[發明專利]一種測定水樣中土霉素的熒光分析方法在審
| 申請號: | 202210887584.3 | 申請日: | 2022-07-26 |
| 公開(公告)號: | CN115015209A | 公開(公告)日: | 2022-09-06 |
| 發明(設計)人: | 王治科;陳致杭;王雪源;陳凌云;王全坤;葉存玲;范順利 | 申請(專利權)人: | 河南師范大學 |
| 主分類號: | G01N21/64 | 分類號: | G01N21/64 |
| 代理公司: | 新鄉市平原智匯知識產權代理事務所(普通合伙) 41139 | 代理人: | 路寬 |
| 地址: | 453007 河*** | 國省代碼: | 河南;41 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 測定 水樣 中土 霉素 熒光 分析 方法 | ||
1.一種測定水樣中土霉素的熒光分析方法,其特征在于具體步驟為:
步驟S1:硫量子點的合成,在室溫條件下依次將4.80mL、0.10mol/L的硫代乙酰胺、8.50mL H2O和3.00mL PEG-400加入到反應容器中并攪拌混合均勻,再滴加3.70mL、3wt%的雙氧水進行充分混合,隨后于130℃攪拌反應4.5h制得硫量子點;
步驟S2:標準曲線的繪制,將1.00mL步驟S1得到的硫量子點與0.50mL、pH=7.0的BR緩沖溶液混合,再分別加入不同梯度濃度的土霉素溶液,定容4.00mL,混勻,于25℃反應30min,在λex=340nm下,分別測定空白溶液和土霉素存在時的熒光強度F0和F,計算△F=F0–F,土霉素濃度在0-40μM范圍內,△F與土霉素濃度之間呈現良好的線性關系,線性方程為:△F=8.5122C+3.0375,R2=0.9904,檢出限為1.27μM;
步驟S3:水樣中土霉素的檢測,將1.00mL步驟S1得到的硫量子點與0.50mL、pH=7.0的BR緩沖溶液混合,再加入待測水樣后定容至4.00mL,混勻,于25℃反應30min,在λex=340nm下,進行熒光強度的測定,根據測定的熒光強度并結合步驟S2得到的線性方程完成對待測水樣中土霉素的測定。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于河南師范大學,未經河南師范大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202210887584.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





