[發(fā)明專利]成像光學(xué)系統(tǒng)、相機(jī)模塊及電子裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210936138.7 | 申請(qǐng)日: | 2022-08-05 |
| 公開(公告)號(hào): | CN115951471A | 公開(公告)日: | 2023-04-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張沛頎;張建邦;賴昱辰;周明達(dá);蔡溫祐;朱國(guó)強(qiáng) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 大立光電股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02B13/00 | 分類號(hào): | G02B13/00;G02B13/14;G02B1/118;G02B1/11;G03B17/12;G03B30/00 |
| 代理公司: | 北京律誠(chéng)同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金國(guó) |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)灣臺(tái)*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 成像 光學(xué)系統(tǒng) 相機(jī) 模塊 電子 裝置 | ||
1.一種成像光學(xué)系統(tǒng),其特征在于,沿一中心光路依序包含:
一紅外光吸收元件,為紅外光吸收塑膠元件,且該紅外光吸收元件用以折射光線;
一紅外光減少膜層,較該紅外光吸收元件的一入光面靠近該成像光學(xué)系統(tǒng)的一成像面;以及
一平板元件,設(shè)置于該紅外光減少膜層與該成像面之間且為一體成型,該平板元件包含一透光部與一支架部,其中該透光部與該成像面對(duì)應(yīng)設(shè)置,該支架部環(huán)繞該透光部,使該透光部保持于該中心光路上的一特定位置;
其中,該平板元件還包含一疏密結(jié)構(gòu)層,該疏密結(jié)構(gòu)層設(shè)置于該透光部的一入光面與一出光面中至少一者,該疏密結(jié)構(gòu)層往一空氣方向漸疏,且在該透光部的該入光面與該出光面中至少該者形成多個(gè)孔洞;
其中,該疏密結(jié)構(gòu)層的主要材質(zhì)為陶瓷,且該疏密結(jié)構(gòu)層對(duì)波長(zhǎng)區(qū)間420nm至680nm的一光線的平均反射率小于0.98%;
其中,該疏密結(jié)構(gòu)層的晶體平均高度為GH,該成像光學(xué)系統(tǒng)的焦距為f,該紅外光吸收元件與該紅外光減少膜層沿該中心光路的距離為L(zhǎng)1,該紅外光減少膜層與該疏密結(jié)構(gòu)層沿該中心光路的距離為L(zhǎng)2,其滿足以下條件:
60nm≤GH≤400nm;
0.0≤L1/f≤0.21;以及
0.21≤L2/f。
2.如權(quán)利要求1所述的成像光學(xué)系統(tǒng),其特征在于,該疏密結(jié)構(gòu)層對(duì)波長(zhǎng)區(qū)間400nm至900nm的一光線的平均反射率小于0.98%。
3.如權(quán)利要求1所述的成像光學(xué)系統(tǒng),其特征在于,該疏密結(jié)構(gòu)層對(duì)波長(zhǎng)區(qū)間400nm至900nm的一光線的平均反射率小于0.5%。
4.如權(quán)利要求1所述的成像光學(xué)系統(tǒng),其特征在于,該疏密結(jié)構(gòu)層的晶體平均高度為GH,其滿足下列條件:
120nm≤GH≤300nm。
5.如權(quán)利要求1所述的成像光學(xué)系統(tǒng),其特征在于,還包含:
一中介層,連接該疏密結(jié)構(gòu)層與該平板元件;
其中,該中介層通過所述多個(gè)孔洞中至少一者與空氣接觸。
6.如權(quán)利要求1所述的成像光學(xué)系統(tǒng),其特征在于,該紅外光減少膜層設(shè)置于該紅外光吸收元件的一出光面。
7.如權(quán)利要求1所述的成像光學(xué)系統(tǒng),其特征在于,還包含:
一膜層設(shè)置元件,設(shè)置于該紅外光吸收元件的一像側(cè);
其中,該紅外光減少膜層設(shè)置于該膜層設(shè)置元件的一入光面與一出光面中其中一者。
8.如權(quán)利要求7所述的成像光學(xué)系統(tǒng),其特征在于,該膜層設(shè)置元件緊鄰該紅外光吸收元件。
9.如權(quán)利要求8所述的成像光學(xué)系統(tǒng),其特征在于,還包含:
一膠體,粘合該紅外光吸收元件與該膜層設(shè)置元件。
10.如權(quán)利要求1所述的成像光學(xué)系統(tǒng),其特征在于,該平板元件的該支架部為不透光塑膠支架部。
11.如權(quán)利要求10所述的成像光學(xué)系統(tǒng),其特征在于,該平板元件通過埋入射出或二次射出的方式一體成型。
12.如權(quán)利要求1所述的成像光學(xué)系統(tǒng),其特征在于,該平板元件還包含一遮光部,且該遮光部與該透光部毗鄰設(shè)置。
13.如權(quán)利要求1所述的成像光學(xué)系統(tǒng),其特征在于,該疏密結(jié)構(gòu)層同時(shí)設(shè)置于該透光部的該入光面與該出光面。
14.如權(quán)利要求1所述的成像光學(xué)系統(tǒng),其特征在于,該疏密結(jié)構(gòu)層同時(shí)設(shè)置于該支架部的一表面的至少一部分。
15.如權(quán)利要求1所述的成像光學(xué)系統(tǒng),其特征在于,該成像光學(xué)系統(tǒng)的焦距為f,該透光部的厚度為THI,其滿足以下條件:
0.005≤THI/f≤0.35。
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