[發(fā)明專(zhuān)利]陣列基板及其制備方法、顯示面板

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202210893965.2
• 申請(qǐng)日: 2022-07-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN115312537A
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-11-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王昕童
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 廣州華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01L27/12
• 分類(lèi)號(hào): H01L27/12;G02F1/1362
• 代理公司: 深圳紫藤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 高爽

1.一種陣列基板的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

提供一玻璃襯底；

在所述玻璃襯底上形成柵極金屬層，所述玻璃襯底和所述柵極金屬層表面分布有多個(gè)含氧基團(tuán)，所述含氧基團(tuán)的結(jié)構(gòu)通式為“-O-”；以及

在所述柵極金屬層上形成柵極絕緣層，所述含氧基團(tuán)與所述柵極絕緣層中的硅原子通過(guò)化學(xué)鍵結(jié)合形成硅氧基團(tuán)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板的制備方法，其特征在于，所述在所述玻璃襯底上形成柵極金屬層的步驟包括：

將至少一種含氧化合物溶于水洗試劑中；以及

采用所述水洗試劑對(duì)所述玻璃襯底和所述柵極金屬層進(jìn)行水洗清潔，在所述柵極金屬層和所述玻璃襯底表面形成多個(gè)所述含氧基團(tuán)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列基板的制備方法，其特征在于，所述在所述柵極金屬層上形成柵極絕緣層的步驟包括：

提供一無(wú)機(jī)溶液；

將所述無(wú)機(jī)溶液形成于所述玻璃襯底和所述柵極金屬層表面；

對(duì)所述陣列基板進(jìn)行加熱處理，所述含氧化合物發(fā)生開(kāi)環(huán)反應(yīng)，得到多個(gè)所述含氧基團(tuán)，所述含氧基團(tuán)與所述柵極絕緣層中的硅原子通過(guò)化學(xué)鍵結(jié)合形成硅氧基團(tuán)；以及

冷卻至室溫，得到所述柵極絕緣層。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的陣列基板的制備方法，其特征在于，在所述提供一無(wú)機(jī)溶液的步驟之后，所述制備方法還包括：

將至少一種所述含氧化合物溶于無(wú)機(jī)溶液中，攪拌均勻。

5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的陣列基板的制備方法，其特征在于，所述含氧化合物包括環(huán)氧化合物和呋喃化合物中的其中一種。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陣列基板的制備方法，其特征在于，所述含氧化合物中的所述含氧基團(tuán)的質(zhì)量分?jǐn)?shù)范圍為2.5％～3％。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板的制備方法，其特征在于，在形成所述柵極金屬層的步驟之前，所述制備方法還包括：

采用臭氧清洗機(jī)對(duì)所述玻璃襯底進(jìn)行清洗，在所述玻璃襯底表面形成多個(gè)所述含氧基團(tuán)；

其中，在形成所述柵極絕緣層時(shí)，所述含氧基團(tuán)與所述柵極絕緣層中的硅原子通過(guò)化學(xué)鍵結(jié)合形成硅氧基團(tuán)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板的制備方法，其特征在于，所述制備方法還包括：

在所述柵極絕緣層上形成半導(dǎo)體層；以及

在所述半導(dǎo)體層上形成源漏極金屬層。

9.一種陣列基板，采用如權(quán)利要求1-8任意一項(xiàng)所述的制備方法制備而成；其特征在于，所述陣列基板包括：

玻璃襯底；

柵極金屬層，設(shè)置于所述玻璃襯底上；以及

柵極絕緣層，覆蓋所述玻璃襯底和所述柵極金屬層上，所述玻璃襯底和所述柵極金屬層表面分布有多個(gè)含氧基團(tuán)，所述含氧基團(tuán)的結(jié)構(gòu)通式為“-O-”，所述含氧基團(tuán)與所述柵極絕緣層中的硅原子通過(guò)化學(xué)鍵結(jié)合形成硅氧基團(tuán)。

10.一種顯示面板，其特征在于，包括權(quán)利要求9所述的陣列基板；

彩膜基板，與所述陣列基板相對(duì)設(shè)置；以及

液晶層，設(shè)置于所述陣列基板與所述彩膜基板之間。