[發明專利]用于以層特定照明光譜的計量的系統及方法在審
| 申請號: | 202210942537.4 | 申請日: | 2018-03-28 |
| 公開(公告)號: | CN115307735A | 公開(公告)日: | 2022-11-08 |
| 發明(設計)人: | A·瑪納森;D·內格里;A·V·希爾;O·巴沙爾;V·萊溫斯基;Y·帕斯卡維爾 | 申請(專利權)人: | 科磊股份有限公司 |
| 主分類號: | G01J3/28 | 分類號: | G01J3/28;G01J3/02 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287 | 代理人: | 劉麗楠 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 特定 照明 光譜 計量 系統 方法 | ||
本申請實施例涉及用于以層特定照明光譜的計量的系統及方法。本發明涉及一種計量系統,其包含圖像裝置及控制器。所述圖像裝置包含光譜可調照明裝置及檢測器,所述檢測器用于基于響應于來自所述光譜可調照明裝置的照明而從所述樣本發出的輻射產生具有兩個或兩個以上樣本層上的計量目標元件的樣本的圖像。所述控制器確定所述成像裝置的層特定成像配置以在所選擇的圖像質量容限內成像所述兩個或兩個以上樣本層上的所述計量目標元件,其中每一層特定成像配置包含來自所述光譜可調照明裝置的照明光譜。所述控制器進一步接收使用所述層特定成像配置產生的所述兩個或兩個以上樣本層上的所述計量目標元件的一或多個圖像。
本申請是申請日為2018年3月28日、申請號為“201880023805.4”、發明名稱為“用于以層特定照明光譜的計量的系統及方法”的發明專利申請的分案申請。
本申請案與下列申請相關并主張享有其最早有效申請日的權益:本申請構成2017年5月30日提交的第15/608,766號美國專利申請的繼續申請,該美國專利申請是主張2017年4月5日提交的第62/481,685號美國臨時申請案的權益的常規(非臨時)專利申請,其中如上所述每一案以全文引用的方式并入本文中。
技術領域
本發明大體上涉及計量系統,且更特定來說,涉及以層特定配置的多層計量。
背景技術
適合于特性化多層樣本(例如半導體裝置)的計量系統可分析樣本上的任何數目個層。然而,任何給定層的計量測量可受到周圍材料影響,使得計量系統的給定配置無法針對所有樣本層提供相同程度的性能(例如,精確度、可重復性或類似物)。例如,次表面層的計量可涉及使照明光束傳播穿過靠近所述表面的一或多個透明或半透明層且穿過所述透明或半透明層接收來自所述次表面層的輻射。因此,計量性能可為高度層特定的且可取決于所述樣本布局的特定方面,例如(但不限于)樣本層的厚度、樣本層的光學性質或樣本層上的圖案化特征。因此,期望提供用于消除缺陷(例如上文所認識到的所述缺陷)的系統及方法。
發明內容
根據本發明的一或多個說明性實施例揭示計量系統。在一個說明性實施例中,所述系統包含成像子系統,所述成像子系統包括一或多個透鏡以及檢測器,其用于基于來自照明源的照明而使樣本成像,其中所述樣本包含兩個或兩個以上樣本層上的計量目標元件。在另一說明性實施例中,所述系統包含控制器。在另一說明性實施例中,所述控制器確定所述成像子系統的層特定成像配置以在所選擇的圖像質量容限內成像所述兩個或兩個以上樣本層上的計量目標元件,其中每一層特定成像配置包含所述成像子系統的一或多個組件的所選擇配置。在另一說明性實施例中,所述控制器從所述成像子系統接收使用所述層特定成像配置產生的所述兩個或兩個以上樣本層上的計量目標元件的一或多個圖像。在另一說明性實施例中,所述控制器基于所述兩個或兩個以上樣本層上的計量目標元件的一或多個圖像提供計量測量。
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