[發明專利]一種用于微小零件的專用型陰極平臺

在審

• 申請號: 202210883986.6
• 申請日: 2022-07-26
• 公開（公告）號: CN115287615A
• 公開（公告）日: 2022-11-04
• 發明（設計）人: 匡國慶
• 申請（專利權）人: 鎮江市德利克真空設備科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 鎮江基德專利代理事務所(普通合伙) 32306
• 代理人: 劉蘭

本發明涉及鍍膜設備技術領域，且公開了一種用于微小零件的專用型陰極平臺，解決了靶材厚度減小后，使得對柔性基材表面的鍍膜率降低，從而造成靶材浪費的問題，其包括底座，所述底座的頂端安裝有中部板，中部板的兩側對稱安裝有陰極體，陰極體的底端等距安裝于絕緣支架，陰極體的頂端開設有環形槽；本發明，在工作中，通過設置的齒條移動后，帶動轉塊轉動，而轉塊兩端的螺槽內部的螺桿內部開設有限位槽，限位板插接于限位槽內部，使得在轉塊轉動后，帶動螺桿橫向移動，繼而推動兩側的頂塊順著弧槽向上移動，從而將磁靴頂起，從而使得磁靴在靶材處的磁場增大，從而使得靶材對柔性基片的鍍膜能力提高，使得靶材表面濺射距離增加。

技術領域

本發明屬于鍍膜設備技術領域，具體為一種用于微小零件的專用型陰極平臺。

背景技術

真空鍍膜是一種在真空中制備膜層產生薄膜材料的技術，有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。其中濺射鍍膜是真空鍍膜中最主要的方法，該技術是在真空中利用荷能粒子轟擊靶表面，使被轟擊出的粒子沉積在基片上。在磁控濺射鍍膜工藝中，對磁控濺射鍍膜設備的質量要求很高，而在磁控濺射鍍膜設備中，磁場的設置尤為重要。目前普遍采用平面磁控濺射陰極(簡稱“平面陰極”)，平面陰極均是采用在磁靴中安裝磁鐵的方法來獲得加速磁場，而磁靴安裝于環形槽內，且其與環形槽固定連接。

當靶材厚度變小后，使得靶材與柔性基材之間距離增大，從而使得柔性基材表面鍍膜率降低，從而造成靶材浪費。

發明內容

針對上述情況，為克服現有技術的缺陷，本發明提供一種用于微小零件的專用型陰極平臺，有效的解決了靶材厚度減小后，使得對柔性基材表面的鍍膜率降低，從而造成靶材浪費的問題。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：一種用于微小零件的專用型陰極平臺，包括底座，所述底座的頂端安裝有中部板，中部板的兩側對稱安裝有陰極體，陰極體的底端等距安裝于絕緣支架，陰極體的頂端開設有環形槽，環形槽的內部安裝有磁靴，磁靴的內部安裝有磁鐵，環形槽的頂端安裝有第一壓板，第一壓板的頂端安裝有第二壓板，陰極體的內部安裝有調距機構。

優選的，所述調距機構包括橫向調節組件和縱向調節組件，其中橫向調節組件包括安裝于底座頂端的電機，電機的輸出軸頂端安裝有轉板，轉板的頂端安裝有第一固定桿，第一固定桿的外側轉動連接有轉桿，轉桿的一端轉動連接有第二固定桿，第二固定桿的底端安裝有連接桿，連接桿的一側對稱安裝有齒條，齒條插接于齒條槽內部，齒條槽開設于陰極體的內部。

優選的，所述縱向調節組件包括等距開設于陰極體內部的弧槽，縱向調節組件的內頂壁對稱安裝有固定環，固定環的內部安裝轉塊，轉塊的外壁等角度開設有齒槽，轉塊的兩側對稱開設有螺槽，螺槽的內部安裝有螺桿，螺桿的內部開設有限位槽，限位槽的內部插接有限位板，限位板的頂端與弧槽的內頂壁固定連接，螺桿的一側安裝有頂頭，頂頭的一側設有頂塊，頂塊對稱安裝于弧槽內部，其中一個頂塊的一側安裝有供氣調節機構。

優選的，所述齒條槽開設于齒槽下方，且齒條的頂端與齒槽嚙合連接。

優選的，所述弧槽呈半圓環狀，且弧槽的頂端貫穿至環形槽內部，頂塊與弧槽滑動連接，頂塊底端開設有斜面。

優選的，所述供氣調節機構包括安裝于其中一個頂塊一側的側桿，側桿的一側設有活動塊，活動塊插接于活動槽的內部，且活動槽等距開設于陰極體內部，活動塊的一側安裝有彈簧，活動塊的一側安裝有頂桿，頂桿貫穿至陰極體的外部，且彈簧套接于頂桿外部，頂桿的一端安裝有擋塊，擋塊插接于調節槽內部，調節槽的兩側對稱開設有連通槽，連通槽的頂端開設有出氣槽，出氣槽貫穿至中部板的外部。

優選的，所述連通槽的底端開設有進氣管槽，進氣管槽開設于中部板內部，且進氣管槽的兩端安裝有循環氣管。

優選的，所述連通槽呈方形槽道設置，且連通槽的寬度與擋塊的寬度相同，出氣槽傾斜開設。

優選的，所述側桿一端的延長線與弧槽的圓心相交，頂塊的頂端與弧槽的頂端相平齊。