聶鵬
• 申請（專利權）人: 中山凱旋真空科技股份有限公司
• 主分類號: G01B11/00
• 分類號: G01B11/00;G06T7/73
• 代理公司: 北京律智知識產(chǎn)權代理有限公司 11438
• 代理人: 闞梓瑄

1.一種基片位置異常的檢測方法，其特征在于，包括：

獲取基片分別位于機械手和轉架上時的標準圖像；

獲取基片重新分別位于機械手或轉架上時的檢測圖像；

判斷所述標準圖像中預設特征的位置與所述檢測圖像中所述預設特征的位置之間偏差是否在預設范圍內；

若不在所述預設范圍內，則判斷所述基片重新位于機械手或轉架上的位置異常。

2.根據(jù)權利要求1所述的檢測方法，其特征在于，所述檢測方法還包括：

若在所述預設范圍內，則判斷所述基片重新位于機械手或轉架上的位置正常。

3.根據(jù)權利要求1所述的檢測方法，其特征在于，所述預設特征為多個特征點，包括位于所述基片上的結構特征、位于機械手上的結構特征和位于轉架上的結構特征。

4.根據(jù)權利要求1所述的檢測方法，其特征在于，所述預設特征為線特征。

5.根據(jù)權利要求1所述的檢測方法，其特征在于，所述機械手上設有多個第一特征；當在所述檢測圖像未識別出所述第一特征，則判斷所述基片在所述機械手片上懸掛到位；當在所述檢測圖像識別出所述多個第一特征，則判斷所述機械手上未掛所述基片；當在所述檢測圖像識別出部分所述第一特征，則判斷所述基片在所述機械手上未掛到位；

所述轉架上設有多個第二特征；當在所述檢測圖像未識別出所述第二特征，則判斷所述基片在所述轉架上懸掛到位；當在所述檢測圖像識別出所述多個第二特征，則判斷所述轉架上未掛所述基片；當在所述檢測圖像識別出部分所述第二特征，則判斷所述基片在所述轉架上未懸掛到位。

6.根據(jù)權利要求1所述的檢測方法，其特征在于，所述標準圖像與所述檢測圖像的邊界位置一致。

7.一種基片位置異常的檢測裝置，其特征在于，包括：

圖像獲取模塊，用于獲取基片分別位于機械手和轉架上時的標準圖像，以及基片重新分別位于機械手或轉架上時的檢測圖像；

圖像對比模塊，與所述圖像獲取模塊連接，所述圖像對比模塊被配置為判斷所述標準圖像中預設特征的位置與所述檢測圖像中所述預設特征的位置之間偏差是否在預設范圍內；

輸出模塊，與所述圖像對比模塊連接，若所述標準圖像中預設特征的位置與所述檢測圖像中所述預設特征的位置之間偏差不在所述預設范圍內，則輸出所述基片重新位于機械手或轉架上位置異常的信息。

8.根據(jù)權利要求7所述的檢測裝置，其特征在于，若所述標準圖像中預設特征的位置與所述檢測圖像中所述預設特征的位置之間偏差在所述預設范圍內，則輸出所述基片重新位于機械手或轉架上位置正常的信息。

9.根據(jù)權利要求7所述的檢測裝置，其特征在于，所述機械手上設有多個第一特征；當所述圖像對比模塊在所述檢測圖像未識別出所述第一特征，則所述輸出模塊輸出所述基片在所述機械手上懸掛到位的信息；當所述圖像對比模塊在所述檢測圖像識別出所述多個第一特征，則所述輸出模塊輸出所述機械手上未掛所述基片的信息；當所述圖像對比模塊在所述檢測圖像識別出部分所述第一特征，則所述輸出模塊輸出所述基片在所述機械手上未掛到位的信息；

所述轉架上設有多個第二特征；當所述圖像對比模塊在所述檢測圖像未識別出所述第二特征，則所述輸出模塊輸出所述基片在所述機械手上懸掛到位的信息；當所述圖像對比模塊在所述檢測圖像識別出所述多個第二特征，則所述輸出模塊輸出所述轉架上未掛所述基片的信息；當所述圖像對比模塊在所述檢測圖像識別出部分所述第二特征，則所述輸出模塊輸出所述基片在所述轉架上未懸掛到位的信息。

10.根據(jù)權利要求8所述的檢測裝置，其特征在于，所述檢測裝置還包括：

顯示模塊，與所述輸出模塊連接，用于顯示所述輸出模塊輸出端的所述位置異常的信息和所述位置正常的信息；

控制模塊，與所述圖像獲取模塊、所述圖像對比模塊、所述輸出模塊及所述顯示模塊連接。