[發明專利]PCell版圖的設計方法

在審

• 申請號: 202210934278.0
• 申請日: 2022-08-04
• 公開（公告）號: CN115293092A
• 公開（公告）日: 2022-11-04
• 發明（設計）人: 程仁豪
• 申請（專利權）人: 紹興中芯集成電路制造股份有限公司
• 主分類號: G06F30/392
• 分類號: G06F30/392
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 張亞靜

本發明提供了一種PCell版圖的設計方法，首先獲取目標器件的PCell版圖，所述PCell版圖具有若干工藝圖層，每個所述工藝圖層具有若干圖形，然后對至少一個所述工藝圖層和/或對至少一個所述圖形進行變換，以使所述PCell版圖失真。將失真的所述PCell版圖提供給客戶，客戶可以使用默認的CDF參數對應的PCell版圖或修改CDF參數以更新PCell版圖，同時也可以避免自主設計的半導體器件的結構泄露。

技術領域

本發明涉及集成電路設計技術領域，尤其涉及一種PCell版圖的設計方法。

背景技術

PDK(Process Design Kit，工藝設計支持包)是芯片生產公司(Foundry)、EDA(Electronic Design Automatic)公司和芯片設計公司的溝通橋梁。隨著集成電路技術的持續發展，不斷有新材料、新技術和新制造工藝出現，使得新型半導體器件也如雨后春筍般出現。當芯片設計公司需要采用一個芯片生產工廠新型半導體器件時，首先就是需要一套PDK，PDK是設計公司用來設計芯片的基石，也是流片成敗關鍵的因素。

PDK的內容包括：器件模型(Device Model，仿真文件)、符號和視圖(SymbolsView)、組件描述格式(CDF，Component Description Format)和Callback函數(器件的屬性描述文件)、參數化單元(Pcell，Parameterized Cell)由SKILL語言編寫，其對應的版圖通過了設計規則檢查(DRC，design rule check)和版圖與電路圖LVS驗證，方便設計人員進行原理圖驅動的版圖(Layout)設計)、技術文件(Technology File)、物理驗證規則(PV Rule)等。其中，參數化單元中的參數是CDF參數，它們的組合能夠實現用戶定制的所有功能，是PDK的核心部分，決定了PDK的應用和質量。

隨著開發PDK流程的不斷演進，設計規則也變得越來越復雜，開發PDK需花費大量的精力及費用。然而，設計人員需要將PDK提供給客戶，再由客戶確認或修改PDK中的CDF參數，然而，將PDK中的Pcell版圖會暴露新型半導體器件的結構，出于對新型半導體器件的自主設計方案的保護，設計人員在向客戶提供PDK時，并不希望客戶看到真實的PCell版圖，因此需要作出改進。

發明內容

本發明的目的在于提供一種PCell版圖的設計方法，以用于防止PCell版圖暴露器件的具體結構。

為了達到上述目的，本發明提供了一種PCell版圖的設計方法，包括：

獲取目標器件的PCell版圖，所述PCell版圖具有若干工藝圖層，每個所述工藝圖層具有若干圖形；以及，

對至少一個所述工藝圖層和/或對至少一個所述圖形進行變換，以使所述PCell版圖失真。

可選的，所述PCell版圖失真后邊框和引腳的尺寸和位置保持不變，且每個所述圖形均位于所述邊框內。

可選的，所述邊框的最大寬度為1μm～500μm，變換后的所述圖形的最大寬度小于5nm。

可選的，對所述工藝圖層進行變換時，是將所述工藝圖層中的所有所述圖形映射至新增的工藝圖層中。

可選的，對所述工藝圖層進行變換時，是將至少兩個所述工藝圖層中的所有所述圖形交換。

可選的，變換的所述圖形為至少兩個時，逐個對所述圖形進行變換。

可選的，對所述圖形進行變換時，是以一參考點為原點并以相應的變換規則對所述圖形進行變換。

可選的，每個所述圖形對應的所述變換規則相同或不同。

可選的，所述變換規則包括對所述圖形進行縮小、旋轉及錯切中的至少一種。