[發明專利]發光裝置及其制造方法

在審

• 申請號: 202210870809.4
• 申請日: 2022-07-22
• 公開（公告）號: CN115050863A
• 公開（公告）日: 2022-09-13
• 發明（設計）人: 洪瑜亨;蔡維晟;黃耀緯;陳仕誠;郭浩中
• 申請（專利權）人: 鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: H01L33/00
• 分類號: H01L33/00;H01L33/04;G02B27/00
• 代理公司: 北京派特恩知識產權代理有限公司 11270
• 代理人: 康艷青;王琳

一種制造發光裝置的方法包括以下流程。形成發光元件。通過電子計算器執行超穎介面的模擬。基于前述模擬，形成超穎介面。放置超穎介面于發光元件的出光側上。通過電子計算器執行超穎介面的模擬包括以下流程。建立超穎介面的超穎介面模型，其中超穎介面模型具有多個單位晶胞，單位晶胞的多個相位補償值在偏折方向上以超晶胞周期長度周期性地分布。調整單位晶胞的相位補償值并設置出光波長的光源，以模擬超穎介面模型在不同的相位補償值下的多個穿透率。選定在穿透率的穿透率峰值下的相位補償值作為超穎介面的多個工藝參數。如此，能降低發光元件的出光能量損耗，提升最終整合裝置的效能。

技術領域

本發明有關于發光裝置及其制造方法。

背景技術

隨著顯示科技的進步，可以通過應用超穎介面控制或改進視覺效果。超穎介面能夠應用在發光元件上，能進一步實現對被動發光元件的出光光束調控，且超穎介面的尺寸可相近甚至低于發光元件的出光波長。舉例而言，組成超穎介面的超穎原子為次波長幾何結構。然而，若采用直接整合超穎介面于發光元件的手段，由于牽涉到超穎介面本身為小尺寸的結構，將影響到整合精準度與最終整合裝置的效能，甚至導致出光能量耗損。

因此，如何提供一種解決方案，能夠減緩發生于異質整合介面的強反射現象，降低發光元件的出光能量損耗，進一步提升最終整合發光元件與超穎介面的發光裝置的效能，是所屬領域技術人員所欲解決的課題之一。

發明內容

本發明的一態樣有關于一種制造發光裝置的方法。

根據本發明的一或多個實施方式，一種制造發光裝置的方法包括以下流程。形成發光元件。通過電子計算器執行超穎介面的模擬。基于前述模擬，形成超穎介面。放置超穎介面于發光元件的出光側上。通過電子計算器執行超穎介面的模擬包括以下流程。決定偏折方向與偏折角度。依據偏折角度與發光元件的出光波長，決定超穎介面在偏折方向上的超晶胞周期長度。建立超穎介面的超穎介面模型，其中超穎介面模型具有多個單位晶胞，單位晶胞的多個相位補償值在偏折方向上以超晶胞周期長度周期性地分布。調整單位晶胞的相位補償值并設置出光波長的光源，以模擬超穎介面模型在不同的相位補償值下的多個穿透率。選定在穿透率的穿透率峰值下的相位補償值作為超穎介面的多個工藝參數。

在本發明的一或多個實施方式中，形成的超穎介面進一步包括透明基材。超穎原子形成于透明基材上。放置超穎介面于發光元件的出光側上包括以下流程。異質接合超穎介面的透明基材至發光元件的出光側。

在本發明的一或多個實施方式中，單位晶胞以六角晶格周期性排列。

在本發明的一或多個實施方式中，每個單位晶胞包括超穎原子柱。超穎原子柱包括相同高度的多個正方柱或多個圓柱。單位晶胞的超穎原子柱分別產生單位晶胞的相位補償值。調整單位晶胞的相位補償值包括以下流程。調整超穎原子柱的多個寬度。

在本發明的一或多個實施方式中，當通過電子計算器執行超穎介面的模擬時，超晶胞周期長度從超穎介面模型的單位晶胞定義出相同的多個超晶胞。每個超晶胞包括第一單位晶胞以及多個從屬單位晶胞。第一單位晶胞具有第一相位補償值。多個從屬單位晶胞相對第一單位晶胞沿偏折方向等距地排列。從屬單位晶胞具有多個從屬相位補償值。相位補償值相對第一相位補償值沿偏折方向等差地增加。調整單位晶胞的相位補償值包括以下流程。針對每個超晶胞，調整第一單位晶胞的第一相位補償值，并且使得從屬單位晶胞的從屬相位補償值相應第一相位補償值調整。

本發明的一態樣有關于一種制造發光裝置的方法。

根據本發明的一或多個實施方式，一種制造發光裝置的方法包括以下流程。形成發光元件。形成超穎介面，其中超穎介面具有多個單位晶胞，每個單位晶胞具有相應相位補償值的超穎原子柱，這些超穎原子柱具有相同的高度與不同寬度，且這些超穎原子柱在偏折方向上超具有超穎介面的超晶胞周期長度的周期性，其中超晶胞周期長度由預定偏折角度與發光元件的出光波長所決定。接合超穎介面于該發光元件的出光側上。