[發明專利]測量設備、測量方法、基板處理裝置及產品制造方法

在審

• 申請號: 202210889218.1
• 申請日: 2022-07-27
• 公開（公告）號: CN115685691A
• 公開（公告）日: 2023-02-03
• 發明（設計）人: 山口涉
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/66;H01L21/67;G01B11/00
• 代理公司: 北京怡豐知識產權代理有限公司 11293
• 代理人: 遲軍;齊文文

1.一種測量設備，所述測量設備用于通過用第一光照射圖案并檢測來自圖案的第二光來測量圖案的位置，所述測量設備包括：

波長可變單元，其被構造為，根據所述第一光入射的入射位置使所述第一光的光譜變化以使所述第一光能夠通過；以及

移動單元，其被構造為，通過移動所述波長可變單元來改變所述入射位置，

其中，所述波長可變單元移動到基于波長特性信息和強度特性信息的位置，所述波長特性信息表示所述波長可變單元的位置與透過所述波長可變單元的所述第一光的波長之間的關系，所述強度特性信息表示所述波長可變單元的位置與來自用透過所述波長可變單元的所述第一光照射的所述圖案的所述第二光的強度之間的關系。

2.根據權利要求1所述的測量設備，其中，所述移動單元沿所述波長可變單元的、用所述第一光照射的表面，按預定方向移動所述波長可變單元。

3.根據權利要求1所述的測量設備，所述測量設備還包括第一光學系統，所述第一光學系統被構造為將從光源發射的所述第一光引導到所述波長可變單元。

4.根據權利要求1所述的測量設備，所述測量設備還包括檢測單元，所述檢測單元被構造為檢測來自用透過所述波長可變單元的所述第一光照射的所述圖案的所述第二光的強度，

其中，所述強度特性信息是基于由所述檢測單元檢測到的所述第二光的強度而獲取的。

5.根據權利要求4所述的測量設備，所述測量設備還包括第二光學系統，所述第二光學系統被構造為將來自所述圖案的所述第二光引導到所述檢測單元。

6.根據權利要求4所述的測量設備，所述測量設備還包括分束器，所述分束器被構造為使透過所述波長可變單元的所述第一光能夠通過，對來自所述圖案的所述第二光進行分束，并且將分束的光引導到所述檢測單元。

7.根據權利要求4所述的測量設備，其中，所述強度特性信息是通過以下方式獲取的：使用所述移動單元將所述波長可變單元反復移動預定移動量，并且使用所述檢測單元來檢測所述第二光的強度。

8.根據權利要求4所述的測量設備，其中，所述強度特性信息是通過以下方式獲取的：使用所述移動單元將所述波長可變單元反復移動依據所述波長可變單元的位置而變化的移動量，并且使用所述檢測單元來檢測所述第二光的強度。

9.根據權利要求1所述的測量設備，

其中，所述波長可變單元包括第一部件和第二部件，所述第一部件使要透過的所述第一光的波長變化，所述第二部件不使要透過的所述第一光的波長變化，并且

其中，所述波長可變單元移動到基于所述強度特性信息和所述第一光在所述第一部件上的入射位置與所述第二部件之間的相對距離的位置，所述相對距離是基于透過所述第一部件的所述第一光的第一波長和透過所述第二部件的所述第一光的第二波長而獲得的。

10.根據權利要求1所述的測量設備，所述測量設備還包括分光檢測單元，所述分光檢測單元被構造為檢測透過所述波長可變單元的所述第一光的波長，

其中，所述波長特性信息是基于所述波長可變單元的位置和由所述分光檢測單元檢測到的波長而獲取的。

11.根據權利要求1所述的測量設備，所述測量設備還包括波長限制單元，所述波長限制單元被構造為將入射在所述波長可變單元上的所述第一光的波長帶限制到預定范圍，

其中，所述波長可變單元移動到基于強度特性信息的位置，所述強度特性信息表示所述波長可變單元的位置與來自用第一光照射的圖案的所述第二光的強度之間的關系，所述第一光具有由所述波長限制單元限制的波長帶并且已透過所述波長可變單元。

12.根據權利要求11所述的測量設備，其中，所述波長限制單元包括波長濾波器，所述波長濾波器在所述第一光入射到的表面中使波長變化到預定范圍內的波長。