[發(fā)明專利]PCell版圖的設(shè)計(jì)方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202210934278.0
• 申請日: 2022-08-04
• 公開（公告）號: CN115293092A
• 公開（公告）日: 2022-11-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 程仁豪
• 申請（專利權(quán)）人: 紹興中芯集成電路制造股份有限公司
• 主分類號: G06F30/392
• 分類號: G06F30/392
• 代理公司: 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 張亞靜

1.一種PCell版圖的設(shè)計(jì)方法，其特征在于，包括：

獲取目標(biāo)器件的PCell版圖，所述PCell版圖具有若干工藝圖層，每個(gè)所述工藝圖層具有若干圖形；以及，

對至少一個(gè)所述工藝圖層和/或?qū)χ辽僖粋€(gè)所述圖形進(jìn)行變換，以使所述PCell版圖失真。

2.如權(quán)利要求1所述的PCell版圖的設(shè)計(jì)方法，其特征在于，所述PCell版圖失真后邊框和引腳的尺寸和位置保持不變，且每個(gè)所述圖形均位于所述邊框內(nèi)。

3.如權(quán)利要求2所述的PCell版圖的設(shè)計(jì)方法，其特征在于，所述邊框的最大寬度為1μm～500μm，變換后的所述圖形的最大寬度小于5nm。

4.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的PCell版圖的設(shè)計(jì)方法，其特征在于，對所述工藝圖層進(jìn)行變換時(shí)，是將所述工藝圖層中的所有所述圖形映射至新增的工藝圖層中。

5.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的PCell版圖的設(shè)計(jì)方法，其特征在于，對所述工藝圖層進(jìn)行變換時(shí)，是將至少兩個(gè)所述工藝圖層中的所有所述圖形交換。

6.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的PCell版圖的設(shè)計(jì)方法，其特征在于，變換的所述圖形為至少兩個(gè)時(shí)，逐個(gè)對所述圖形進(jìn)行變換。

7.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的PCell版圖的設(shè)計(jì)方法，其特征在于，對所述圖形進(jìn)行變換時(shí)，是以一參考點(diǎn)為原點(diǎn)并以相應(yīng)的變換規(guī)則對所述圖形進(jìn)行變換。

8.如權(quán)利要求7所述的PCell版圖的設(shè)計(jì)方法，其特征在于，每個(gè)所述圖形對應(yīng)的所述變換規(guī)則相同或不同。

9.如權(quán)利要求7所述的PCell版圖的設(shè)計(jì)方法，其特征在于，所述變換規(guī)則包括對所述圖形進(jìn)行縮小、旋轉(zhuǎn)及錯切中的至少一種。

10.如權(quán)利要求7所述的PCell版圖的設(shè)計(jì)方法，其特征在于，所述圖形均為矩形，對所述圖形進(jìn)行變換時(shí)，基于所述變換規(guī)則得到相應(yīng)的坐標(biāo)變換公式，并基于所述圖形的四個(gè)頂點(diǎn)的坐標(biāo)及所述坐標(biāo)變換公式計(jì)算得到四個(gè)失真點(diǎn)的坐標(biāo)，四個(gè)所述失真點(diǎn)圍合成為變換后的所述圖形。