[發(fā)明專利]成像光學(xué)系統(tǒng)、相機(jī)模塊及電子裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202210936138.7
• 申請(qǐng)日: 2022-08-05
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN115951471A
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-04-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張沛頎;張建邦;賴昱辰;周明達(dá);蔡溫祐;朱國(guó)強(qiáng)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 大立光電股份有限公司
• 主分類號(hào): G02B13/00
• 分類號(hào): G02B13/00;G02B13/14;G02B1/118;G02B1/11;G03B17/12;G03B30/00
• 代理公司: 北京律誠(chéng)同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國(guó)

一種成像光學(xué)系統(tǒng)、相機(jī)模塊及電子裝置，成像光學(xué)系統(tǒng)沿一中心光路依序包含一紅外光吸收元件、一紅外光減少膜層及一平板元件。紅外光吸收元件為紅外光吸收塑膠元件，且紅外光吸收元件用以折射光線。紅外光減少膜層較紅外光吸收元件的一入光面靠近成像光學(xué)系統(tǒng)的一成像面。平板元件設(shè)置于紅外光減少膜層與成像面之間且為一體成型，平板元件包含一透光部與一支架部，其中透光部與成像面對(duì)應(yīng)設(shè)置，支架部環(huán)繞透光部，使透光部保持于中心光路上的一特定位置。借此，可改善光學(xué)品質(zhì)。

技術(shù)領(lǐng)域

本揭示內(nèi)容是關(guān)于一種成像光學(xué)系統(tǒng)與相機(jī)模塊，且特別是一種應(yīng)用在可攜式電子裝置上的成像光學(xué)系統(tǒng)與相機(jī)模塊。

背景技術(shù)

近年來(lái)，可攜式電子裝置發(fā)展快速，例如智能電子裝置、平板計(jì)算機(jī)等，已充斥在現(xiàn)代人的生活中，而裝載在可攜式電子裝置上的相機(jī)模塊與其成像光學(xué)系統(tǒng)也隨之蓬勃發(fā)展。但隨著科技愈來(lái)愈進(jìn)步，使用者對(duì)于成像光學(xué)系統(tǒng)與相機(jī)模塊的品質(zhì)要求也愈來(lái)愈高。

具體而言，現(xiàn)有相機(jī)模塊中，濾光片設(shè)置于成像鏡頭與感光元件之間，其中濾光片可用于過(guò)濾紅外光、紫外光等，但不以此為限。濾光片通常亦可用于保護(hù)感光元件，避免微塵附著于感光元件的感光面。然而，濾光片在強(qiáng)光照射的情況下容易形成鬼影，且由于組裝需求及對(duì)濾除光線的需求，故濾光片的尺寸受到限制，進(jìn)而影響成像光學(xué)系統(tǒng)的后焦，導(dǎo)致設(shè)計(jì)高品質(zhì)、小體積的成像光學(xué)系統(tǒng)變得困難。因此，發(fā)展一種可提升設(shè)計(jì)自由度的成像光學(xué)系統(tǒng)遂成為產(chǎn)業(yè)上重要且急欲解決的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

本揭示內(nèi)容提供一種成像光學(xué)系統(tǒng)、相機(jī)模塊及電子裝置，通過(guò)低反射膜層、疏密結(jié)構(gòu)層或抗反射多膜層與紅外光吸收元件、紅外光減少膜層的配置達(dá)到提升成像光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)自由度以獲得改善光學(xué)品質(zhì)或減小體積等效果。

依據(jù)本揭示內(nèi)容一實(shí)施方式提供一種成像光學(xué)系統(tǒng)，沿一中心光路依序包含一紅外光吸收元件、一紅外光減少膜層及一平板元件。紅外光吸收元件為紅外光吸收塑膠元件，且紅外光吸收元件用以折射光線。紅外光減少膜層較紅外光吸收元件的一入光面靠近成像光學(xué)系統(tǒng)的一成像面。平板元件設(shè)置于紅外光減少膜層與成像面之間且為一體成型，平板元件包含一透光部與一支架部，其中透光部與成像面對(duì)應(yīng)設(shè)置，支架部環(huán)繞透光部，使透光部保持于中心光路上的一特定位置。平板元件還包含一疏密結(jié)構(gòu)層，疏密結(jié)構(gòu)層設(shè)置于透光部的一入光面與一出光面中至少一者，疏密結(jié)構(gòu)層往一空氣方向漸疏，且在透光部的入光面與出光面中至少一者形成多個(gè)孔洞。疏密結(jié)構(gòu)層的主要材質(zhì)為陶瓷，且疏密結(jié)構(gòu)層對(duì)波長(zhǎng)區(qū)間420nm至680nm的一光線的平均反射率小于0.98％。疏密結(jié)構(gòu)層的晶體平均高度為GH，成像光學(xué)系統(tǒng)的焦距為f，紅外光吸收元件與紅外光減少膜層沿中心光路的距離為L(zhǎng)1，紅外光減少膜層與疏密結(jié)構(gòu)層沿中心光路的距離為L(zhǎng)2，其滿足以下條件：60nm≤GH≤400nm；0.0≤L1/f≤0.21；以及0.21≤L2/f。

依據(jù)前段所述實(shí)施方式的成像光學(xué)系統(tǒng)，其中疏密結(jié)構(gòu)層對(duì)波長(zhǎng)區(qū)間400nm至900nm的一光線的平均反射率可小于0.98％。

依據(jù)前段所述實(shí)施方式的成像光學(xué)系統(tǒng)，其中疏密結(jié)構(gòu)層對(duì)波長(zhǎng)區(qū)間400nm至900nm的一光線的平均反射率可小于0.5％。

依據(jù)前段所述實(shí)施方式的成像光學(xué)系統(tǒng)，其中疏密結(jié)構(gòu)層的晶體平均高度為GH，其可滿足下列條件：120nm≤GH≤300nm。

依據(jù)前段所述實(shí)施方式的成像光學(xué)系統(tǒng)，可還包含一中介層，其中中介層連接疏密結(jié)構(gòu)層與平板元件，且中介層通過(guò)孔洞中至少一者與空氣接觸。

依據(jù)前段所述實(shí)施方式的成像光學(xué)系統(tǒng)，其中紅外光減少膜層可設(shè)置于紅外光吸收元件的一出光面。

依據(jù)前段所述實(shí)施方式的成像光學(xué)系統(tǒng)，可還包含一膜層設(shè)置元件，其中膜層設(shè)置元件設(shè)置于紅外光吸收元件的一像側(cè)。紅外光減少膜層設(shè)置于膜層設(shè)置元件的一入光面與一出光面中其中一者。

依據(jù)前段所述實(shí)施方式的成像光學(xué)系統(tǒng)，其中膜層設(shè)置元件可緊鄰紅外光吸收元件。