[發明專利]滅弧裝置在審
| 申請號: | 202210848578.7 | 申請日: | 2022-07-19 |
| 公開(公告)號: | CN114974957A | 公開(公告)日: | 2022-08-30 |
| 發明(設計)人: | 劉勇;白云飛;曹文宇;趙磊;徐艷春;葛鑫龍 | 申請(專利權)人: | 沈陽二一三控制電器制造有限公司 |
| 主分類號: | H01H9/44 | 分類號: | H01H9/44;H01H9/30 |
| 代理公司: | 遼寧共智律師事務所 21260 | 代理人: | 袁軍偉 |
| 地址: | 110044 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 裝置 | ||
1.一種滅弧裝置,其特征在于,包括:對稱設置的兩個滅弧機構,其中,每個滅弧機構包括:電弧抑制機構和柵格機構,
其中,所述電弧抑制機構包括電弧容納空間,并且被配置為通過第二磁場將電弧引入所述電弧容納空間并且抑制所述電弧的擴大,
其中,所述柵格機構包括柵格空間,并且被配置為通過第一磁場將所述電弧容納空間中的電弧引入所述柵格空間并且被配置為削弱所述柵格空間中的電弧。
2.如權利要求1所述的滅弧裝置,其特征在于,每個所述柵格機構包括:柵片容納機構(5)和多片滅弧柵片(4),所述滅弧裝置還包括對稱設置的兩塊第一永磁體(6)和對稱設置的兩塊導磁極板(1),其中,對稱設置的兩塊所述導磁極板(1)吸附在對應的第一永磁體(6)上,
其中,所述柵片容納機構(5)包括間隔設置的多個柵格空間,每片所述滅弧柵片(4)設置在對應的柵格空間內,對稱設置的兩塊所述導磁極板(1)和對應的第一永磁體(6)形成所述第一磁場,所述第一磁場的磁感線方向平行于所述柵格空間的延伸方向。
3.如權利要求2所述的滅弧裝置,其特征在于,所述柵片容納機構(5)為一體式結構,或者所述柵片容納機構(5)包括對稱設置的兩片滅弧襯板并且所述柵格空間沿著垂直所述滅弧襯板的方向延伸。
4.如權利要求2所述的滅弧裝置,其特征在于,還包括:對稱設置的兩組靜觸頭(9)、對稱設置的兩塊第二永磁體(10)、設置在兩個所述滅弧機構之間的動觸頭(2)和設置在兩個所述滅弧機構之間的動觸頭引弧板(3),
其中,所述靜觸頭(9)與所述動觸頭引弧板(3)分別設置于所述動觸頭(2)的兩側,每個所述電弧抑制機構包括:靜觸頭引弧板(8)以及設置在所述動觸頭引弧板(3)與所述靜觸頭引弧板(8)之間的對稱的兩塊隔弧襯板(7),對稱的兩塊所述隔弧襯板(7)、所述動觸頭引弧板(3)以及所述靜觸頭引弧板(8)形成所述電弧容納空間,所述導磁極板(1)吸附在對應的第二永磁體(10)上,對稱設置的兩塊所述導磁極板(1)和對應的第二永磁體(10)形成所述第二磁場。
5.如權利要求4所述的滅弧裝置,其特征在于,每塊所述靜觸頭引弧板(8)的一端與對應的所述靜觸頭(9)的一端連接,每塊所述靜觸頭引弧板(8)的另一端向對應的所述柵格機構延伸。
6.如權利要求4所述的滅弧裝置,其特征在于,針對同一塊導磁極板(1),第一永磁體(6)的與所述同一塊導磁極板(1)吸附的一側同第二永磁體(10)的與所述同一塊導磁極板(1)吸附的一側具有相同的磁極。
7.如權利要求4所述的滅弧裝置,其特征在于,所述動觸頭引弧板(3)的中部與所述動觸頭(2)的延伸方向平行,所述動觸頭引弧板(3)的兩端彎折且向對應的所述柵格機構延伸。
8.如權利要求4所述的滅弧裝置,其特征在于,所述靜觸頭引弧板(8)的向對應的所述柵格機構延伸的一端的延伸方向與所述動觸頭(2)的延伸方向之間的夾角為銳角。
9.如權利要求4所述的滅弧裝置,其特征在于,所述靜觸頭(9)的與所述靜觸頭引弧板(8)連接的一端沿著與所述動觸頭(2)的延伸方向相平行的方向延伸。
10.如權利要求1所述的滅弧裝置,其特征在于,所述電弧容納空間包括:
收攏空間(11),被配置為對于在所述第二磁場作用下的電弧進行收攏;
窄縫空間(12),被配置為使得在所述第二磁場作用下的電弧向所述柵格機構移動。
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