[發(fā)明專(zhuān)利]一種黃光工藝曝光用的掩膜版修復(fù)方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202210930646.4
• 申請(qǐng)日: 2022-08-04
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN115308986A
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-11-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 謝才興;饒奮劍
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 江蘇軟訊科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G03F1/72
• 分類(lèi)號(hào): G03F1/72
• 代理公司: 常州佰業(yè)騰飛專(zhuān)利代理事務(wù)所(普通合伙) 32231
• 代理人: 馬曉敏

本發(fā)明涉及一種黃光工藝曝光用的掩膜版修復(fù)方法，包括如下步驟：對(duì)掩膜版定期檢測(cè)缺陷情況并定位缺陷位置，根據(jù)缺陷的大小狀況，采用不同規(guī)格的金屬工具針蘸取阻光劑填充至對(duì)應(yīng)缺陷位置，觀察平整度和阻光性，根據(jù)要求調(diào)整，填充完全后進(jìn)行固化處理；然后置于藥劑中進(jìn)行超聲處理，再采用去離子水常溫清洗，干燥后得到黃光工藝曝光用的修復(fù)后掩膜版；其中所述藥劑為含有堿性化合物和二乙二醇丁醚的水溶液；以上修復(fù)方法還包括對(duì)所述修復(fù)后掩膜版進(jìn)行防粘處理：將修復(fù)后掩模版需要與光刻材料接觸的一面貼合防粘膜后進(jìn)行加壓脫泡處理。本發(fā)明修復(fù)方法能夠提高產(chǎn)品曝光良率，且掩膜版不與材料發(fā)生粘連，降低制造企業(yè)的成本。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及掩膜缺陷的修復(fù)或校正技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種黃光工藝曝光用的掩膜版修復(fù)方法。

背景技術(shù)

無(wú)論在掩膜版制造行業(yè)還是IC、LCD、FPC、PCB等制造行業(yè)，設(shè)計(jì)的微米級(jí)電路一般是要經(jīng)過(guò)曝光、顯影、蝕刻、脫膜等黃光工藝流程來(lái)實(shí)現(xiàn)。由于這些行業(yè)的制造流程大多采用濕法制程，同時(shí)，加上制造環(huán)境、原材料等因素的影響，導(dǎo)致制造出來(lái)的產(chǎn)品多少會(huì)出現(xiàn)一定缺陷。其中，凸起或殘留是最常見(jiàn)缺陷，而這通常是不被接受的，需要使用激光修復(fù)機(jī)將多余的部分去掉從而達(dá)到修復(fù)的目的。在實(shí)際修復(fù)過(guò)程中，如果缺陷比較小則相對(duì)比較容易處理；如果缺陷尺寸比較大，則在切除作業(yè)時(shí)，由于現(xiàn)有的激光修復(fù)機(jī)不能提供參考，而周?chē)膱D形又不能呈現(xiàn)在同一顯示器內(nèi)，也就無(wú)法獲得有效的參考，這樣的情況下切除后的圖形效果就會(huì)比較差，切除精度也無(wú)法保證。

而產(chǎn)品出現(xiàn)缺陷的一方面重要原因是黃光工藝曝光過(guò)程中使用的掩膜版產(chǎn)生了缺陷。目前黃光工藝曝光使用掩膜版分為PET菲林掩膜版和玻璃掩模版兩種。其中PET菲林掩膜版的優(yōu)勢(shì)是工藝簡(jiǎn)單、成本低廉，但是所制產(chǎn)品精度低，且受溫濕度影響菲林收縮比例大，精度一般10μm級(jí)以上。而玻璃掩模版解析度、透過(guò)率高，且具有極低的熱膨脹系數(shù)，以及較高的耐溫性，受溫濕度影響小，制作精度在10μm以下，但是玻璃掩膜版制作工藝復(fù)雜，成本較高。

由于制程、材料、環(huán)境等因素影響，在生產(chǎn)過(guò)程中細(xì)小顆粒物會(huì)破壞線路或圖案，導(dǎo)致曝光出來(lái)產(chǎn)品存在缺陷，不符合質(zhì)量要求。且掩膜版費(fèi)用昂貴、采購(gòu)周期長(zhǎng)，掩膜版一旦發(fā)生損傷即會(huì)直接影響生產(chǎn)，導(dǎo)致生產(chǎn)成本費(fèi)用損耗較大。

另外對(duì)于采用掩膜版進(jìn)行接觸式或是非接觸曝光而言，由于曝光精度相一般在6μm左右能達(dá)到生產(chǎn)要求，在進(jìn)行接觸式曝光時(shí)需要上下掩膜版與光刻材料之間無(wú)間隙接觸，但是經(jīng)常會(huì)發(fā)生掩膜版與光刻材料之間產(chǎn)生大面積相互粘連，對(duì)掩膜版造成刮傷等問(wèn)題，從而無(wú)法進(jìn)行生產(chǎn)，導(dǎo)致生產(chǎn)成升高；而在進(jìn)行非接觸式曝光時(shí)，雖然操作是非接觸式曝光操作，但是由于掩膜版與光刻材料之間的間隙極小，通常在10μm左右，所以通常也在掩膜版與光刻材料之間會(huì)產(chǎn)生一定程度的粘連。

因此急需找尋一種掩膜版修復(fù)方法能夠減少產(chǎn)品缺陷、提高產(chǎn)品的良率并降低制造企業(yè)的成本。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，而提供一種黃光工藝曝光用的掩膜版修復(fù)方法。本發(fā)明對(duì)掩膜版進(jìn)行修復(fù)后能夠減少產(chǎn)品缺陷、提高產(chǎn)品的良率，降低制造企業(yè)的成本，且不影響產(chǎn)品的交付周期。

為了達(dá)到以上目的，本發(fā)明通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)：

一種黃光工藝曝光用的掩膜版修復(fù)方法，包括如下步驟：

(1)采用CCD系統(tǒng)對(duì)掩膜版定期檢測(cè)缺陷情況，并定位缺陷位置，根據(jù)缺陷的大小狀況，采用0.1-0.3mm不同規(guī)格的金屬工具針蘸取阻光劑填充至對(duì)應(yīng)缺陷位置，觀察平整度和阻光性要求，按照平整度±5-10μm的要求以及不透光的要求，使用鋼針蘸取阻光油墨進(jìn)行調(diào)整，填充完全后進(jìn)行固化處理；

(2)將填充并固化處理修補(bǔ)后的掩膜版置于藥劑中進(jìn)行超聲處理，然后采用去離子水常溫清洗，干燥后得到黃光工藝曝光用的修復(fù)后掩膜版；

其中所述藥劑的配方按照重量百分?jǐn)?shù)100％計(jì)：堿性化合物1.1-1.5％、二乙二醇丁醚1-2％、余量為去離子水。