[發(fā)明專(zhuān)利]用于以層特定照明光譜的計(jì)量的系統(tǒng)及方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210942537.4 | 申請(qǐng)日: | 2018-03-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN115307735A | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-11-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | A·瑪納森;D·內(nèi)格里;A·V·希爾;O·巴沙爾;V·萊溫斯基;Y·帕斯卡維爾 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 科磊股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01J3/28 | 分類(lèi)號(hào): | G01J3/28;G01J3/02 |
| 代理公司: | 北京律盟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287 | 代理人: | 劉麗楠 |
| 地址: | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 特定 照明 光譜 計(jì)量 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種計(jì)量系統(tǒng),其包括:
成像子系統(tǒng),其包括一或多個(gè)透鏡以及檢測(cè)器,所述檢測(cè)器經(jīng)配置以基于來(lái)自照明源的照明而使樣本成像,所述樣本包含兩個(gè)或更多個(gè)樣本層上的計(jì)量目標(biāo)元件;及
控制器,其可通信地耦合到所述成像子系統(tǒng),所述控制器包含經(jīng)配置以執(zhí)行程序指令的一或多個(gè)處理器,所述程序指令經(jīng)配置以使所述一或多個(gè)處理器:
確定所述成像子系統(tǒng)的層特定成像配置以在所選擇的圖像質(zhì)量容限內(nèi)成像所述兩個(gè)或更多個(gè)樣本層上的所述計(jì)量目標(biāo)元件,其中每一層特定成像配置包含所述成像子系統(tǒng)的一或多個(gè)組件的所選擇配置;
從所述成像子系統(tǒng)接收使用所述層特定成像配置產(chǎn)生的所述兩個(gè)或更多個(gè)樣本層上的所述計(jì)量目標(biāo)元件的一或多個(gè)圖像;及
基于所述兩個(gè)或更多個(gè)樣本層上的所述計(jì)量目標(biāo)元件的所述一或多個(gè)圖像提供計(jì)量測(cè)量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的計(jì)量系統(tǒng),其中所述層特定成像配置進(jìn)一步包含所述檢測(cè)器的圖像獲取參數(shù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的計(jì)量系統(tǒng),其中所述檢測(cè)器的所述圖像獲取參數(shù)包含增益或積分時(shí)間中的至少一者。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的計(jì)量系統(tǒng),其中所述成像子系統(tǒng)包含具有可調(diào)整位置的孔徑光闌,其中所述層特定成像配置進(jìn)一步包含用于提供所選擇的焦闌容限內(nèi)的所述樣本的焦闌照明的所述孔徑光闌的位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的計(jì)量系統(tǒng),其中所述成像子系統(tǒng)包含具有可調(diào)整位置的孔徑光闌,其中所述層特定成像配置進(jìn)一步包含用于提供所選擇的焦闌容限內(nèi)的所述樣本的焦闌成像的所述孔徑光闌的位置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的計(jì)量系統(tǒng),其中所述成像子系統(tǒng)包含載物臺(tái),所述載物臺(tái)用于將所述樣本定位于所述成像子系統(tǒng)的可調(diào)整焦點(diǎn)位置處,其中所述層特定成像配置進(jìn)一步包含所述樣本的焦點(diǎn)位置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的計(jì)量系統(tǒng),其中所處成像子系統(tǒng)包含偏光器,所述偏光器用于調(diào)整來(lái)自所述照明源的照明的偏振,其中所述層特定成像配置進(jìn)一步包含所述樣本上的照明的偏振。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的計(jì)量系統(tǒng),其中所述成像子系統(tǒng)按序列提供與所述成像子系統(tǒng)的所述層特定成像配置相關(guān)聯(lián)的兩個(gè)或更多個(gè)照明光譜,其中所述兩個(gè)或更多個(gè)樣本層上的所述計(jì)量目標(biāo)元件的所述一或多個(gè)圖像包含所述兩個(gè)或更多個(gè)樣本層的單獨(dú)圖像,其中所述檢測(cè)器基于所述兩個(gè)或更多個(gè)照明光譜按序列產(chǎn)生所述兩個(gè)或更多個(gè)樣本層的所述單獨(dú)圖像。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的計(jì)量系統(tǒng),其中所述成像子系統(tǒng)同時(shí)提供與所述層特定成像配置相關(guān)聯(lián)的兩個(gè)或更多個(gè)空間分離的照明光譜,其中由所述檢測(cè)器產(chǎn)生的所述兩個(gè)或更多個(gè)樣本層上的所述計(jì)量目標(biāo)元件的所述一或多個(gè)圖像包含單個(gè)圖像。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的計(jì)量系統(tǒng),其中所述成像子系統(tǒng)包括:
寬帶照明源;及
一或多個(gè)光譜濾波器,其用于修改所述寬帶照明源的所述光譜。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的計(jì)量系統(tǒng),其中所述寬帶照明源包括:
超連續(xù)激光源。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的計(jì)量系統(tǒng),其中所述寬帶照明源包括:
激光泵浦等離子體照明源或燈源中的至少一者。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的計(jì)量系統(tǒng),其中所述成像子系統(tǒng)進(jìn)一步包括:
兩個(gè)或更多個(gè)窄帶照明源;及
光束組合器或光閘中的至少一者,以用于選擇來(lái)自所述兩個(gè)或更多個(gè)窄帶照明源中的至少一者的照明以用于成像所述樣本。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的計(jì)量系統(tǒng),其中所述兩個(gè)或更多個(gè)窄帶照明源的窄帶照明源包括:
激光源或經(jīng)光譜過(guò)濾的寬帶照明源中的至少一者。
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