[發明專利]滅弧裝置

在審

• 申請號: 202210848578.7
• 申請日: 2022-07-19
• 公開（公告）號: CN114974957A
• 公開（公告）日: 2022-08-30
• 發明（設計）人: 劉勇;白云飛;曹文宇;趙磊;徐艷春;葛鑫龍
• 申請（專利權）人: 沈陽二一三控制電器制造有限公司
• 主分類號: H01H9/44
• 分類號: H01H9/44;H01H9/30
• 代理公司: 遼寧共智律師事務所 21260
• 代理人: 袁軍偉

本申請涉及滅弧技術領域，公開了一種滅弧裝置。滅弧裝置包括：對稱設置的兩個滅弧機構，其中，每個滅弧機構包括：電弧抑制機構和柵格機構，其中，電弧抑制機構包括電弧容納空間，并且被配置為通過第二磁場將電弧引入電弧容納空間并且抑制電弧的擴大，其中，柵格機構包括柵格空間，并且被配置為通過第一磁場將電弧容納空間中的電弧引入柵格空間并且被配置為削弱柵格空間中的電弧。通過本申請，至少可解決現有的滅弧裝置存在的滅弧效果差的技術問題。

技術領域

本申請涉及滅弧技術領域，具體涉及一種滅弧裝置。

背景技術

與交流電相比，直流電不存在天然過零點。當切斷直流電時，在不借助外力的情況下，產生的直流電弧無法被熄滅。借助外力的方式通常選用磁吹滅弧方式。常規的直流接觸器的磁吹滅弧方式包括電磁線圈磁吹的方式與永磁磁吹的方式。電磁線圈磁吹的方式利用電磁線圈提供不穩定磁場，提供的磁場的強度與流經電磁線圈的電流成正比；當流經電磁線圈的電流小于一定程度時，磁場的強度也會弱到不足以用于吹弧，導致電弧熄滅時間延長，以及出現臨界電流現象。永磁磁吹的方式利用永磁體提供強度、方向恒定的穩定磁場，該磁場的強度不受電流大小所影響；在熄滅小電流的電弧時，電弧可能在該磁場的作用下飛離觸頭表面。

現有的直流接觸器可采用永磁磁吹的方式進行滅弧。為了讓電弧迅速離開觸頭表面，以減少電弧弧根在觸頭表面的停留時間，從而降低電弧對觸頭的燒灼損傷，通常將永磁體設置在觸頭附近。在這種情況下，隨著距離的增大，磁場強度將減小，從而導致在整個熄滅過程中電弧受到的磁吹力量會隨著時間的推移而下降。例如，在DC1500V以下電壓等級產品中可滿足需求，但是當應用于電壓等級超過DC1500V的產品時，由于產品內部需要更大的滅弧空間以進行滅弧，因此電弧需要在滅弧空間中行進得更遠、更長久，磁場強度顯著減弱將導致滅弧過程無法完成，即在滅弧過程中將出現電弧運動速度大幅下降甚至電弧停留，導致電弧熄滅時間較長甚至無法熄滅。由此可見，現有的滅弧裝置存在滅弧效果差的技術問題。

發明內容

本申請提供一種滅弧裝置，旨在至少解決現有的滅弧裝置存在的滅弧效果差的技術問題。

本申請一方面提供了一種滅弧裝置。該滅弧裝置包括：對稱設置的兩個滅弧機構，其中，每個滅弧機構包括：電弧抑制機構和柵格機構，其中，電弧抑制機構包括電弧容納空間，并且被配置為通過第二磁場將電弧引入電弧容納空間并且抑制電弧的擴大，其中，柵格機構包括柵格空間，并且被配置為通過第一磁場將電弧容納空間中的電弧引入柵格空間并且被配置為削弱柵格空間中的電弧。

可選的，每個柵格機構包括：柵片容納機構和多片滅弧柵片，滅弧裝置還包括對稱設置的兩塊第一永磁體和對稱設置的兩塊導磁極板，其中，對稱設置的兩塊導磁極板吸附在對應的第一永磁體上，其中，柵片容納機構包括間隔設置的多個柵格空間，每片滅弧柵片設置在對應的柵格空間內，對稱設置的兩塊導磁極板和對應的第一永磁體形成第一磁場，第一磁場的磁感線方向平行于柵格空間的延伸方向。

可選的，柵片容納機構為一體式結構，或者柵片容納機構包括對稱設置的兩片滅弧襯板并且柵格空間沿著垂直滅弧襯板的方向延伸。

可選的，滅弧裝置還包括：對稱設置的兩組靜觸頭、對稱設置的兩塊第二永磁體、設置在兩個滅弧機構之間的動觸頭和設置在兩個滅弧機構之間的動觸頭引弧板，其中，靜觸頭與動觸頭引弧板分別設置于動觸頭的兩側，每個電弧抑制機構包括：靜觸頭引弧板以及設置在動觸頭引弧板與靜觸頭引弧板之間的對稱的兩塊隔弧襯板，對稱的兩塊隔弧襯板、動觸頭引弧板以及靜觸頭引弧板形成電弧容納空間，導磁極板吸附在對應的第二永磁體上，對稱設置的兩塊導磁極板和對應的第二永磁體形成第二磁場。

可選的，每塊靜觸頭引弧板的一端與對應的靜觸頭的一端連接，每塊靜觸頭引弧板的另一端向對應的柵格機構延伸。

可選的，針對同一塊導磁極板，第一永磁體的與同一塊導磁極板吸附的一側同第二永磁體的與同一塊導磁極板吸附的一側具有相同的磁極。