[發明專利]一種超痕量高純聯苯醚二酐的制備方法有效
| 申請號: | 202210893502.6 | 申請日: | 2022-07-27 |
| 公開(公告)號: | CN115073405B | 公開(公告)日: | 2023-08-15 |
| 發明(設計)人: | 李文革;張云堂;邵帥;王晶曉;李朋;王盼盼 | 申請(專利權)人: | 河北海力恒遠新材料股份有限公司 |
| 主分類號: | C07D307/89 | 分類號: | C07D307/89 |
| 代理公司: | 河北國維致遠知識產權代理有限公司 13137 | 代理人: | 任青 |
| 地址: | 052165 河北省*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 痕量 高純 聯苯 醚二酐 制備 方法 | ||
本發明涉及精制提純技術領域,具體公開一種超痕量高純聯苯醚二酐的制備方法。所述制備方法包括以下步驟:將聯苯醚四甲酸、鹽酸分別加入到溶劑中,于125℃~140℃條件下溶解1h~3h,然后在攪拌條件下加入硅酸鈉,攪拌0.5h~1h,降溫至20℃~30℃后過濾,得濾餅;將所述濾餅經烘干、真空升華,得所述聯苯醚二酐。采用本申請提供的制備方法,聯苯醚四甲酸經一次處理即可得到目標產物,產品收率高達95%左右,產品純度達到99.95%以上,產品中金屬離子的含量低于80ppb,且生產過程中基本無廢水產生,工藝簡單,有利于進行工業推廣和應用。
技術領域
本發明涉及精制提純技術領域,尤其涉及一種超痕量高純聯苯醚二酐的制備方法。
背景技術
聯苯醚二酐(ODPA)能廣泛應用于航空航天、微電子、納米、液晶、分離過濾膜等領域。因應用領域不同,對聯苯醚二酐品的純度、潔凈度的要求也不同。如電子級聯苯醚二酐是制備聚酰亞胺的主要原料,航空航天用電子極聚酰亞胺對產品的純度、潔凈度、顆粒晶型、有機殘留物、金屬離子等污染物均有嚴格要求,甚至對金屬離子的要求達到part?perbillion級,并要求產品的純度大于99.95%,因此對其制備原料的純度和潔凈度也有極高的要求。
而現有工藝制備的ODPA,產純度可以99.5%~99.9%,金屬離子只能達到ppm級別,使其難以滿足應用于航空航天的電子極聚酰亞胺對原料的要求。即便通過加入大量混合溶劑進行金屬離子脫除,也僅僅是得到金屬離子量為1000ppb~5000ppb的ODPA,同時還會產生大量廢液造成環保問題。因此,為滿足聚酰亞胺作為特種工程材料在應用領域不斷發展的要求,亟需尋找一種金屬離子超痕量的高純ODPA的制備方法,對企業打開ODPA高端市場和減少企業環保壓力具有重要意義。
發明內容
鑒于此,本申請提供一種超痕量高純ODPA的制備方法,利用鹽酸與硅酸鈉反應產生硅酸膠體,再通過降溫使硅酸膠體與聯苯醚四甲酸分子進行充分膠連,形成立體網狀結構,能充分將含有的金屬離子除去,再通過一步聯苯醚四甲酸高溫脫水、升華得到金屬離子超痕量的高純ODPA。
為達到上述發明目的,本發明實施例采用了如下的技術方案:
一種超痕量高純聯苯醚二酐的制備方法,所述制備方法包括以下步驟:
步驟一、將聯苯醚四甲酸、鹽酸分別加入到溶劑中,于125℃~140℃條件下溶解1h~3h,然后在攪拌條件下加入硅酸鈉,攪拌0.5h~1h,降溫至20℃~30℃后過濾,得濾餅,所述鹽酸與所述硅酸鈉的質量比為1~3:0.5~1;
步驟二、將所述濾餅經烘干、真空升華,得所述聯苯醚二酐。
相對于現有技術,本申請提供的超痕量高純聯苯醚二酐的制備方法,具有以下優勢:
本申請通過鹽酸助溶并提供酸性環境,再利用鹽酸與硅酸鈉反應得的硅酸膠體,再通過降溫使硅酸膠體與聯苯醚四甲酸分子進行充分膠連,形成立體網狀結構,能充分將含有的金屬離子束縛在該網狀結構中,進而充分去除金屬離子;再通過一步聯苯醚四甲酸高溫脫水、升華得到金屬離子超痕量的高純ODPA。
采用本申請提供的制備方法,聯苯醚四甲酸經一次處理即可得到目標產物,產品收率高達95%左右,產品純度達到99.95%以上,產品中金屬離子的含量低于80ppb,且生產過程中基本無廢水產生,工藝簡單,有利于進行工業推廣。
可選的,所述鹽酸與所述聯苯醚四甲酸的質量比為0.01~0.03:1。
通過優選的質量比,有利于促進聯苯醚四甲酸均勻分散于溶劑中,并促進鹽酸與硅酸鈉充分反應得到硅酸膠體,避免硅酸鈉過量而引入新雜質的風險,且保證該過程不會產生固廢,也有利于剩余物料的回收利用。
可選的,所述溶劑為體積濃度為60%~70%的乙醇水溶液。
可選的,所述聯苯醚四甲酸與所述溶劑的質量比為1:4.5~5.5。
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