[發(fā)明專利]一種主動(dòng)發(fā)光式運(yùn)動(dòng)模擬裝置、測(cè)試系統(tǒng)和測(cè)試方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210919593.6 | 申請(qǐng)日: | 2022-08-02 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN115435824A | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-12-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 高越;劉柯;吳桐;王曉光;郭天茂 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京航天計(jì)量測(cè)試技術(shù)研究所 |
| 主分類號(hào): | G01D18/00 | 分類號(hào): | G01D18/00 |
| 代理公司: | 北京艾緯鉑知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 16101 | 代理人: | 高會(huì)允 |
| 地址: | 100076 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 主動(dòng) 發(fā)光 運(yùn)動(dòng) 模擬 裝置 測(cè)試 系統(tǒng) 方法 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種主動(dòng)發(fā)光式運(yùn)動(dòng)模擬裝置、測(cè)試系統(tǒng)和測(cè)試方法,涉及計(jì)量測(cè)試技術(shù)領(lǐng)域。該裝置的具體實(shí)施方式包括:光點(diǎn)點(diǎn)陣和脈沖發(fā)生器,光點(diǎn)點(diǎn)陣包括多個(gè)光學(xué)標(biāo)志點(diǎn);脈沖發(fā)生器用于為光點(diǎn)點(diǎn)陣的多個(gè)光學(xué)標(biāo)志點(diǎn)提供脈沖,控制多個(gè)光學(xué)標(biāo)志點(diǎn)按照目標(biāo)點(diǎn)亮?xí)r序點(diǎn)亮,使得多個(gè)光學(xué)標(biāo)志點(diǎn)模擬物體運(yùn)動(dòng);其中,多個(gè)光學(xué)標(biāo)志點(diǎn)并聯(lián)連接。該實(shí)施方式能夠適用于不同使用環(huán)境模擬不同運(yùn)動(dòng)路徑、運(yùn)動(dòng)參數(shù)等各種應(yīng)用場(chǎng)景下的物體運(yùn)動(dòng),實(shí)現(xiàn)對(duì)立體視覺(jué)測(cè)量設(shè)備的計(jì)量測(cè)試,無(wú)論設(shè)備應(yīng)用于何處,皆不會(huì)受動(dòng)力、空間、環(huán)境等限制,可以實(shí)現(xiàn)光學(xué)目標(biāo)的任意運(yùn)動(dòng)形式的計(jì)量測(cè)試,提升了模擬的可靠性,大大提高了實(shí)際應(yīng)用環(huán)境下立體視覺(jué)測(cè)量設(shè)備的測(cè)量精度。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于計(jì)量測(cè)試技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種主動(dòng)發(fā)光式運(yùn)動(dòng)模擬裝置、測(cè)試系統(tǒng)和測(cè)試方法。
背景技術(shù)
立體視覺(jué)技術(shù)是利用相機(jī)交會(huì)測(cè)量的原理實(shí)現(xiàn)目標(biāo)空間位置和運(yùn)動(dòng)軌跡、速度、加速度等參數(shù)測(cè)量的技術(shù),立體視覺(jué)測(cè)量設(shè)備主要由兩個(gè)或多個(gè)高速相機(jī)、同步觸發(fā)控制器和圖像處理軟件組成。立體視覺(jué)測(cè)量設(shè)備的計(jì)量測(cè)試是指對(duì)其進(jìn)行精度驗(yàn)證、校準(zhǔn)的過(guò)程。在進(jìn)行計(jì)量測(cè)試的過(guò)程中,通常利用立體視覺(jué)測(cè)量設(shè)備抓取貼附于運(yùn)動(dòng)物體表面的光學(xué)目標(biāo)的圖像,經(jīng)過(guò)對(duì)圖像的分析,確定立體視覺(jué)測(cè)量設(shè)備的測(cè)量參數(shù)值,將其與標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)參數(shù)值進(jìn)行對(duì)比,從而確定立體視覺(jué)測(cè)量設(shè)備的測(cè)量精度等是否符合要求。
然而,由于常用的運(yùn)動(dòng)物體的運(yùn)動(dòng)模擬裝置可以模擬的運(yùn)動(dòng)形式(比如,日常環(huán)境下的直線導(dǎo)軌模擬直線運(yùn)動(dòng)、轉(zhuǎn)臺(tái)模擬回轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)等)有限,而立體視覺(jué)測(cè)量設(shè)備的應(yīng)用場(chǎng)景是千變?nèi)f化的,現(xiàn)有的模擬裝置無(wú)法模擬高溫、低溫、真空、水下等極限環(huán)境下的運(yùn)動(dòng)物體運(yùn)動(dòng),進(jìn)而無(wú)法對(duì)滿足測(cè)試要求,導(dǎo)致立體視覺(jué)測(cè)量設(shè)備在實(shí)際使用環(huán)境下的測(cè)量精度較低。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明提供了一種主動(dòng)發(fā)光式運(yùn)動(dòng)模擬裝置、測(cè)試系統(tǒng)和測(cè)試方法,能夠適用于不同使用環(huán)境模擬不同運(yùn)動(dòng)路徑、不同運(yùn)動(dòng)參數(shù)等各種應(yīng)用場(chǎng)景下的物體運(yùn)動(dòng),實(shí)現(xiàn)對(duì)立體視覺(jué)測(cè)量設(shè)備的計(jì)量測(cè)試,無(wú)論立體視覺(jué)測(cè)量設(shè)備應(yīng)用于何處,皆不會(huì)受動(dòng)力、空間、環(huán)境等限制,可以實(shí)現(xiàn)光學(xué)目標(biāo)的任意運(yùn)動(dòng)形式的計(jì)量測(cè)試,運(yùn)動(dòng)參數(shù)的可調(diào)范圍極廣,提升了模擬的可靠性,進(jìn)而大大提高了實(shí)際應(yīng)用環(huán)境下立體視覺(jué)測(cè)量設(shè)備的測(cè)量精度。
實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的一個(gè)方面,提供了一種主動(dòng)發(fā)光式運(yùn)動(dòng)模擬裝置,包括:光點(diǎn)點(diǎn)陣和脈沖發(fā)生器,其中:
所述光點(diǎn)點(diǎn)陣,包括多個(gè)光學(xué)標(biāo)志點(diǎn);
所述脈沖發(fā)生器,用于為所述光點(diǎn)點(diǎn)陣的多個(gè)所述光學(xué)標(biāo)志點(diǎn)提供脈沖,控制多個(gè)所述光學(xué)標(biāo)志點(diǎn)按照目標(biāo)點(diǎn)亮?xí)r序點(diǎn)亮,使得多個(gè)所述光學(xué)標(biāo)志點(diǎn)模擬光學(xué)目標(biāo)的運(yùn)動(dòng);其中,多個(gè)所述光學(xué)標(biāo)志點(diǎn)并聯(lián)連接。
可選地,所述光點(diǎn)點(diǎn)陣還包括材料膨脹率低于預(yù)設(shè)膨脹率閾值的安裝基體,多個(gè)所述光學(xué)標(biāo)志點(diǎn)固定連接于所述安裝基體上。
可選地,所述光點(diǎn)點(diǎn)陣的多個(gè)所述光學(xué)標(biāo)志點(diǎn)呈直線、圓周或者無(wú)序排列。
可選地,所述直線或者圓周排列的多個(gè)所述光學(xué)標(biāo)志點(diǎn)之間的間距相等。
可選地,所述光點(diǎn)點(diǎn)陣為激光點(diǎn)陣,所述光學(xué)標(biāo)志點(diǎn)為激光標(biāo)志點(diǎn),所述脈沖發(fā)生器為激光控制器。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的再一個(gè)方面,提供了一種立體視覺(jué)測(cè)量設(shè)備的測(cè)試系統(tǒng),包括:主動(dòng)發(fā)光式運(yùn)動(dòng)模擬裝置、被測(cè)視覺(jué)測(cè)量設(shè)備和測(cè)試服務(wù)器。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的另一個(gè)方面,提供了一種測(cè)試系統(tǒng)的測(cè)試方法,所述方法應(yīng)用于測(cè)試服務(wù)器,包括:
接收測(cè)試指令;所述測(cè)試指令指示了所述光點(diǎn)點(diǎn)陣的多個(gè)所述光學(xué)標(biāo)志點(diǎn)的目標(biāo)點(diǎn)亮?xí)r序;
根據(jù)所述目標(biāo)點(diǎn)亮?xí)r序,啟動(dòng)所述被測(cè)立體視覺(jué)測(cè)量設(shè)備,并控制所述脈沖發(fā)生器點(diǎn)亮所述光點(diǎn)點(diǎn)陣的多個(gè)光學(xué)標(biāo)志點(diǎn);
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京航天計(jì)量測(cè)試技術(shù)研究所,未經(jīng)北京航天計(jì)量測(cè)試技術(shù)研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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